公开(公告)号：KR1020000065562A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990011966

申请日：1999-04-07

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: G03F7/207

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B17/08 ,  G02B27/0075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

Abstract: PURPOSE: A method for controlling an extension scope of a focus depth in an optical system using a double refraction material is provided to extend a depth of a focus by having an image of the optical system focused in different positions in an optical axis direction, and to control a position of the image by a simple manipulation of optical parts in the optical system. CONSTITUTION: In an optical system of an exposure equipment for forming a fine shape by focusing an image of an original mask on a photoresist layer applied on a substrate, parts forming the optical system is composed of penetrating optical parts made of a double refraction material or an optical unit composed of a combination of the penetrating optical parts. A depth of a focus is extended by having the image focused in different positions in an optical axis direction. And, the scope of the focus is controlled and maintained.

Abstract translation: 目的：提供一种用于控制使用双折射材料的光学系统中的聚焦深度的扩展范围的方法，以通过使光学系统的图像在光轴方向上聚焦在不同位置来延长焦点的深度，以及 以通过简单地操纵光学系统中的光学部件来控制图像的位置。 构成：在用于通过将原始掩模的图像聚焦在施加在基板上的光致抗蚀剂层上形成微细形状的曝光设备的光学系统中，形成光学系统的部件由穿透光学部件组成，由双折射材料制成， 由穿透光学部件的组合构成的光学单元。 通过使图像在光轴方向上聚焦在不同位置来扩大焦点的深度。 并且，重点的范围得到控制和维护。

公开(公告)号：KR1020000037779A

公开(公告)日：2000-07-05

申请号：KR1019980052528

申请日：1998-12-02

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  차한선 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a diaphragm for an exposure equipment is provided to maintain the resolution and improve the light transmitting degree. CONSTITUTION: A first resist pattern is formed in a selected area on a substrate. A first optical shielding material is formed on the substrate, which includes the first resist pattern. After the first resist pattern is removed, a second resist is formed on the structure. Then, the central portion of the second resist is removed. After a second optical shielding material is formed on the structure, the second resist is removed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造用于曝光设备的隔膜的方法以保持分辨率并提高透光度。 构成：在衬底上的选定区域中形成第一抗蚀剂图案。 第一光屏蔽材料形成在包括第一抗蚀剂图案的基板上。 在去除第一抗蚀剂图案之后，在结构上形成第二抗蚀剂。 然后，除去第二抗蚀剂的中心部分。 在结构上形成第二光屏蔽材料之后，去除第二抗蚀剂。

公开(公告)号：KR100211068B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019960069278

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/10

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광학계용 비접촉식 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단 렌즈의 위치와 기울기 오차를 비접촉식으로 효과적으로 측정하며, 상기 오차를 보상할 수 있는 수단을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
장치 하부에 배치되어 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 집속시켜 광학계 상부에 정렬된 단렌즈 표면에 결상시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 상기 광원 사이에 배치되며, 두개의 프리즘으로 구성되어, 반사된 상기 단렌즈 표면의 상기 결상을 단렌즈의 광축과 직각 방향으로 전환시켜 조사하는 광속분할기; 상기 광속분할기로부터 조사된 광 결상의 광량 및 위치를 측정하는 검지부; 상기 구성품을 소정 위치에 지지 고정하는 가대; 및 상기 가대에 연결되어 그의 상하 변위를 측정하는 거리 측정부를 포함하여 이루어진 광학계용 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
상기와 같이 구성된 본 발명은 다수의 렌즈로 구성된 정밀 광학계의 조립에 용이하게 적용될 수 있으며, 구성 렌즈와 접촉 없이도 상기 렌즈들의 정점 위치 및 기울기를 효율적으로 측정할 수가 있다.

公开(公告)号：KR100205064B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019950052643

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 차광부를 지닌 리소그래피 광학계용 웨이퍼 자동촛점장치 및 자동촛점방법에 관한 것이다. 본 발명의 웨이퍼 자동촛점장치는 주 광학계(110) 내부에 존재하는 차광영역(102)에 TTL방식으로 배치되고 편광 광분할기(103), λ/4 판(104,105) 및 반사거울(106)로 이루어진 광학소자와; 주 광학계(101)의 외부에 배치되고 두개의 주파수가 상호직각 편광성분으로 이루어진 지만 레이저광을 방출하는 지만 레이저(107)와; 전기한 지만 레이저(17)로부터 방출된 지만 레이저 광을 분할하기 위한 광분할기(108)와; 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 선편광자(109)를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 기준신호(111)와, 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 주 광학계(101) 내부로 입사된 레이저광이 전기한 광학소자를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 기준신호(111)와, 전기한 광분할기(108)에 의해 분할되어 주 광학계(101) 내부로 입사된 레이저광이 전기한 광학소자를 거쳐 웨이퍼(120)에서 반사된 반사광 및 전기한 광학소자의 반사거울(106)에서 반사된 기준광이 선편광자(109)를 거쳐 광검출기(110)에 의해 검출된 웨이퍼 위치신호(112)를 레이저 간섭계를 통한 웨이퍼의 거리를 적절한 신호처리 회로를 통해 읽어냄으로써 초점 벗어남을 비교계산하여 웨이퍼 위치정보를 출력하기 위한 신호처리계(113) 및 주연산기(114); 및 전기한 신호처리계(113) 및 주연산기(114)로부터의 웨이퍼 위치정보에 따라 웨이퍼 스테이지(121)를 구동하여 웨이퍼(120)를 주 광학계(101)의 촛점심도 내에 위치시키기 위한 스테이지 제어기(115)로 구성된다.

公开(公告)号：KR1019980050455A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960069278

申请日：1996-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/10

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광학계용 비접촉식 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단 렌즈의 위치와 기울기 오차를 비접촉식으로 효과적으로 측정하며, 상기 오차를 보상할 수 있는 수단을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
장치 하부에 배치되어 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 집속시켜 광학계 상부에 정렬된 단렌즈 표면에 결상시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 상기 광원 사이에 배치되며, 두개의 프리즘으로 구성되어, 반사된 상기 단렌즈 표면의 상기 결상을 단렌즈의 광축과 직각 방향으로 전환시켜 조사하는 광속분할기; 상기 광속분할기로부터 조사된 광 결상의 광량 및 위치를 측정하는 검지부; 상기 구성품을 소정 위치에 지지 고정하는 가대; 및 상기 가대에 연결되어 그의 상하 변위를 측정하는 거리 측정부를 포함하여 이루어진 광학계용 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
상기와 같이 구성된 본 발명은 다수의 렌즈로 구성된 정밀 광학계의 조립에 용이하게 적용될 수 있으며, 구성 렌즈와 접촉 없이도 상기 렌즈들의 정점 위치 및 기울기를 효율적으로 측정할 수가 있다.

公开(公告)号：KR1019980047266A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：KR1019960065742

申请日：1996-12-14

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  권진혁 ,  우경철 ,  김도훈 ,  정해빈

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 ArF 엑시머 레이저를 광원으로 하는 스텝 및 스캔(Step Scan)형 반도체 노광장비에 있어서 회로 패턴을 담고 있는 레티클과 웨이퍼를 TTL(Through The Lens)방식으로 직접 정렬하는 광학 시스템에 관한 내용으로서, 홀로그라피(holography) 방식에 의한 위상공액파(phase conjugate wave)를 발생시켜 노광 광원과 정렬광원의 색수차를 보정하는 방법을 제시하고, ArF 엑시머 레이저를 노광 광원으로 사용하는 웨이퍼 스텝퍼에서 레티클과 웨이퍼의 위치를 직접 정렬하는 TTL 정렬방법을 제시한다.

公开(公告)号：KR1019970048636A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950052657

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: G02B27/00

Abstract: 본 발명은 모아레 무늬를 이용한 광학계 성능 측정장치 및 측정방법에 관한 것이다.
본 발명의 광학계 성능 측정장치는 기준격자(1)와, 시편격자(2)와, 조명광원(3)과, 광검출기(5)와, 로타리 스테이지(6)를 포함한다.
아울러, 본 발명의 광학계 성능 측정방법은, 광학계의 상 위치에 기준격자(1)을 광축에 수직되게 위치시키는 단계; 시편격자(2)를 광학계(4)의 물체위치에 위치시키는 단계; 조명광원(3)을 비추어 시편격자(2)가 광학계(4)에 의해 상 위치에 결상되게 하여 결상된 시편격자(2)의 상과 기준격자(1)에 의해 모아레무늬를 생성하는 단계; 상기한 모아레무늬의 강도분포를 광검출기(5)를 이용하여 측정하는 단계; 기준격자(1)가 놓인 로타리 스테이지(6)를 이동하면서 각 지점에서의 모아레무늬의 밝은 부분 강도와 어두운 부분의 강도를 측정하여 모아레무늬에 대한 강도분포의 차이가 최대인 지점을 찾는 단계를 포함한다.

公开(公告)号：KR100388490B1

公开(公告)日：2003-06-25

申请号：KR1019990022660

申请日：1999-06-17

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: PURPOSE: An off-axial aperture with a fly's eye lens and a fabricating method thereof are provided to pass a larger quantity of light through the off-axial aperture, thereby increasing a throughput and facilely fabricating the aperture. CONSTITUTION: The device comprises a light shielding area formed at a center portion; a light penetrating area formed around the light shielding area and comprised of a fly's eye lens. The aperture further comprises a partial light penetrating area formed at a portion except the light shielding area and the light penetrating area and having a lower permeability than that of the light penetrating area. In the aperture, the light penetrating area formed into a quadruple, hexapole or annular type. A method of fabricating the off-axial aperture comprises the steps of: forming a light shielding pattern on an entire surface of a transparent substrate(100); forming the first resist pattern having a curved surface at a fly's eye lens area of the substrate; and performing an etching process to form the fly's eye lens on the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种具有蝇眼透镜的离轴孔径及其制造方法，以使较大量的光通过离轴孔径，从而增加产量并便于制造孔径。 构成：该装置包括形成在中心部分的遮光区域; 在遮光区域周围形成的由蝇眼透镜构成的透光区域。 该孔还包括形成在除遮光区域和透光区域之外的部分处并且具有比透光区域的导磁率低的导磁率的部分光穿透区域。 在光圈中，透光区域形成四极，六极或环形类型。 一种制造离轴孔径的方法包括以下步骤：在透明基板（100）的整个表面上形成光屏蔽图案; 在基板的蝇眼透镜区域形成具有曲面的第一抗蚀剂图案; 并执行蚀刻工艺以在基板上形成蝇眼透镜。

公开(公告)号：KR100293910B1

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1019990013748

申请日：1999-04-19

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: G03F7/20

Abstract: 1.청구범위에기재된발명이속한기술분야엑시머레이저를광원으로사용하는반도체노광장비용광학계에있어, 초점심도를확장한광학계구성에관한것으로, 본발명은광원인 ArF 엑시머레이저와조명광학계후단에제 1 렌즈군, 반사경(folding mirror), 제 2 렌즈군, 편광광 분할기, 1/4 파장평판 ,구면반사경, 제 3 렌즈군으로구성된광학계에복굴절물질로제작된광학부품을내장한다. 복굴절물질로광학부품을제작하여광학계를구성하는광학부품으로서광학계내에설치하면입사한빛의편광방향에따라서굴절률에차이가나타나게되어빛이지나가게되는경로가달라지게되고, 그결과광학계의광축방향을따라상을맺는위치가달라지게되어일정한범위에서연속적으로상을맺게함으로써원하는해상도의상을얻을수 초점심도를확장시킬수 있다.

公开(公告)号：KR100270583B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019980021700

申请日：1998-06-11

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 정해빈 ,  김종수 ,  이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  조경익 ,  김보우

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 미세패턴 형성장비의 반사굴절 광학계에 사용되는 편극 영향 제거판에 관한 것이다.
종래의 경우에는 웨이퍼면에 도달하는 빛의 선편광된 편극을 없애주기 위하여 이상 광선과 정상 광선 사이의 위상차를 90도 발생시켜 원편광을 만들어주는 1/4 파장판을 사용하거나, 원하는 방향의 편극을 만들어 주기 위하여 위상을 180도 발생시키는 1/2 파장판을 사용하였다. 그런데, 이러한 파장판은 사용 파장과 물질의 굴절률에 의해서 결정되는 두께로 정확히 가공해야 하므로 제작이 어렵다. 또한, 파장판의 가공을 쉽게 하기 위해서 차수를 높이면 두께가 두꺼워져서 입사각이 커지면 효율이 떨어지는 단점이 있다.
본 발명에서는 편극 영향 제거판을 통과하면 입사각에 따른 편극이 제각기 달라져 불규칙하게 되는 것을 이용하여 프리즘과 상면(웨이퍼) 사이에 편극 영향 제거판을 위치시켜 선편광된 광의 편극 영향을 제거하므로써 패턴의 모양에 따른 선폭 변화가 없도록 할 수 있다.