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公开(公告)号:WO2021091020A1
公开(公告)日:2021-05-14
申请号:PCT/KR2020/001066
申请日:2020-01-22
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L27/11568 , H01L29/78 , H01L29/66
Abstract: 본 실시예들은 점성을 갖는 유기물 잔여물을 통해 채널과 게이트 절연체 사이에 인터페이스 트랩을 형성하고, 빛의 파장을 변화시킴으로써, 하나의 게이트를 이용하여 메모리를 멀티 레벨로 동작시킬 수 있는 비휘발성 멀티레벨 광 메모리 및 그 제조방법을 제공한다.
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公开(公告)号:WO2021015377A1
公开(公告)日:2021-01-28
申请号:PCT/KR2020/001065
申请日:2020-01-22
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L29/786 , H01L29/737 , H01L29/66 , H01L21/02
Abstract: 본 발명에 따르면, 산화물 박막 증착 시 산소 분압을 조절하고 증착 후 산화물 박막에 환원제 처리를 하여 산화물 박막 내 산소 공공을 조절할 수 있으며, 이를 통해 박막 내 캐리어(carrier) 농도를 조절하여 양의 값을 가지는 V th 와 높은 이동도를 동시에 가질 수 있는 산화물 박막 트랜지스터 및 그의 제조 방법이 개시된다.
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公开(公告)号:WO2010137838A3
公开(公告)日:2010-12-02
申请号:PCT/KR2010/003266
申请日:2010-05-24
Applicant: 연세대학교 산학협력단 , 김현재 , 정웅희 , 안병두 , 김건희
IPC: H01L21/027 , H01L29/786 , H01L21/336
Abstract: 본 발명의 실시 예들은 액상 공정용 조성물 그리고 이를 이용한 전자 소자 및 그 제조 방법을 제공한다. 졸-겔 공정을 이용한 산화물 나노구조체, 산화물 박막 트랜지스터 및 산화물 반도체 소자 및 그 형성 방법이 제공된다.
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公开(公告)号:KR101896777B1
公开(公告)日:2018-09-07
申请号:KR1020160129176
申请日:2016-10-06
Applicant: 현대자동차주식회사 , 연세대학교 산학협력단
IPC: C23C14/58 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C14/34 , C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/56 , H01L31/048
CPC classification number: H01L31/0203 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/3464 , C23C14/5806 , C23C16/40 , C23C16/403 , C23C16/45525 , C23C16/45555 , C23C16/56 , H01L21/02266 , H01L21/0228 , H01L31/0481
Abstract: 본발명은우수한내습성을지니는배리어필름제작을위해서, 스퍼터링증착(sputtering deposition)이나원자층증착(Atomic Layer Deposition, ALD)을통해증착된산화물박막에추가적으로특정조건에서고압열처리공정을포함하는배리어필름의제조방법과이에의해제조된배리어필름에관한것이다. 본발명은열에너지와압력에너지를동시에활용하여낮은공정온도에서배리어필름의내습성을향상시킬수 있어, 태양전지의배리어필름으로유용하게사용될수 있다.
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公开(公告)号:KR102235595B1
公开(公告)日:2021-04-05
申请号:KR1020130079897
申请日:2013-07-08
Applicant: 삼성디스플레이 주식회사 , 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L21/3205 , H01L21/205 , H01L29/786
Abstract: 본발명의일 측면에따라주석전구체화합물, 안티몬전구체화합물및 용매를포함하는주석산화물반도체형성용조성물을제공한다. 본발명의다른일 측면에따라주석전구체화합물, 안티몬전구체화합물을용매에녹인조성물을제조하는단계; 상기조성물을기판에도포하는단계; 및상기조성물이도포된기판을열처리하는단계를포함하는주석산화물반도체박막의형성방법을제공한다.
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公开(公告)号:KR102217043B1
公开(公告)日:2021-02-18
申请号:KR1020180131335
申请日:2018-10-30
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L29/786 , H01L21/324
Abstract: 본발명은산화물박막트랜지스터및 그제조방법을개시한다. 본발명의실시예에따른산화물박막트랜지스터는기판, 상기기판상에형성된게이트전극, 상기게이트전극상에형성된게이트절연층, 상기게이트절연층상에형성된 p형산화물반도체박막, 상기 p형산화물반도체박막의상부에서로이격되어형성된소스전극및 드레인전극및 상기소스전극및 상기드레인전극이형성된상기 p형산화물반도체박막상에형성된패시베이션(passivation)층을포함하고, 상기 p형산화물반도체박막은제1 열처리를통하여활성화되며, 상기 p형산화물반도체박막은상기패시베이션층이형성된후 제2 열처리를통하여상기 p형산화물반도체박막의백 채널(back channel)이선택적으로산화됨으로써상변화되는것을특징으로한다.
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公开(公告)号:KR102205148B1
公开(公告)日:2021-01-20
申请号:KR1020190010408
申请日:2019-01-28
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L29/786 , H01L51/05 , H01L21/02 , H01L29/66
Abstract: 본발명은이중채널층을구비한박막트랜지스터및 그제조방법에관한것으로서, 일실시예에따른박막트랜지스터는기판과, 기판상에형성된게이트전극과, 게이트전극상에형성된게이트절연층과, 게이트절연층상에형성되고, 산화물반도체를포함하는제1 반도체층과, 제1 반도체층상에형성되고, 유기반도체및 유기절연물중 적어도하나와산화물반도체를포함하는제2 반도체층및 제2 반도체층상에서로이격되도록형성된소스전극및 드레인전극을포함할수 있다.
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公开(公告)号:KR102199338B1
公开(公告)日:2021-01-06
申请号:KR1020190109685
申请日:2019-09-04
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: G09G3/3233 , H01L29/786
Abstract: 본실시예들은다결정실리콘트랜지스터와산화물트랜지스터를병렬연결하고, 다결정실리콘트랜지스터와산화물트랜지스터에동형외인성반도체를적용하여, 히스테리시스특성을보상하는디스플레이의구동트랜지스터를제공한다.
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公开(公告)号:KR102082697B1
公开(公告)日:2020-05-22
申请号:KR1020180053530
申请日:2018-05-10
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L31/10 , H01L29/06 , H01L29/786 , H01L27/146 , H01L31/18 , H01L31/0328
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公开(公告)号:KR102060401B1
公开(公告)日:2019-12-30
申请号:KR1020180085196
申请日:2018-07-23
Applicant: 연세대학교 산학협력단
IPC: H01L29/49 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L27/12
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