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公开(公告)号:KR1019970030592A
公开(公告)日:1997-06-26
申请号:KR1019950040543
申请日:1995-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 픽 아암이 카세트로부터 웨이퍼를 핸들링하여 플랫 존 센서와 공정 챔버 사이인 플랫 존 확인위치로 이동시키고, 이 플랫 존 확인위치에서 웨이퍼의 플랫 존 위치를 확인하기 위해 웨이퍼를 소정의 속도로 회전시키는 오리엔터 구동방법에 관한 것으로, 상기 웨이퍼가 픽 아암의 고정부에 부딪칠때 공정 챔버의 대향측인 플랫 존 센서쪽으로 이동되도록 오리엔터의 회전방향을 설정하여 된 것이다.
따라서 웨이퍼가 플랫 존 센서에 걸려 오리엔터로부터 떨어지지 않게 되는 것이고, 이로써 웨이퍼가 깨지는 등의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1020000030992A
公开(公告)日:2000-06-05
申请号:KR1019980046768
申请日:1998-11-02
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: PURPOSE: An equipment for injecting ion for a semiconductor device is provided to easily handle a scanning Faraday assemble while attaching and detaching and to prevent an accident by using light weighted scanning Faraday assemble. CONSTITUTION: An equipment for injecting ion includes a chamber(10) for injecting ion beam to a wafer, a head(20) installed in the chamber for loading and unloading the wafer, a scanner installed in the chamber for scanning the ion beam irradiated to the wafer, a lead screw apparatus(30) installed on the exterior of the chamber for linearly reciprocating the scanner, and a scanning Faraday assemble(40) surrounding the lead screw apparatus for protecting the lead screw apparatus while being produced by plastic material. Therefore, the ion beam is inputted to the chamber to the wafer settled in the head for operating a diffusing process.
Abstract translation: 目的:提供一种用于半导体器件注入离子的设备,以便在安装和拆卸时轻松处理扫描法拉第组装,并通过使用轻重扫描法拉第组装来防止事故发生。 构成:用于注射离子的设备包括用于将离子束注入到晶片的腔室(10),安装在用于装载和卸载晶片的腔室中的头部(20),安装在腔室中用于扫描照射到 晶片,安装在用于使扫描仪直线往复运动的室的外部的丝杠装置(30)以及围绕丝杠装置的扫描法拉第组装(40),用于在用塑料材料制造时保护丝杆装置。 因此,将离子束输入到沉积在头部中的晶片,以操作漫射过程。
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公开(公告)号:KR100219401B1
公开(公告)日:1999-09-01
申请号:KR1019950049328
申请日:1995-12-13
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 패러데이컵에 장착된 웨이퍼에서 발생되는 2차전자를 억제할 수 있도록 하는 이온주입설비의 패러데이컵 어셈블리에 관한 것으로, 이는 바이어스 전원으로부터 패러데이전압이 인가되는 바이어스 플레이트를 바이어스 전원에 연결하여 패러데이전압이 바이어스 전원으로 피드백되도록 하고, 이 바이어스 전원은 패드백되는 패러데이전압의 레벨에 맞게 바이어스 플레이트에 인가되는 패러데이전압을 조절하는 한편, 패러데이전압을 모니터링할 수 있도록 구성되어서, 바이어스 플레이트에 공급되는 패러데이전압을 정확하게 조절하면서도 패러데이전압을 모니터링할 수 있는 것이다.
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公开(公告)号:KR1019990035585A
公开(公告)日:1999-05-15
申请号:KR1019970057409
申请日:1997-10-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 이온 주입 장치의 엔드스테이션 모듈(Endstation Module)에 관한 것으로, 로드 락 챔버에 넣어진 웨이퍼 카세트로부터 이온 주입 작업이 행해지는 작업 챔버 내에 설치된 구동판으로 웨이퍼를 이송하거나 그 역순의 이송 작업을 행하는 이송 수단의 안착부의 재질을 탄성 강도가 높은 금속인 텅스텐이나 몰리브덴 재질로 변경함으로써 안착부에 충돌이 일어난 경우에도 휘어짐이 발생하지 않도록 하고 웨이퍼 이송 작업의 효율을 높이는 것이다.
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公开(公告)号:KR1019990027992A
公开(公告)日:1999-04-15
申请号:KR1019970050531
申请日:1997-09-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F04D1/02
Abstract: 본 발명에 그리스 레벨 센서가 설치된 진공 펌프에 관한 것으로, 베어링의 윤활을 위하여 공급되는 그리스 양의 부족에 따른 펌핑 불량을 방지하기 위하여 상방향으로 흡입구가 형성되며, 좌우 방향으로 배기구가 설치된 원통형 몸체와; 흡입구로 흡입된 입자를 배기하기 위한 회전 원반을 포함하는 복수개의 원반과; 원반의 회전 원반에 결합되어 회전 원반을 회전시키는 회전축을 포함하는 모터와; 회전축의 일끝단에 결합되어 회전축을 지지하는 베어링과; 원통형 몸체의 하부에 설치되며, 베어링에 그리스를 공급하는 그리스 박스와; 그리스 박스의 하부에 설치되며, 그리스 박스로 그리스를 공급하는 오일 박스; 및 오일 박스의 외측에 오일 박스에 담긴 그리스 양을 체크하기 위해 설치된 그리스 레벨 센서;를 포함하는 진공 펌프를 제공한다.
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公开(公告)号:KR100161625B1
公开(公告)日:1999-02-01
申请号:KR1019950040543
申请日:1995-11-09
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 픽 아암이 카세트로부터 웨이퍼를 핸들링하여 플랫 존센서와 공정 챔버 사이인 플랫 존 확인위치로 이동시키고, 이 플랫 존 확인위치에서 웨이퍼의 플랫 존 위치를 확인하기 위해 웨이퍼를 소정의 속도로 회전시키는 오리엔터 구동방법에 관한 것으로, 상기 웨이퍼가 픽 아암의 고정부에 부딪칠 때 공정 챔버의 대향측인 플랫 존 센서쪽으로 이동되도록 오리엔터의 회전방향을 설정하여 된 것이다.
따라서 웨이퍼가 플랫 존 센서에 걸려 오리엔터로부터 떨어지지 않게 되는 것이고, 이로써 웨이퍼가 깨지는 등의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号:KR1019980065769A
公开(公告)日:1998-10-15
申请号:KR1019970000896
申请日:1997-01-14
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: F16K31/00
Abstract: 본 발명은 이온주입장치의 가스 박스(gas box)내에 설치된 에어 밸브(air valve)의 실질적인 개폐동작을 작업자가 확인할 수 있도록 에어 밸브에 개폐 감지센서를 부착하여 이 감지센서로부터의 감지신호에 따라 주제어부에서 에어 밸브의 동작상태를 디스플레이하도록 한 에어밸브 및 밸브 제어시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따르면 일측에 가스유입부가 형성되고 타측에 가스유출부가 형성되며 상기 가스유입부 및 유출부를 연통시키는 가스통로가 형성된 밸브몸체와; 일측에 공기주입구가 형성되고 상기 공기주입구로 유입되는 공기에 의해 상하이동하는 피스톤을 내포하는 실린더와; 상기 피스톤 상부면과 상기 상부면에 대향하는 상기 실린더의 내측면에 각각 양측이 고정된 코일스프링과; 상기 피스톤의 상하이동에 의한 상기 가스통로의 실질적인 개폐를 감지하기 위한 감지수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 에어밸브가 개시된다.-
公开(公告)号:KR1019970077173A
公开(公告)日:1997-12-12
申请号:KR1019960014752
申请日:1996-05-07
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/265
Abstract: 본 발명은 이온 주입 공정 중 벨자(Bell Jar)를 상·하 이송시키는 이송장치에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 이온 주입 설비의 벨자 이송장치의 사각나사와 암나사부에 발생한 마찰력을 감소시키는 이온 주입 설비의 벨자 이송장치를 제공함에 있다.
본 발명의 효과는 가이드 블록에 스파이럴형 강구홈을 형성하고 강구를 사각나사 피치사이와 강구홈에 위치시켜 강구의 점구름으로 마찰력을 극소화시켜 마찰로 인한 이송용 사각나사와 암나사부의 파손을 막음으로서 설비의 안전성을 향상시키는 효과가 있다.
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