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公开(公告)号：KR100414353B1
公开(公告)日：2004-01-07
申请号：KR1020010038974
申请日：2001-06-30
Applicant: 한국과학기술연구원
Inventor： 안효석 , 김충현 , 미쉬킨니콜라이케이. , 콤코브오레그와이. , 두브라빈안드레이엠.
IPC: G01N3/56
CPC classification number: G01N3/56 , G01N19/02 , G01N2203/0282 , G01N2203/0676 , G01N2203/0682
Abstract: A fine friction and wear test apparatus for a plate specimen comprises a fixing unit a driving unit installed on the fixing unit for fixing and moving a certain plate specimen, a ball specimen support member for rubbing and wearing the plate specimen, a rotation plate position controller fixed on the fixing unit for controlling the position of the ball specimen support member, a ball specimen controller for controlling the ball specimen support member, a controller for detecting the degree of a friction and wear of the plate specimen and controlling each mechanical and circuit part; and a power supply unit for supplying a power to a part which requires a certain power.
Abstract translation: 一种用于板试样的良好的摩擦和磨损试验装置包括：定影单元，安装在定影单元上用于固定和移动某个板试样的驱动单元，用于摩擦和磨损板试样的试样支撑构件，旋转板位置控制器 固定在用于控制球体试样支承部件的位置的固定部上;球体试样控制部，控制球体试样支承部件;控制部，检测板试样的摩擦磨损程度，控制各机械部分和电路部分 ; 以及用于向需要一定功率的部件供电的电源单元。
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公开(公告)号：KR100373185B1
公开(公告)日：2003-02-25
申请号：KR1020000071288
申请日：2000-11-28
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C25F1/00
Abstract: 본 발명은 원자현미경 등에 사용되는 팁을 제조하는 와이어의 에칭장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 와이어 에칭전압을 결정하는 전압신호를 생성 출력하고, 상기 전압신호에 따라 발생된 일정한 크기의 에칭전압을 인가시켜 상기 와이어를 1차로 에칭한 다음, 와이어가 1차로 에칭되는 동안 발생되는 에칭전류를 측정하고, 측정된 상기 에칭전류의 크기에 따라 상기 전압신호를 변경시켜 상기 에칭전압을 조절하여 상기 와이어를 2차로 에칭하기 때문에 곡률반경과 종횡비를 제어하여 팁을 제조할 수 있고, 팁의 제조 시 팁의 표면에 생성되는 산화물을 저감시킬 수 있으므로, 원자력현미경과 주사터널링현미경의 스캐닝 목적과 측정 시편의 특징에 따라 팁을 정밀하게 제조할 수 있는 효과를 제공한다.
Abstract translation: 用于蚀刻导线以将其制造成用于扫描探针显微镜等的尖端的装置和方法。 线蚀刻装置产生用于确定线蚀刻电压的电平的电压信号，并且将根据所产生的电压信号确定的电平的蚀刻电压施加到线以初步蚀刻它。 线蚀刻装置测量初次蚀刻过程期间产生的蚀刻电流的量，并根据测量的蚀刻电流量控制电压信号的电平，从而控制蚀刻电压的电平。 然后，该装置用电平控制的电压信号二次蚀刻导线。 因此，线蚀刻装置能够在控制其曲率半径和纵横比并减少其表面上的氧化物量的同时制造尖端。 这具有根据原子力显微镜或扫描隧道显微镜的扫描目的和要测量的样品的特征精确地制造尖端的效果。
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公开(公告)号：KR102251104B1
公开(公告)日：2021-05-13
申请号：KR1020190020412
申请日：2019-02-21
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본발명은보행중 좌측발바닥에서발생하는좌측지면반력신호를측정하는복수의좌측발바닥센서부; 보행중 우측발바닥에서발생하는우측지면반력신호를측정하는복수의우측발바닥센서부; 좌측지면반력신호와우측지면반력신호를수신하여연산하는연산부를포함하는보행분석장치로서, 연산부는, 좌측지면반력신호로부터보행방향에서의좌측압력중심의위치와비율을연산하고, 우측지면반력신호로부터보행방향에서의우측압력중심의위치와비율을연산하며, 보행방향에서의좌측압력중심의위치와비율및 우측압력중심의위치와비율을통합하여, 보행단계를구분하는보행분석장치에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101383059B1
公开(公告)日：2014-04-08
申请号：KR1020120080024
申请日：2012-07-23
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: A61H1/00 , A61B5/112 , A61H3/00 , A61H23/02 , A61H23/0263 , A61H2201/165 , A61H2201/5002 , A61H2201/5064 , A61H2201/5069 , A61H2201/5079 , A61H2201/5097
Abstract: 본 발명은 착용형 진동 자극 장치 및 그 작동 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는, 보행에 불편을 겪는 사람들의 보행을 보조하기 위한 착용형 진동 자극 장치 및 그 작동 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 착용형 진동 자극 장치는, 진동 자극 장치를 착용한 사용자의 신체 움직임에 관한 데이터를 획득하는 계측부; 정상적인 보행 패턴을 갖는 일반인들을 대상으로 측정하여 수집한 정상 보행 패턴 자료와 특정 사용자가 갖는 고유한 보행 패턴 분석 결과에 대한 정보를 저장하는 보행 패턴 데이터 베이스; 상기 계측부로부터 전달되는 사용자의 신체 움직임 정보를 상기 보행 패턴 데이터 베이스에 저장된 보행 패턴 자료와 비교 및 분석하여, 사용자의 특정 신체 부위에 인가할 자극 신호를 생성하는 제어부; 및 상기 제어부로부터 전달받은 자극 신호에 대응하여 사용자의 특정 신체 부위에 진동 자극을 가하는 가진부를 포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020120037702A
公开(公告)日：2012-04-20
申请号：KR1020100099320
申请日：2010-10-12
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: F16C41/004 , F16C27/04 , F16C35/07 , F16C39/06 , F16F13/26
Abstract: PURPOSE: A hybrid oilless damper bearing and a control device thereof are provided to make a stable operation possible because adding the rigidity and absorption of external impact are planned by changing a load pressure actuating on a bump structure in a rotary shaft and the rear part of a sliding bearing. CONSTITUTION: A hybrid oilless damper bearing comprises a housing(110), a sliding bearing(120), a bump structure(130), and a piezoelectric actuator(140). The housing is fixed to a rotary device to cover the outer circumference of a rotary shaft of the rotary device. The sliding bearing is installed inside of the housing and mounted in the outer circumference of the rotary shaft. The bump structure is arranged between the housing and the sliding bearing. The piezoelectric actuator is arranged along the inner circumference of the hosing between the housing and bump structure.
Abstract translation: 目的：提供一种混合无油阻尼器轴承及其控制装置，以使稳定运行成为可能，因为通过改变驱动旋转轴中的凸块结构的负载压力和后部的 滑动轴承。 构成：混合无油阻尼器轴承包括壳体（110），滑动轴承（120），凸块结构（130）和压电致动器（140）。 壳体被固定到旋转装置以覆盖旋转装置的旋转轴的外周。 滑动轴承安装在壳体的内部并安装在旋转轴的外周。 凸块结构设置在壳体和滑动轴承之间。 压电致动器沿着壳体和凸块结构之间的软管的内周布置。
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公开(公告)号：KR1020040089763A
公开(公告)日：2004-10-22
申请号：KR1020030023547
申请日：2003-04-15
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G01N19/00
Abstract: PURPOSE: A friction test apparatus is provided to analyze a frictional characteristic of micro-sized parts for a micro device by applying a minimum load of 0.005N and a minimum stroke of 10 micrometer. CONSTITUTION: A friction test apparatus includes a driving unit(20), a detecting unit, a load applying unit(30), a measurement unit(40) and a control unit. The driving unit(20) linearly moves a flat plate specimen(10). The detecting unit is provided on the driving unit(20) in order to measure a driving state of the driving unit(20). The load applying unit(30) applies load to a ball specimen(14) positioned at an upper portion of the flat plate specimen(10). The control unit controls the operation of the driving unit(20) and the load applying unit(30) by receiving measurement values from the detecting unit and the measurement unit(40).
Abstract translation: 目的：提供一种摩擦试验装置，通过施加0.005N的最小载荷和10微米的最小行程来分析微型装置的微尺寸部件的摩擦特性。 构成：摩擦试验装置包括驱动单元（20），检测单元，负载施加单元（30），测量单元（40）和控制单元。 驱动单元（20）使平板样本（10）线性移动。 检测单元设置在驱动单元（20）上，以便测量驱动单元（20）的驱动状态。 负荷施加单元（30）对位于平板样本（10）的上部的球状试样（14）施加负荷。 控制单元通过从检测单元和测量单元（40）接收测量值来控制驱动单元（20）和负载施加单元（30）的操作。
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公开(公告)号：KR1020030002220A
公开(公告)日：2003-01-08
申请号：KR1020010038974
申请日：2001-06-30
Applicant: 한국과학기술연구원
Inventor： 안효석 , 김충현 , 미쉬킨니콜라이케이. , 콤코브오레그와이. , 두브라빈안드레이엠.
IPC: G01N3/56
CPC classification number: G01N3/56 , G01N19/02 , G01N2203/0282 , G01N2203/0676 , G01N2203/0682
Abstract: PURPOSE: A micro-testing device is provided to allow a high precision control and continuous control for the size and cycle of loading applied for the analysis of friction and abrasion of the flat specimen. CONSTITUTION: A micro-testing device comprises a fixing unit(100) having a base(130) where a pair of first columns(110) and a pair of second columns(120) are coupled in a vertical direction; a driving unit having a stainless tube coupled in a horizontal direction to the fixing unit, and a flat specimen support(230) reciprocating in a horizontal direction by the operation of a first voice coil motor(220) coupled to an end of the stainless tube; a rotating plate position control unit having a rotating plate(320) coupled in a vertical direction to a coil motor which is coupled to second columns; a ball specimen support(400) having a ball specimen coupled to an end of a load plate which is coupled in a horizontal direction to the rotating plate, and a balancing weight coupled to the other end of the load plate; a ball specimen control unit(500) coupled to the top of the second column, which controls movement of the ball specimen support; a measurement unit(600) arranged on the fixing unit, which measures frictional force of the flat specimen by scanning light to a reflector mirror; and a power unit(700) arranged on the base, which supplies power to the driving unit, the rotating plate position control unit and the measurement unit.
Abstract translation: 目的：提供微型测试装置，以便对用于分析平板样品的摩擦和磨损的负载尺寸和循环进行高精度控制和连续控制。 构成：微型测试装置包括具有基座（130）的固定单元（100），其中一对第一列（110）和一对第二列（120）在垂直方向上联接; 驱动单元，其具有沿水平方向连接到所述定影单元的不锈钢管，以及通过联接到所述不锈钢管的端部的第一音圈马达（220）的操作在水平方向上往复运动的平坦的样本支架（230） ; 旋转板位置控制单元，其具有沿垂直方向联接到耦合到第二列的线圈电动机的旋转板（320）; 具有联接到负载板的端部的球试样支撑体（400），所述球形试样在水平方向上与所述旋转板联接，以及耦合到所述负载板的另一端的平衡重物; 联接到第二列的顶部的球形样品控制单元（500），其控制球样本支撑件的运动; 布置在所述定影单元上的测量单元（600），其通过将光扫描到反射镜来测量所述平坦样本的摩擦力; 以及布置在基座上的动力单元（700），其向驱动单元，旋转板位置控制单元和测量单元供电。
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公开(公告)号：KR1020020041619A
公开(公告)日：2002-06-03
申请号：KR1020000071288
申请日：2000-11-28
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C25F1/00
Abstract: PURPOSE: An apparatus for etching a wire and a method for etching the same are provided which controls a radius of curvature and an aspect ratio and reduces oxides on the surface of the wire with one time of etching process in etching the wire. CONSTITUTION: The apparatus for etching a wire comprises a signal generation part(10) producing voltage signals; a voltage generation part(20) generating an etching voltage according to the voltage signals of the signal generation part; an etching part(30) etching the wire by receiving the etching voltage of the voltage generation part; a current measurement part(40) measuring an etching current generated from the etching part; and a control part(50) changing the etching voltage by changing the voltage signals of the signal generation part(10) according to a magnitude of the etching current measured from the current measurement part(40). The method for etching the wire comprises a first step of producing and outputting voltage signals determining a wire etching voltage; a second step of first etching the wire by impressing the etching voltage having a certain magnitude generated according to the voltage signals to the wire; a third step of measuring an etching current generated while the wire is being first etched in the second step; a fourth step of changing the etching voltage by changing the voltage signals according to a magnitude of the etching current measured in the third step; a fifth step of second etching the wire by impressing the etching voltage changed in the fourth step to the wire; and a sixth step of finishing etching when the etching current measured in the fifth step is changed the same as or more than a certain current variation.
Abstract translation: 目的：提供一种用于蚀刻线材的设备及其蚀刻方法，其控制曲率半径和纵横比，并且在蚀刻线材时用一次蚀刻工艺减少线材表面上的氧化物。 构成：用于蚀刻线的设备包括产生电压信号的信号产生部分（10） 电压产生部（20），根据所述信号生成部的电压信号产生蚀刻电压; 蚀刻部件（30），通过接收所述电压产生部件的蚀刻电压来蚀刻所述导线; 电流测量部分，测量从蚀刻部分产生的蚀刻电流; 和通过根据从电流测量部分（40）测量的蚀刻电流的大小改变信号产生部分（10）的电压信号来改变蚀刻电压的控制部分（50）。 蚀刻线的方法包括：产生和输出确定线蚀刻电压的电压信号的第一步骤; 第二步骤，通过将具有根据电压信号产生的一定量值的蚀刻电压施加到导线上来第一次蚀刻线; 第三步骤，在第二步骤中测量在第一次蚀刻线材时产生的蚀刻电流; 通过根据在第三步骤中测量的蚀刻电流的大小改变电压信号来改变蚀刻电压的第四步骤; 第五步骤，通过将在第四步骤中改变的蚀刻电压施加到导线上来第二次蚀刻线; 以及当在第五步骤中测量的蚀刻电流改变等于或大于某一电流变化时，完成蚀刻的第六步骤。
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公开(公告)号：KR1019990015665A
公开(公告)日：1999-03-05
申请号：KR1019970037895
申请日：1997-08-08
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: F04C2/02
Abstract: 본 발명은 내부에서 치형을 갖는 제1 고정 내치차와, 상기 제1 고정 내치차의 회전 중심에 대해 편심 위치된 회전 중심을 갖고 상기 제1 고정 내치차의 치형과 맞물리는 외부 치형을 갖는 주회전체로 구성된 내접유성식 회전기구에 관한 것으로, 주회전체가 제2 내치차로서도 작용하도록 주회전체 내부에 치형을 가공하고, 주회전체의 내부 치형과 맞물리는 외부 치형을 구비하여 주회전체 내에 삽입되는 최종 회전체를 구성하여 이중의 내접 유성식으로 한 것이다. 최종 회전체는 상기 제1 고정 내치차의 회전 중심과 일치하는 회전 중심을 갖고 있어서 회전기구의 편심을 상쇄시키도록 되어 있다. 본 발명에 의한 이중 내접 유성식 회전기구에서는 주회전체의 편심 회전 운동이 최종 회전체에서 상쇄되므로, 편심 회전 운동의 전달에 필요한 드라이버 등의 매개 요소가 불필요하여 종래의 회전기구보다 주회전체의 회전을 고속화하는 것이 가능하며, 주회전체에서 최종 회전체로 운동을 전달하는 과정에서 회전 속도가 증가되기 때문에 종래의 회전기구에 비해 회전속도를 수배 증가시킬 수 있다. 또한, 최종 회전체와 출력축을 일체로 제작하는 것이 가능하므로 내접유성식 회전기구를 사용하는 장치의 구조를 단순화시킬 수 있다.
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