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公开(公告)号：KR101731073B1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：KR1020150170887
申请日：2015-12-02
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: G01N21/80 , B82Y30/00 , G01N21/251 , G01N21/78 , G01N27/12 , G01N27/126 , G01N31/22 , G01N31/224 , G01N33/4925 , G01N33/5014 , G01N33/5308 , G01N33/84 , Y10T436/172307
Abstract: 본발명은금 나노로드의식각(etching)에의한시안음이온(CN)의비색검출센서및 비색검출방법에관한것으로, 더욱상세하게는금 나노로드(AuNRs) 표면에개질제를붙이지않는비표지(label-free) 나노로드를사용하되, 나노로드의종횡비, pH 조건, 계면활성제의양 등을조절함으로써, CN에의해서만선택적으로식각되어색변화를일으킬수 있어, 독극물, 수질오염환경시료및 법적증거물시료등에함유되거나용해된 CN을간편하게검출할수 있으며, CN에대한선택성, 민감성및 정량성이우수하여활용가치가매우높은비색검출센서및 이를이용한비색검출방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明是一种氰化物阴离子（CN）UIBI颜色检测传感器，并且涉及一种比色检测方法，更具体地，未标记的（标签不通过杆金纳米的蚀刻（蚀刻）粘到改性剂到金纳米棒（AuNRs）的表面 -free），但使用的纳米棒，以及纳米棒的纵横比，pH条件下，例如通过控制表面活性剂的量，选择性地仅由CN蚀刻可引起的颜色变化，毒药，环境样品中的水的污染，和法律证据样品 可以包含或容易地检测CN熔化并等，以选择性，灵敏和定量yiwoosu使用相同的CN非常高的利用率值比色检测传感器和比色检测的方法。
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公开(公告)号：KR101549468B1
公开(公告)日：2015-09-03
申请号：KR1020130147415
申请日：2013-11-29
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C09D193/00 , C09D7/12 , B05D3/00
Abstract: 본발명은황금빛을나타내는천연수지인황칠을광 (전자빔, 감마선) 또는열 경화성단량체와배합하여, 라디칼반응이가능한황칠성분을가교된고분자사슬에화학적으로결합시키거나, 화학반응에참여가불가능한성분은물리적으로고분자그물망사이에고립시켜황칠의성질을유지하면서도, 경화시간단축, 내스크래치성, 내열성, 내용매성, 내염기성, 내산성등이우수한황칠고분자재료에관한것이다. 개발된광경화황칠고분자는우수한도막의성질뿐만아니라, 황칠색의농도를조율할수 있고, 경화시간을수분까지단축시킴으로공정의경제성을갖는다. 또한, 코팅공정이간단하여, 손잡이, 핸드폰, 아크릴제품, 유리용기, 손톱강화코팅소재, 화장품용기, 다기, 전자제품, 포장재, 식품및 보관용재료등에사용이가능하며, 은은한황금색은제품의고급화가요구되는곳에사용될수 있다.
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公开(公告)号：KR101146559B1
公开(公告)日：2012-05-25
申请号：KR1020100046553
申请日：2010-05-18
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G07D7/12 , G01N21/3563 , G01N21/88 , G01J3/28
Abstract: 분광법을 이용한 인주 및 서명 감식 방법을 개시한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 인주 감식 방법은, 인영(印影)의 배경에 대하여 분광 스펙트럼을 측정하는 단계와, 날인된 인영 부분에 대하여 분광 스펙트럼을 측정하는 단계와, 인영 부분의 분광 스펙트럼으로부터 배경의 분광 스펙트럼을 제거하여 인주(印朱)의 분광 스펙트럼을 구하는 단계와, 인주의 분광 스펙트럼에서 검색 키로 사용할 특징을 선택하는 단계와, 인주 샘플 스펙트럼 데이터베이스에서 검색 키에 대하여 미리 정해진 값 이상의 동등성 조건을 만족하는 인주 샘플 스펙트럼을 검색하는 단계 및 검색된 결과에 기반하여 동등성 조건을 만족하는 인주 샘플의 발견 여부 및 발견된 인주 샘플의 출처 정보를 출력하는 단계를 포함한다.
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公开(公告)号：KR100674532B1
公开(公告)日：2007-01-29
申请号：KR1020050016366
申请日：2005-02-28
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/203
CPC classification number: C23C14/205 , C23C14/345 , H05K1/0393 , H05K3/16
Abstract: 본 발명은 플라즈마 이온 주입에 의한 고분자 표면 위에 금속 박막을 증착하는 방법 및 이를 위한 장치에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 플라즈마를 발생시킨 후 금속 타겟에 음의 전압을 인가하여 스퍼터링시키고, 고분자 시료에 고전압 펄스를 인가하여 이온을 주입하는 방식으로 금속을 증착하는 것을 특징으로 하는 방법 및 장치를 제공한다.
본 발명에 따라 고분자 기판에 음의 펄스 전압을 가하여 플라즈마 이온 주입법과 금속 증착 방법을 융합하여 금속 박막을 증착하므로써 완만한 계면층을 형성하여 접착력을 향상시키는데 매우 효과적이다.
고분자, 접착력, 금속 박막, 형성 방법, 플라즈마, 고전압 펄스, 이온 주입-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100599358B1
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：KR1020040050017
申请日：2004-06-30
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C23C16/513
Abstract: 본 발명은 플라즈마 이온 주입 및 열처리에 의하여 금속으로 이루어진 입체구조 재료의 표면을 처리하여 표면의 소수성을 향상시키는 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 방법은 진공조 내에 위치한 전도성 시료대 위에 금속 시료를 위치시키는 단계, 진공조 내에 플라즈마원 기체를 도입하는 단계, 도입된 플라즈마원 기체로부터 플라즈마를 발생시키는 단계, 음의 고전압 펄스를 상기 금속 재료에 가하여, 플라즈마로부터 추출된 이온이 고에너지를 보유한 채 상기 시료의 표면에 주입되도록 하는 단계, 및 이온 주입 후 시료의 온도를 상승시켜 열처리하는 단계를 포함한다.
플라즈마 이온 주입, 열처리, 금속, 소수성, 입체 구조-
公开(公告)号：KR1020050027667A
公开(公告)日：2005-03-21
申请号：KR1020030064026
申请日：2003-09-16
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H03K3/543
Abstract: A high-power pulsed RF amplifier is provided to generate an RF output of high power as an RF output of low power by using an electrontube-semiconductor cascode circuit. A semiconductor switch(2) is connected to a cathode of an electrontube to constitute a cascode circuit. A power input member(13) applies a high voltage to an anode of the electrontube. A DC source input member(12) applies a DC power to plural auxiliary electrodes of the electrontube. A pulsed RF input member applies a pulsed RF driving power to the semiconductor switch. A pulsed RF output member(14) generates the pulsed RF output in the electrontube. An impedance matching member(15) controls impedance matching of the pulsed RF output.
Abstract translation: 提供了一种高功率脉冲RF放大器，通过使用电流 - 半导体共源共栅电路来产生高功率的RF输出作为低功率的RF输出。 半导体开关（2）连接到电子管的阴极以构成共源共栅电路。 电力输入构件（13）向电子管的阳极施加高电压。 直流电源输入部件（12）向电子管的多个辅助电极施加直流电力。 脉冲RF输入部件向半导体开关施加脉冲RF驱动功率。 脉冲RF输出构件（14）在电路中产生脉冲RF输出。 阻抗匹配构件（15）控制脉冲RF输出的阻抗匹配。
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公开(公告)号：KR100416715B1
公开(公告)日：2004-01-31
申请号：KR1020010009862
申请日：2001-02-27
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/265
Abstract: PURPOSE: An ion implantation method using pulse plasma is provided to effectively improve abrasion resistance and intensity of the surface of a sample, by applying a radio frequency(RF) pulse and a negative direct current(DC) high voltage to a plasma generating gas and by uniformly implanting ions into the surface of the sample. CONSTITUTION: The sample is positioned on a sample table(14) inside a vacuum bath(10). Gas to be transformed into plasma is supplied to the vacuum bath. An RF pulse is radiated to the gas. The negative DC high voltage is applied to the sample to implant plasma ions of a plasma state into the surface of the sample.
Abstract translation: 目的：通过向等离子体产生气体施加射频（RF）脉冲和负直流（DC）高电压，提供使用脉冲等离子体的离子注入方法以有效地提高样品表面的耐磨性和强度，以及 通过将离子均匀地注入样品表面。 组成：样品放置在真空槽（10）内的样品台（14）上。 被转化成等离子体的气体被提供给真空槽。 射频脉冲辐射到气体。 将负DC直流高电压施加到样本以将等离子体状态的等离子体离子注入到样本的表面中。
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公开(公告)号：KR100406459B1
公开(公告)日：2003-11-19
申请号：KR1020010039808
申请日：2001-07-04
IPC: C01B13/10
CPC classification number: C01B13/11 , C01B2201/90
Abstract: An ozone production rate control method and a device using dual frequency in an apparatus employing a silent discharge technique are provided. The method includes the steps of: generating a control signal for controlling the ozone production rate; creating, responsive to the control signal, an adjusted signal having an ON/OFF time ratio adjusted depending on the control signal; producing, responsive to the adjusted signal, a low-frequency pulse and a high-frequency signal; and controlling an ON/OFF time ratio of the high-frequency signal. The device includes an ON/OFF time ratio adjusting unit, a low-frequency pulse oscillation circuit, a high-frequency oscillation circuit, and a multiplier.
Abstract translation: 提供了一种在采用无声放电技术的设备中使用双频的臭氧生成速率控制方法和装置。 该方法包括以下步骤：产生用于控制臭氧产生速率的控制信号; 响应于控制信号，产生具有取决于控制信号而调节的开/关时间比的调节信号; 响应于调节后的信号产生低频脉冲和高频信号; 并控制高频信号的开/关时间比。 该装置包括开/关时间比调节单元，低频脉冲振荡电路，高频振荡电路和乘法器。
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公开(公告)号：KR1020030003951A
公开(公告)日：2003-01-14
申请号：KR1020010039821
申请日：2001-07-04
IPC: C01B13/11
CPC classification number: C01B13/115 , C01B3/382 , C01B2201/12 , C01B2201/90
Abstract: PURPOSE: An apparatus for generating high concentration ozone is provided to generate high concentration ozone at a high efficiency and linearly control concentration of ozone generated. CONSTITUTION: In an ozone generating apparatus capable of linearly controlling concentration of ozone generated, the apparatus for generating high concentration ozone comprises a means for providing with oxygen(218); a means for generating ozone by impressing electric discharge to the gas flown in from the gas providing means; a means that is used in the electric discharge and provides with first pulse signal in which an on-off time ratio is controlled; and a conversion means which is electrically connected to an ozone generating means(104) and the pulse providing means and provides the ozone generating means with the signal level converted from the first pulse by converting the first pulse from the pulse signal providing means into a preset signal level, wherein the apparatus further comprises a control signal generating means(114) which is electrically connected to the pulse signal providing means and generates control signals for controlling the on-off time ratio of the first pulse signal, and the ozone generating means(104) comprises one or more upper and lower electrodes(204,210) which are oppositely directed to each other and generate voltage discharge; insulating materials(202,208) which are flatly formed on one side surface of each of the upper and lower electrodes; and cooling means(206,212) which are formed adjacently to one side surface of each of the upper and lower electrodes(204,210), wherein the upper electrodes are electrically connected to the conversion means so that the first pulse signal is impressed to the upper electrodes, and the lower electrodes are grounded.
Abstract translation: 目的：提供一种产生高浓度臭氧的设备，以高效率产生高浓度臭氧，并线性控制产生的臭氧浓度。 构成：在能够线性控制产生的臭氧浓度的臭氧发生装置中，用于产生高浓度臭氧的装置包括提供氧气的装置（218）; 用于通过向从气体提供装置流入的气体施加放电来产生臭氧的装置; 在放电中使用的装置，并提供控制开关时间比率的第一脉冲信号; 以及电连接到臭氧发生装置（104）和脉冲提供装置的转换装置，并且通过将来自脉冲信号提供装置的第一脉冲转换成预设的第一脉冲，为臭氧发生装置提供从第一脉冲转换的信号电平 信号电平，其中，所述装置还包括电连接到所述脉冲信号提供装置的控制信号发生装置（114），并且产生用于控制所述第一脉冲信号的开关时间比的控制信号，以及所述臭氧发生装置 104）包括彼此相对地指向并产生电压放电的一个或多个上电极和下电极（204,210）; 绝缘材料（202,208），其平坦地形成在上部和下部电极中的每一个的一个侧表面上; 以及与所述上下电极（204,210）中的每一个的一个侧表面相邻形成的冷却装置（206,212），其中所述上电极与所述转换装置电连接，使得所述第一脉冲信号施加到所述上电极， 并且下电极接地。
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