Abstract:
본 발명은 AFM(Atomic Force Microscope)의 나노튜브 탐침(nanotube-probe)의 제조 방법 및 그러한 방법에 의해 제조되는 나노튜브 탐침에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 나노튜브가 부착되는 탐침의 팁(tip)과 나노튜브 사이의 이종접합(heterojunction)에 의해 나노튜브가 탐침의 팁에 보다 견고하게 고착되고, 이종접합에 의해 탐침과 나노튜브 사이의 전도성을 개선 수 있으며, 기존의 나노튜브 탐침과는 달리 탐침의 팁에 부착되는 나노튜브에 불순물이 부착되는 것을 근원적으로 방지하여 기존의 나노튜브 탐침보다 우수한 스캐닝 영상을 얻을 수 있는, AFM의 나노튜브 탐침의 제조 방법 및 그러한 방법에 의해 제조되는 나노튜브 탐침에 관한 것이다. 본 발명에 따른 AFM의 나노튜브 탐침의 제조 방법은, 상기 나노튜브를 상기 탐침의 팁(tip)에 부착시키는 단계와, 상기 나노튜브가 부착된 상기 탐침을 금속 기판 위에 올려 놓는 단계와, 상기 탐침이 올려져 있는 상기 금속 기판에 레이저(laser)를 조사하여 상기 금속 기판을 가열하는 단계를 포함한다.
Abstract:
본 발명은 입자빔(particle beam)을 이용한 나노 크기 물질(nanometer-scale material)의 변형 방법 및 그러한 방법을 이용하여 제조되는 나노 공구(nano-tool)에 관한 것이다. 본 발명에 따른 입자빔을 이용한 나노 크기 물질의 변형 방법은 나노 크기 물질에 입자빔을 조사하여 상기 나노 크기 물질을 상기 입자빔의 방향으로 휘게 하는 것을 특징으로 한다.
Abstract:
본 발명은 탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이(Field Emmision Display : FED) 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 더 구체적으로는 전계 방출 디스플레이의 에미터 역할을 하는 탄소나노튜브의 지향 방향 및 형상을 이온빔, 특히 집속된 이온빔을 이용하여 조절함으로써 탄소나노튜브 에미터의 전자 방출 효율을 극대화하여 저전압으로도 높은 휘도를 낼 수 있으며, 또한 탄소나노튜브 에미터에 의한 전자 방출을 균일화하여 균일한 휘도를 낼 수 있는 탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 탄소나노튜브 에미터를 구비하는 전계 방출 디스플레이는 하부 기판과, 상기 하부 기판 위에 형성되는 캐소드 전극과, 상기 캐소드 전극에 제공되는 탄소나노튜브 에미터와, 상기 탄소나노튜브 에미터를 둘러싸도록 형성되는 게이트 절연층과, 상기 게이트 절연층 위로 형성되는 게이트 전극과, 상기 게이트 전극과 스페이서에 의해 일정한 간극을 두고 상기 게이트 전극을 상부에서 덮는 전면판과, 상기 게이트 전극을 마주보도록 상기 전면판 아래로 형성되는 애노드 전극과, 상기 애노드 전극에 형성되어 상기 탄소나노튜브 에미터에서 방출되는 전자에 의해 발광되는 형광체층을 포함하며, 상기 탄소나노튜브 에미터는 이온빔의 조사에 의해 상기 탄소나노튜브 에미터의 전자 방출 방향으로 정렬되어 펴진 것을 특징으로 한다.
Abstract:
The repair device of photomask and repair method using the same are provided to save the time and performs all the processes when checking and replacing the atomic force microscope probe. The photomask repair device comprises the atomic force microscope(112) for repair, the electron microscope(116), and the atomic force microscope for imaging. The atomic force microscope for repair repairs the defection portion of the photomask(101). The electron microscope guides the atomic force microscope for repair to be positioned in the defection portion of photomask. The electron microscope observes the repair process of photomask by the atomic force microscope for repair. The atomic force microscope for imaging images the shape of photomask after repair in the In-situ.
Abstract:
본 발명은 주사형 전자현미경 (scanning electron microscope; SEM) 나노니들 조작기 (nanoneedle manipulator)를 이용하여, 모체 팁의 형상에 상관없이, 상기 모체 팁에 고정되는 탄소나노튜브(canbon nanotube) 또는 나노와이어 (nanowire)와 같은 나노니들(nanoneedle) 의 방향 및 상기 모체 팁의 끝으로부터 도출되는 나노니들의 길이가 조절된, 주사형 탐침 현미경(scanning probe microscope; SPM)용 나노니들팁(nanoneedle tip)과 그 제조장치 및 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 주사형 탐침 현미경용 나노니들팁 제조장치는, 모체 팁을 고정하고 자유도가 상대적으로 큰 모체 팁 스테이지와, 그 모체 팁에 부착될 나노니들을 고정하고, 자유도가 상대적으로 큰 나노니들 스테이지를 포함하고, 상기 스테이지들 및 상기 스테이지들을 구성하는 복수개의 요소들이 수동적으로 수평, 수 직 및 회전되면서 주사형 탐침 현미경용 나노니들팁을 제조하는 데에 특징이 있다.