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公开(公告)号：KR1020180089199A
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：KR1020170014023
申请日：2017-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: C01B33/021 , C01B33/18
CPC classification number: C01B33/021 , C01B33/18 , C01P2004/03 , C01P2004/34 , C01P2004/62 , C01P2004/64
Abstract: 본발명은, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것으로, 실리콘및 실리카를포함하는쉘; 을포함하고, 상기실리콘대 실리카는, 1:0.01 내지 0.5 (질량비)인것인, 중공실리콘입자및 이의제조방법에관한것이다. 본발명은, 실리카를도입하여중공실리콘입자의제조공정및 제조비용을개선시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170094697A
公开(公告)日：2017-08-21
申请号：KR1020160015801
申请日：2016-02-11
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: B29C39/02 , B29C33/38 , B29C33/42 , B29D7/01 , G03F7/00 , G02B5/00 , C23C14/35 , C23C14/10 , B05D1/18
Abstract: 본발명은시야각제한필름제조방법에관한것이다. 보다상세하게는감광성재료소재의몰드를제조한후 이를이용하여투명성을갖는시야각제한필름을간편하게제조할수 있는시야각제한필름제조방법에관한것이다. 본발명은 (a) 기판상에포토레지스트층을형성하는단계; (b) 상기포토레지스트층을미리결정된패턴에따라노광시키는단계; (c) 미리결정된횟수에따라상기 (a) 및 (b) 단계를반복수행하여상기기판상에적층되며각각미리결정된패턴에따라노광이이루어진복수개의포토레지스트층을형성하는단계; (d) 상기복수개의포토레지스트층 각각을현상하여상기기판상에패턴구조체를형성하는단계; (e) 상기패턴구조체노출면상에투명성을갖는광학부재를도포한후 상기광학부재를경화하는단계; 및 (f) 상기경화된광학부재와상기패턴구조체를분리하는단계를포함하는것을특징으로한다. 본발명에의하면형이아닌포토레지스트의일종이자필름형태의감광성도포물질인 DFR(Dry Film Resist)에대한형상제어에의해제조되는몰드를기반으로시야각제한필름을제조할수 있어시야각제한필름의제조비용을절감할수 있는효과를갖는다.
Abstract translation: 制造视角限制膜的方法技术领域本发明涉及制造视角限制膜的方法。 更具体地说，一种生产视角，可以很容易通过使用此，在制造的感光材料膜材料限制的模具之后制造具有视角限制膜透明度的方法。 （A）在衬底上形成光刻胶层; （b）根据预定图案曝光光致抗蚀剂层; 根据所确定的数目提前（C）是通过重复执行步骤（a）和（b）形成的多个光致抗蚀层曝光的是按照每个预定图案由堆叠在所述基板上; （d）将多个光致抗蚀剂层中的每一个显影以在衬底上形成图案结构; （e）在图案结构的暴露表面上施加具有透明性的光学构件，然后固化光学构件; （f）将图案化结构与固化的光学构件分离。 比本发明的类型和在DFR的光敏涂层材料的形式的膜，根据光致抗蚀剂的类型（干膜抗蚀剂），它可以制造基于所述模具中的视场角限制膜通过视图限制膜的场的生产成本的形状控制产生 可以保存。
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公开(公告)号：KR101689153B1
公开(公告)日：2016-12-23
申请号：KR1020150013472
申请日：2015-01-28
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/033 , H01L21/027
Abstract: 본발명은재사용이가능하고공정방식에따른사용제한이없는나노쉐도우마스크를제조하는방법에관한것으로, 기판표면에희생층을형성하는단계; 상기희생층위에폴리머막을형성하는단계; 상기폴리머막에집속이온빔으로나노패턴을형성하는단계; 및상기희생층을제거하는방법으로상기나노패턴이형성된폴리머막을상기기판에서분리하여나노쉐도우마스크를제조하는단계를포함하는것을특징으로한다. 본발명은, 집속이온빔을이용하여나노패턴을형성한쉐도우마스크를전사하여사용함으로써, 패턴의크기및 형상의제어가편리한집속이온빔장치로마스크를제조하여증착공정의종류에무관하게적용이가능한쉐도우마스크를제조할수 있는효과가있다. 또한, 쉐도우마스크의손상없이전사함으로써재전사가가능하기때문에서, 반복적인증착공정에하나의쉐도우마스크를재전사하여사용할수 있는효과가있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种纳米图案阴影掩模的制造方法，其可重复使用，并且不管使用方法如何，都不受限制。 该方法包括：在衬底的表面上形成牺牲层; 在牺牲层上形成聚合物层; 通过使用聚焦离子束在聚合物层上形成纳米图案; 并且去除牺牲层以将具有纳米图案的聚合物层与基底分离，由此制造纳米图案化的荫罩。 由于本发明被配置为传送和使用具有由聚焦离子束形成的纳米图案的荫罩，所以具有能够以能够容易地控制尺寸的聚焦离子束系统制造荫罩的效果 和图案的形状，因此可以使用荫罩，而不管沉积工艺的类型如何。 此外，转印是可能的，而不会对荫罩造成损害，因此可以在沉积工艺中重复使用一个荫罩。
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公开(公告)号：KR1020150138943A
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：KR1020140065966
申请日：2014-05-30
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: G02B5/02
CPC classification number: G02B5/021 , G02B1/04 , G02B5/0242 , G02B5/0278 , G02B6/003 , G02F1/133504 , G02F1/133526
Abstract: 본발명은백라이트(Back Light Unit: BLU)용광학시트에관한것으로, 구체적으로광학특성향상을위한광학시트의구조및 광학시트의제작방법에관한것이다. 발수코팅된파우더를이용하여형성되는포토레지스트패턴층; 상기포토레지스트패턴층의상부에형성되는평탄화층; 및상기평탄화층의상부에형성되는마이크로-렌즈형태의패턴층을포함하는본 발명의일 실시예에따른광학시트가개시된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于背光单元（BLU）的光学片。 特别地，本发明涉及一种用于改善光学特性的光学片结构及其制造方法。 根据本发明实施例的光学片包括通过使用防水涂层粉末形成的光致抗蚀剂图案层; 形成在光致抗蚀剂图案层的上部的平坦化层; 以及形成在平坦化层的上部的微透镜型图案层。
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公开(公告)号：KR1020150111531A
公开(公告)日：2015-10-06
申请号：KR1020140034804
申请日：2014-03-25
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본발명은금속패턴형성방법에관한것으로서, 구체적으로는반도체의포토리소그래피(photo lithography) 공정에있어금속막의식각을위한에칭(etching) 공정을생략한간소화된금속패턴형성방법에관한것이다. 본발명의실시예에따르면, 반도체의포토리소그래피(photo lithography) 공정에있어에칭(etching) 공정을생략함으로써, 에칭공정에수반되는환경유해물질의배출을억제하여친환경적금속패턴형성공정을구현할수 있고나아가공정절차의단순화를통해대량생산에유리할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成金属图案的方法，具体地说，涉及通过省略用于蚀刻半导体的光刻工艺的金属膜的蚀刻工艺而简化的金属图案的形成方法。 根据本发明的一个实施方案，该方法能够通过抑制在腐蚀过程中伴随着对环境有害的物质的排出，并且通过简单的生产大量地进行形成金属图案的环保工艺 通过省略关于半导体的光刻工艺的蚀刻工艺。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101524365B1
公开(公告)日：2015-06-05
申请号：KR1020130125243
申请日：2013-10-21
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본발명은다기능성봉지막을갖는플렉서블 OLED에관한것으로서, 박막기판과양전극, 정공층, 발광층, 전자층및 음전극을구비하는플렉서블 OLED와, 박막기판의양전극에대향하는측에서박막기판에증착되는산화물막과, 산화물막의상부에형성되는광학패턴층과, 광학패턴층의상부에형성되며광학패턴층을보호하는무기물박막층을포함하고, 산화물막은 MgO와 LaO가혼합된혼합박막또는 MgO층과 LaO층이교대로적층된다층박막이고, 혼합박막또는다층박막은전자빔증착법, 듀얼전자빔증착법, 화학기상증착법, 물리기상증착법중 어느하나에의해증착되는것을특징으로하며, OLED의박막기판에수화특성이좋은산화물막을형성함으로써수분투과에의해소자의수명이감소하는현상을방지할수 있고, 수분투과를방지함과동시에광학특성을향상시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR1020140140675A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：KR1020130061049
申请日：2013-05-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F1/80 , H01L21/02104
Abstract: 본 발명은 금속 패턴 형성 방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 반도체의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정에 있어 금속 막의 식각을 위한 에칭(etching) 공정 및 포토 레지스트(Photo Resist: PR) 제거 공정을 생략한 금속 패턴 형성 방법에 관한 것이다.
본 발명의 실시예에 따르면, 반도체의 포토 리소그래피(photo lithography) 공정에 있어 에칭(etching) 공정 및 포토 레지스트(Photo Resist: PR) 제거 공정을 생략함으로써, 에칭 공정에 수반되는 환경 유해 물질의 배출을 억제하여 친환경적 금속 패턴 형성 공정을 구현할 수 있고 나아가 공정 절차의 단순화를 통해 대량 생산에 유리할 수 있다. 또한, 상기 포토 레지스트 패턴 구조물을 별도로 제거하지 않고 위 포토 레지스트 패턴 구조물을 금속 패턴의 절연 재료로 활용함으로써 간편한 방식으로 금속간 절연효과가 우수한 패턴을 형성할 수 있다.Abstract translation: 本发明涉及一种形成金属图案的方法，更具体地，涉及一种形成金属图案的方法，其中用于蚀刻金属层的蚀刻工艺和光致抗蚀剂（PR）去除工艺的蚀刻工艺， 省略了半导体的光刻工艺。 根据本发明的一个实施例，通过省略用于蚀刻金属层的蚀刻工艺和半导体的光刻工艺中的光刻胶（PR）去除工艺，排出伴随腐蚀工艺的环境有害材料 被抑制，因此可以实现环保金属成形工艺，并且可以通过简化工艺程序在批量生产中有利。 此外，通过利用光刻胶图案结构作为金属图案的绝缘材料，而不需要单独去除光致抗蚀剂图案结构，可以通过方便的方案形成具有优异金属之间绝缘性能的图案。
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公开(公告)号：KR101348010B1
公开(公告)日：2014-01-08
申请号：KR1020120028032
申请日：2012-03-20
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/28
Abstract: 본 발명은 기판에 금속 전극 씨드층(seed layer)을 형성하는 방법 및 이에 의해 제조된 기판에 관한 것으로서, 구리와 크롬을 상기 기판상에 증착하여 상기 씨드층을 형성하며, 기판의 표면에 접하는 부분에는 크롬의 혼합비율이 구리의 혼합비율보다 많고, 씨드층의 상부 부분으로 갈수록 구리의 혼합비율이 점차 증가되도록 상기 씨드층의 두께 방향을 따라 구리와 크롬의 조성비율이 점차 변화되도록 증착하고, 씨드층의 두께 방향에 따른 구리와 크롬의 조성비율은 구리타겟과 크롬 타겟에 인가되는 구동전압의 세기 또는 전류량의 제어에 의해 변화되고, 상기 구리타겟에는 RF파워가 인가되고, 상기 크롬 타겟에는 DC파워가 인가되고, 시간의 경과에 따라 구리타겟에 인가되는 RF파워는 일정하게 유지하고 크롬 타겟에 인가되는 DC파워는 점차 감소하도록 제어하여, 기판상에 금속 씨드층을 형성하는데 있어서 여러 층의 멀티레이어 증착 공정을 이용하지 않음으로써, 증착된 전극의 두께가 감소하고, 타겟의 교체를 하지 않음으로써 제조 시간 및 제조 비용을 감소시킬 수 있어 공정을 단순화 시킬 수 있으며, 접착력이 우수한 금속 씨드층을 형성할 수 있ㄱ고, 증착된 기판의 상부 표면을 열처리하여 금속 박막층과 기판 간의 접착력 향상을 위한 별도의 접착층을 제거할 수 있게 된다.
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公开(公告)号：KR101148457B1
公开(公告)日：2012-05-25
申请号：KR1020110009302
申请日：2011-01-31
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/0412 , B32B33/00 , B32B2457/208 , G06F2203/04103 , H05B33/14
Abstract: PURPOSE: An integrated type optical key touch module and a manufacturing method thereof are provided to supply touch sensitivity by reacting minute current flow when a user touches. CONSTITUTION: A touch electrode(12) is formed to the upper side of a substrate. An EMI(Electromagnetic Interference) shield(13) is formed to the lower side of the substrate. An EL(Electroluminescence) transparent electrode(14) is formed to the lower side of the EMI shield. A fluorescent material layer(15) is formed in the lower side of the EL transparent electrode. A dielectric layer(16) is formed to the lower side of the fluorescent material layer.
Abstract translation: 目的：提供一种集成型光学按键触摸模块及其制造方法，用于通过在用户触摸时使微小电流流动而提供触摸灵敏度。 构成：在基板的上侧形成有触摸电极（12）。 EMI（电磁干扰）屏蔽层（13）形成在衬底的下侧。 在EMI屏蔽的下侧形成EL（电致发光）透明电极（14）。 荧光材料层（15）形成在EL透明电极的下侧。 介电层（16）形成在荧光材料层的下侧。
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公开(公告)号：KR1020110096846A
公开(公告)日：2011-08-31
申请号：KR1020100016342
申请日：2010-02-23
Applicant: 삼성전자주식회사 , 한국산업기술대학교산학협력단
CPC classification number: H05B33/06 , H05B33/10 , Y10T156/1056
Abstract: 무기 전계 발광 소자 및 그 제조 방법이 개시된다.
개시된 무기 전계 발광 소자는, 기판 상에 서로 이격되게 배열된 복수 개의 세그먼트 전극과, 형광체층 및 유전체층을 포함하고, 복수 개의 세그먼트 전극마다 전압을 인가하여 on-off 제어를 할 수 있다.
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