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公开(公告)号:CN101414127A
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200810166462.5
申请日:2003-10-30
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC: G03F7/20 , H01J37/317 , H01J37/04
CPC classification number: H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备,包括:用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器;用于接收所述多个电子小射束的调制阵列,包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器;控制器,可操作地连接于所述调制阵列,用于单独地控制所述调制器;调节器,可操作地连接于每个调制器,用于单独地调节每个调制器的控制信号;包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统,其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面,以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号:CN101414125A
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200810166460.6
申请日:2003-10-30
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC: G03F7/20 , H01J37/317
CPC classification number: H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备,包括:用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器;用于接收所述多个电子小射束的调制阵列,包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器;控制器,可操作地连接于所述调制阵列,用于单独地控制所述调制器;调节器,可操作地连接于每个调制器,用于单独地调节每个调制器的控制信号;包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统,其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面,以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号:CN1708826A
公开(公告)日:2005-12-14
申请号:CN200380102559.5
申请日:2003-10-30
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC: H01J37/302 , H01J37/317 , H01J37/304 , G03F7/20
CPC classification number: H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备,包括:用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器;用于接收所述多个电子小射束的调制阵列,包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器;控制器,可操作地连接于所述调制阵列,用于单独地控制所述调制器;调节器,可操作地连接于每个调制器,用于单独地调节每个调制器的控制信号;包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统,其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面,以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号:CN1637997A
公开(公告)日:2005-07-13
申请号:CN200410082523.1
申请日:2004-09-20
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: H01J3/02
Abstract: 一种电子发射装置,优化电子发射区到栅极束通道孔的位置关系,进而增强屏幕亮度和色彩表示性能。其包括以一定距离彼此相对的第一和第二基板,以及形成在所述第一基板上的第一和第二电极。电子发射区与第二电极相接触,并设置为对应于配置在第一基板上的像素区。栅极被设置在第一和第二基板之间,并具有对应于各个电子发射区的电子束通道孔。使用所述电子发射装置,电子发射区到栅极的电子束通道孔的距离关系可被优化,以便增强屏幕亮度和色彩表示性能。
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公开(公告)号:CN103430275B
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:CN201280013818.6
申请日:2012-02-21
Applicant: 电化株式会社
IPC: H01J37/06 , H01L21/027
CPC classification number: H01R43/26 , H01J3/02 , H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/067 , H01J37/07 , H01J37/08 , Y10T29/49117
Abstract: 本发明是一种预先将阴极(1)和阳极(9)组入进行组装并且能够在将所述阴极和所述阳极组入了的状态下进行保管和输送的带电粒子枪(EG),其特征在于,在保管和输送所述带电粒子枪时,用导体(11)连接所述阴极和所述阳极。由此,能够防止由于在保管和输送过程中产生的静电所引起的放电导致带电粒子枪的电极前端受损。
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公开(公告)号:CN104303256B
公开(公告)日:2016-12-21
申请号:CN201280070115.7
申请日:2012-12-19
Applicant: 安特卫普大学
IPC: H01J37/26
CPC classification number: H01J37/04 , H01J3/02 , H01J3/021 , H01J37/06 , H01J37/08 , H01J37/256 , H01J37/261 , H01J2237/06383 , H01J2237/2614
Abstract: 描述了用于将轨道角动量施加到沿着带电粒子束发生装置中的波束轴(104)传播的带电粒子波的设备(100)。该设备包括:支撑元件(106),该支撑元件具有适配于透射沿着波束轴(104)传播的带电离子波的目标区域(108);以及,感应装置(112),该感应装置用于沿着具有位于所述目标区域(108)的自由端部分的细长轮廓感应磁通,并且该感应装置(112)适配于在所述细长轮廓中提供磁通,以便感应带电离子波在透射经过所述目标区域(108)时的相位相对于波束轴的角梯度。还公开了相应的方法以及其在电子显微术中的使用。
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公开(公告)号:CN106229242A
公开(公告)日:2016-12-14
申请号:CN201610771522.0
申请日:2016-08-31
Applicant: 成都磁动势科技有限公司
IPC: H01J3/02
CPC classification number: H01J3/02
Abstract: 本发明涉及电子枪的供电装置,尤其涉及一种电子枪的供电装置,包括聚压单元、极速电压单元、检测单元,所述聚压单元用于将按照基准电压在升至高于基准电压预设电压值时输出,检测单元在检测到所述基准电压升至高于基准电压预设电压值时,极速电压单元用于将按照所述输出的电压进行施压,进而能够控制电子枪的电压输出,从而控制电子枪的发射速度。
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公开(公告)号:CN103535119A
公开(公告)日:2014-01-22
申请号:CN201280012756.7
申请日:2012-03-09
Applicant: 伊利克塔股份有限公司
Inventor: T·A·拉奇
IPC: H05H9/00 , H01J25/34 , H01J1/46 , H01J23/075
CPC classification number: H01J25/34 , H01J3/02 , H01J23/075 , H05H9/048 , H05H2007/084
Abstract: 本发明提供了一种电子枪(12),其包括用于生成电子的阴极(20);阳极(22);位于阴极和阳极之间的中间电极(24);以及控制器(14)。所述控制器施加电势至所述中间电极,分析最终得到的电参数,以确定所述中间电极的完整性;并且控制电子枪发出电子脉冲。
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公开(公告)号:CN103262220A
公开(公告)日:2013-08-21
申请号:CN201180060362.4
申请日:2011-12-16
Applicant: 日立造船株式会社
Inventor: 卡维·巴赫塔里
IPC: H01L21/306
CPC classification number: B01J19/085 , C01B13/10 , H01J3/02 , H01J33/00 , H01J37/3233 , H01J37/32357 , H01J37/32816
Abstract: 本发明除了其它方面之外提出了用于提供臭氧发生器或等离子体发生器的系统和方法,所述臭氧发生器或等离子体发生器在与反应腔室分隔开的电子发生腔室中产生电场。所述电子发生腔室中的电子束发射器被配置用来发出电子束,且被电子可渗透的阻挡件与所述反应腔室分隔开,所述阻挡件提供了所述电子束穿过的窗口。电子在所述电子发生腔室中被加速到所需的能量并穿过所述阻挡件而被传输至所述反应腔室,输入气体源将输入气体引入至所述反应腔室中。输入气体可以在所述反应腔室内与所述电子束反应以形成含有等离子体或含有臭氧浓度的输出气体,并且该输出气体从所述反应腔室传输至晶圆处理腔室。
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公开(公告)号:CN101414129B
公开(公告)日:2012-11-28
申请号:CN200810166465.9
申请日:2003-10-30
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC: G03F7/20 , H01J37/317
CPC classification number: H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备,包括:用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器;用于接收所述多个电子小射束的调制阵列,包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器;控制器,可操作地连接于所述调制阵列,用于单独地控制所述调制器;调节器,可操作地连接于每个调制器,用于单独地调节每个调制器的控制信号;包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统,其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面,以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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