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    183 nm CW-Laser und Inspektionssystem
    13.
    发明专利
    183 nm CW-Laser und Inspektionssystem 未知

    公开(公告)号：DE112018000301T5

    公开(公告)日：2019-09-12

    申请号：DE112018000301

    申请日：2018-01-02

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： CHUANG YUNG-HO ALEX ,  LU XIAOXU ,  ZHANG BAIGANG ,  FIELDEN JOHN ,  DRIBINSKI VLADIMIR

    IPC: H01S3/109 ,  H01L21/66 ,  H01S3/16 ,  H01S3/23

    Abstract: Eine Laseranordnung erzeugt kontinuierlich (CW) Laserausgangslicht im Bereich von etwa 181 nm bis etwa 185 nm durch das Erzeugen von Licht der vierten Harmonischen aus einem ersten grundlegenden CW-Licht, das eine erste Grundwellenlänge zwischen 1 µm und 1,1 µm aufweist. Das Erzeugen eines fünften harmonischen Lichts erreicht man durch Mischen des vierten harmonischen Lichts mit dem ersten CW-Grundlicht. Dann erfolgt das Mischen des fünften harmonischen Lichts mit dem zweiten Grundlicht oder dem CW-Lichtsignal, das eine zweite Wellenlänge zwischen 1,26 µm und 1,82 µm besitzt. Das fünfte harmonische Licht wird unter Verwendung einer externen Kavität, die das erste CW-Grundlicht durch einen ersten nichtlinearen Kristall zirkuliert und das Richten des vierten harmonischen Lichts durch den ersten nichtlinearen Kristall erzeugt. Das Laserausgangslicht wird mit einer zweiten Kavität, die das zweite Grundlicht oder das CW-Lichtsignal durch einen zweiten nichtlinearen Kristall schickt und das Richten des fünften harmonischen Licht durch den zweiten nichtlinearen Kristall erzeugt.

    183-nm-LASER- UND INSPEKTIONSSYSTEM
    14.
    发明专利
    183-nm-LASER- UND INSPEKTIONSSYSTEM 未知

    公开(公告)号：DE112015004544T5

    公开(公告)日：2017-08-17

    申请号：DE112015004544

    申请日：2015-10-02

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： CHUANG YUNG-HO ALEX ,  DRIBINSKI VLADIMIR ,  DENG YUJUN ,  FIELDEN JOHN ,  ARMSTRONG J JOSEPH

    IPC: H01S3/067 ,  H01S3/098 ,  H01S3/127

    Abstract: Eine Laseranordnung zur Erzeugung von Laserausgangslicht bei einer Ausgangswellenlänge von ungefähr 183 nm beinhaltet einen Basislaser, ein Optisch-Parametrisches-System (OPS), einen Erzeuger einer fünften Harmonischen und ein Frequenzmischungsmodul. Der Basislaser erzeugt Basislicht bei einer Basisfrequenz. Das OPS erzeugt ein frequenzkonvertiertes Signal bei einer herabgesetzten Frequenz. Der Erzeuger einer fünften Harmonischen erzeugt eine fünfte Harmonische des Basislichts. Das Frequenzmischungsmodul mischt das frequenzkonvertierte Signal und die fünfte Harmonische, um das Laserausgangslicht bei einer Frequenz zu erzeugen, die gleich einer Summe der Frequenz der fünften Harmonischen und der herabgesetzten Frequenz ist. Das OPS erzeugt das frequenzkonvertierte Signal, indem es ein frequenzkonvertiertes Leitsignal bei der herabgesetzten Frequenz erzeugt und dann das frequenzkonvertierte Leitsignal mit einem Teil des Basislichts mischt. Zumindest einer der Schritte Frequenzmischung, Frequenzkonversion, Erzeugung der Harmonischen verwendet einen getemperten, mit Deuterium oder mit Wasserstoff behandelten CLBO-Kristall.

    IMPROVED METROLOGY THROUGH USE OF FEED FORWARD FEED SIDEWAYS AND MEASUREMENT CELL RE-USE
    15.
    发明申请
    IMPROVED METROLOGY THROUGH USE OF FEED FORWARD FEED SIDEWAYS AND MEASUREMENT CELL RE-USE 审中-公开
    通过使用饲料进料前进和测量细胞再利用改进的方法

    公开(公告)号：WO2010011560A2

    公开(公告)日：2010-01-28

    申请号：PCT/US2009050834

    申请日：2009-07-16

    Applicant: KLA TENCOR CORP ,  ADEL MICHAEL E ,  POSLAVSKY LEONID ,  FIELDEN JOHN ,  MADSEN JONATHAN MICHAEL ,  PETERS ROBERT

    Inventor： ADEL MICHAEL E ,  POSLAVSKY LEONID ,  FIELDEN JOHN ,  MADSEN JONATHAN MICHAEL ,  PETERS ROBERT

    IPC: H01L21/66

    CPC classification number: H01L22/12 ,  H01L22/20 ,  H01L22/30 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

    Abstract: Metrology may be implemented during semiconductor device fabrication by a) modeling a first measurement on a first test cell formed in a layer of a partially fabricated device; b) performing a second measurement on a second test cell in the layer; c) feeding information from the second measurement into the modeling of the first measurement; and after a lithography pattern has been formed on the layer including the first and second test cells, d) modeling a third and a fourth measurement on the first and second test cells respectively using information from a) and b) respectively.

    Abstract translation: 可以在半导体器件制造期间通过以下步骤来实现计量：a）对形成在部分制造的器件的层中的第一测试单元上的第一测量进行建模; b）对所述层中的第二测试单元执行第二测量; c）将第二测量中的信息馈送到第一测量的建模中; 并且在包括第一和第二测试单元的层上形成光刻图案之后，d）分别使用来自a）和b）的信息对第一和第二测试单元上的第三和第四测量进行建模。

    PHOTOKATHODE MIT FELDEMITTER-ANORDNUNG AUF EINEM SILIZIUMSUBSTRAT MIT BORSCHICHT
    16.
    发明专利
    PHOTOKATHODE MIT FELDEMITTER-ANORDNUNG AUF EINEM SILIZIUMSUBSTRAT MIT BORSCHICHT 未知

    公开(公告)号：DE112016002299T5

    公开(公告)日：2018-03-15

    申请号：DE112016002299

    申请日：2016-05-21

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： CHUANG YUNG HO ,  FIELDEN JOHN ,  XIAOLI YINYING ,  LIU XUEFENG

    IPC: H01J31/50 ,  G02B21/12 ,  H01J1/34 ,  H01J29/38 ,  H01J31/26 ,  H01L27/146 ,  H01L27/148

    Abstract: Eine Photokathode verwendet eine Feldemitteranordnung (FEA), die integral auf einem Siliziumsusbtrat gebildet ist, um die Emission von Photoelektronen zu erhöhen, und eine dünne Borschicht, die unmittelbar auf der Ausgangsoberfläche der FEA angeordnet ist, um Oxidation zu verhindern. Die Feldemitter sind durch Vorsprünge gebildet, die verschiedene Formen (z. B. Pyramiden oder abgerundete Whisker) haben und in einem zweidimensionalen periodischen Muster angeordnet sind, und können dazu ausgebildet sein, in einem Sperrrichtungsbetrieb zu arbeiten. Eine optionale Gate-Schicht ist vorgesehen, um Emissionsströme zu steuern. Eine optionale zweite Borschicht ist auf der beleuchteten (oberen) Oberfläche gebildet, und eine optionale Schicht aus Antireflektionsmaterial ist auf der zweiten Borschicht gebildet. Ein optionales externes Potenzial wird zwischen den gegenüberliegenden beleuchteten und Ausgangsoberflächen erzeugt. Eine optionale Kombination aus n-Typ-Silizium-Feldemitter und p-i-n-Photodioden-Schicht wird durch ein spezielles Dotierungsschema und das Anlegen eines externen Potenzials gebildet. Die Photokathode bildet einen Teil von Sensor- und Inspektionssystemen.

    LASERANORDNUNG UND INSPEKTIONSSYSTEM UNTER VERWENDUNG EINER MONOLITISCHEN APPARATUR ZUM VERRINGERN DER BANDBREITE
    17.
    发明专利
    LASERANORDNUNG UND INSPEKTIONSSYSTEM UNTER VERWENDUNG EINER MONOLITISCHEN APPARATUR ZUM VERRINGERN DER BANDBREITE 未知

    公开(公告)号：DE112015004394T5

    公开(公告)日：2017-06-14

    申请号：DE112015004394

    申请日：2015-09-22

    Applicant: KLA TENCOR CORP

    Inventor： DENG YUJUN ,  CHUANG YUNG-HO ALEX ,  FIELDEN JOHN ,  ARMSTRONG J JOSEPH ,  DRIBINSKI VLADIMIR

    IPC: H01S3/137 ,  G01N21/39

    Abstract: Eine gepulste UV-Laseranordnung umfasst einen Teilreflektor oder Strahlteiler, der jeden Grundpuls in zwei Teilpulse unterteilt. Dabei wird ein Teilpuls zu einem Ende eines Bragg-Gitters und der andere Teilpuls zu dem anderen Ende des Bragg-Gitters (oder ein anderes Bragg-Gitter) geleitet, so dass die beiden Teilpulse gestreckt werden und entgegensetzte (positive und negative) Frequenz-Chirps erhalten. Die beiden gestreckten Teilpulse werden kombiniert, um ein Summenfrequenzlicht mit einer schmaleren Bandbreite zu erhalten, als man dies vom Grundpuls direkt durch Erzeugung der zweiten Oberschwingung erhalten würde. UV-Wellenlängen können direkt vom Summenfrequenzlicht oder von einem harmonischen Umwandlungsschema erzeugt werden, welches das Summenfrequenzlicht beinhaltet. Der UV-Laser kann weiterhin andere die Bandbreite reduzierende Schemata umfassen. Der gepulste UV-Laser kann in einem Inspektions- oder Metrologiesystem verwendet werden.

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