산화물 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법

    公开(公告)号:KR102217043B1

    公开(公告)日:2021-02-18

    申请号:KR1020180131335

    申请日:2018-10-30

    Abstract: 본발명은산화물박막트랜지스터및 그제조방법을개시한다. 본발명의실시예에따른산화물박막트랜지스터는기판, 상기기판상에형성된게이트전극, 상기게이트전극상에형성된게이트절연층, 상기게이트절연층상에형성된 p형산화물반도체박막, 상기 p형산화물반도체박막의상부에서로이격되어형성된소스전극및 드레인전극및 상기소스전극및 상기드레인전극이형성된상기 p형산화물반도체박막상에형성된패시베이션(passivation)층을포함하고, 상기 p형산화물반도체박막은제1 열처리를통하여활성화되며, 상기 p형산화물반도체박막은상기패시베이션층이형성된후 제2 열처리를통하여상기 p형산화물반도체박막의백 채널(back channel)이선택적으로산화됨으로써상변화되는것을특징으로한다.

    이중 채널층을 구비한 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법

    公开(公告)号:KR102205148B1

    公开(公告)日:2021-01-20

    申请号:KR1020190010408

    申请日:2019-01-28

    Inventor: 김현재 나재원

    Abstract: 본발명은이중채널층을구비한박막트랜지스터및 그제조방법에관한것으로서, 일실시예에따른박막트랜지스터는기판과, 기판상에형성된게이트전극과, 게이트전극상에형성된게이트절연층과, 게이트절연층상에형성되고, 산화물반도체를포함하는제1 반도체층과, 제1 반도체층상에형성되고, 유기반도체및 유기절연물중 적어도하나와산화물반도체를포함하는제2 반도체층및 제2 반도체층상에서로이격되도록형성된소스전극및 드레인전극을포함할수 있다.

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