公开(公告)号：JP2006040900A

公开(公告)日：2006-02-09

申请号：JP2005219078

申请日：2005-07-28

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティ,インテグレイテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フュア ハーブライタープリューフテックニック ミット ベシュレンクテル ハフツング

Inventor： PILZ WOLFGANG ,  BISCHOFF LOTHAR

IPC: H01J27/26 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J49/10 ,  H01J37/08

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To enable improvement in avoiding impurity mixing into inside a semiconductor material, in treating the semiconductor material with an ion beam generated from an ion source.
SOLUTION: An emitter generating the ion beam is provided. Especially, a liquid metal alloy ion source (LMAIS) includes binary alloy PrSi as a raw material to be the ion source. The raw material includes only Si ion and Pr ion, not including a material mixing into inside the semiconductor material as an impurity.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：为了能够改进避免杂质混入半导体材料内部，在用离子源产生的离子束处理半导体材料时。 解决方案：提供产生离子束的发射极。 特别地，液态金属合金离子源（LMAIS）包括二元合金PrSi作为离子源的原料。 原料仅包含Si离子和Pr离子，不包括作为杂质混入半导体材料内部的材料。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2015023032A

公开(公告)日：2015-02-02

申请号：JP2014147844

申请日：2014-07-18

Applicant: アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー ,  Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： MATTHIAS FIRNKES ,  LANIO STEFAN DR ,  GERALD SCHOENECKER ,  WINKLER DIETER

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/21 ,  H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/24592

Abstract: 【課題】特に走査型電子顕微鏡に用いられる二次荷電粒子検出装置による信号ビームの検出を改善する。【解決手段】信号ビームを検出するための二次荷電粒子検出装置が能動的な検出領域を備えた互いに隔てられた少なくとも2つの検出素子(222)を有する検出器構造体(220)及び信号ビームを第1の部分と少なくとも1つの第2の部分に分離すると共にこれらを集束させる粒子光学系(200)を含む。粒子光学系は、アパーチュアプレート(201)と、アパーチュアプレートに設けられた少なくとも第1のアパーチュア型開口部(202)及びアパーチュアプレートに設けられた少なくとも1つの第2のアパーチュア型開口部(204)とを含み、第1のアパーチュア型開口部は、凹状部分を有し、特に、第1のアパーチュア型開口部は、針さし形状を有する。【選択図】図2A

Abstract translation: 要解决的问题：通过在扫描电子显微镜中特别使用的二次带电粒子检测装置来改善对信号束的检测。解决方案：用于检测信号束的二次带电粒子检测装置包括：检测器结构（220），其具有 具有主动检测区域的至少两个检测元件（222），所述检测元件彼此分离; 以及被配置为将信号光束分离成第一部分和至少一个第二部分的颗粒光学器件（200），并且还被配置用于聚焦第一部分和至少一个第二部分。 粒子光学器件包括：孔板（201）; 以及设置在所述孔板中的至少第一开口开口（202）和设置在所述孔板中的至少一个第二孔口（204）。 第一孔口具有凹形部分，特别地，第一孔口具有枕形形状。

公开(公告)号：JP2009123683A

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：JP2008229863

申请日：2008-09-08

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： WINKLER DIETER ,  WEIGEL UDO ,  GRIMM STEFAN

IPC: H01J27/26 ,  H01J37/04 ,  H01J37/073 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/073 ,  H01J27/26 ,  H01J37/08 ,  H01J37/265 ,  H01J37/304 ,  H01J2237/06341 ,  H01J2237/0805 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/30466 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31749

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle source with automated tip formation.
SOLUTION: A charged particle device includes: an emitter unit including an emitter tip 13; a voltage supply unit 222 configured to provide a constant voltage to generate a stable extraction field at the emitter tip; a pulsed voltage supply component 224 configured to provide a pulsed voltage to generate a pulsed extraction field on top of the stable extraction field; measuring units 142, 142', 142" for measuring an emitter characteristic; and a control unit 130 configured to receive a signal from the measuring units, and configured to control the pulsed voltage supply component.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有自动尖端形成的带电粒子源。 电荷粒子装置包括：包括发射极尖端13的发射体单元; 电压供给单元222，被配置为提供恒定电压以在发射极尖端处产生稳定的提取场; 脉冲电压供应部件224，被配置为提供脉冲电压以在所述稳定提取场的顶部产生脉冲提取场; 测量单元142,142'，142“，用于测量发射极特性;以及控制单元130，被配置为从测量单元接收信号，并且被配置为控制脉冲电压供应分量。（C） JPO和INPIT

公开(公告)号：JP2007227382A

公开(公告)日：2007-09-06

申请号：JP2007041829

申请日：2007-02-22

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： FROSIEN JUERGEN ,  ELGAR YACOV

IPC: H01J37/20 ,  H01J37/18

CPC classification number: H01J37/026 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/26 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/004 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/2809 ,  H01J2237/2817

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam device with charging and/or contamination of samples reduced.
SOLUTION: The charged particle beam device comprises particle supply sources 13, 14, 16 for providing charged particle beams 31, optical devices 18, 20, 22, 24, 26, 27 for directing the charged particle beams onto the sample and an ozone unit for reducing the charging and/or contamination of the sample. The ozone unit comprises ozone supply sources 34, 35, 36 and a sample nozzle unit 38 for directing an ozone gas flow to the sample 28. Further, the charged particle beam device comprises the particle supply sources, optical devices, a detector 30 and a gas unit for reducing the charging and/or contamination of the detector. The gas unit comprises gas supply sources 34, 35, 37 and a detector nozzle unit 40 for directing a gas flow to the detector. Furthermore, the method for operating the charged particle beam device is provided.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种带电粒子束装置，减少样品的充电和/或污染。 带电粒子束装置包括用于提供带电粒子束31的粒子供应源13,14,16，用于将带电粒子束引导到样品上的光学装置18,20,22,24,26,27和 臭氧单元，用于减少样品的充电和/或污染。 臭氧单元包括臭氧供应源34,35,36和用于将臭氧气体流引导到样品28的样品喷嘴单元38.此外，带电粒子束装置包括颗粒供应源，光学装置，检测器30和 气体单元，用于减少检测器的充电和/或污染。 气体单元包括气体供给源34,35,37和用于将气流引导到检测器的检测器喷嘴单元40。 此外，提供了用于操作带电粒子束装置的方法。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2006269431A

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：JP2006079454

申请日：2006-03-22

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： ADAMEC PAVEL ,  LANIO STEFAN

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/073

CPC classification number: H01J1/135 ,  H01J1/18 ,  H01J37/07 ,  H01J37/242 ,  H01J2237/06316

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an emitter for a charged particle beam apparatus. SOLUTION: The emitter is provided with a filament (3) fixed to and extended between a first and a second support parts (2), an emitter tip part (4)mounted on the filament (3) and a stabilizing element (6) mounted on a third support part (5) and the filament (3). The first, second and third support parts (2, 5) define a triangle, and as a result, the stabilizing element (6) will be extended at least partially in the direction of crossing an extension direction of the filament at right angles. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供用于带电粒子束装置的发射器。 解决方案：发射器设置有固定到第一和第二支撑部分（2）上并在其之间延伸的灯丝（3），安装在灯丝（3）上的发射极尖端部分（4）和稳定元件 6）安装在第三支撑部分（5）和灯丝（3）上。 第一，第二和第三支撑部分（2,5）限定三角形，结果，稳定元件（6）将至少部分地沿垂直于灯丝的延伸方向的方向延伸。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2006190653A

公开(公告)日：2006-07-20

申请号：JP2005329684

申请日：2005-11-15

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティ,インテグレイテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フュア ハーブライタープリューフテックニック ミット ベシュレンクテル ハフツング

Inventor： FROSIEN JUERGEN DR ,  LANIO STEFAN ,  SCHOENECKER GERALD ,  BRODIE ALAN D ,  CREWE DAVIS A

IPC: H01J37/244 ,  G01N23/225 ,  G21K1/00 ,  G21K5/04 ,  H01J37/05 ,  H01J37/12 ,  H01J49/48

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/24485

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an analysis system and a charged particle beam device by which a high-speed and high-quality imaging of a test piece can be made with a short acting distance and a compact design, and contrast of the image can be increased.
SOLUTION: This is a charged particle unit which deflects and energy selects charged particles of a charged particle beam. Double focus sector units 425, 425 for deflecting the charged particle beam and an energy filter 460 for forming the potential are provided, and thereby, the charged particles of the charged particle beam are changed its direction at the potential saddle point according to the energy of the charged particles.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种分析系统和带电粒子束装置，通过该装置可以以短的动作距离和紧凑的设计制造测试件的高速和高质量的成像，并且对比度 可以增加图像。

解决方案：这是一个带电粒子单元，其偏转和能量选择带电粒子束的带电粒子。 提供了用于偏转带电粒子束的双焦点部件425,425和用于形成电位的能量过滤器460，由此，带电粒子束的带电粒子根据能量 带电粒子。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

公开(公告)号：JP2014220241A

公开(公告)日：2014-11-20

申请号：JP2014094547

申请日：2014-05-01

Applicant: アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー ,  Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： FROSIEN JUERGEN

IPC: H01J37/12 ,  H01J37/06 ,  H01J37/145 ,  H01J37/21 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/145 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28

Abstract: 【課題】収差を制限して光学性能を向上させた電子ビームウェーハ画像化システムを提供する。【解決手段】エミッタ31と、少なくとも20kVの電圧をエミッタとコラムハウジングとの間に印加する電源331と、オーバーラップした磁気レンズコンポーネント60と静電レンズコンポーネント160よりなる対物レンズを含み、静電レンズコンポーネント160は、第1、第2及び第3の電極162,164,166を有する。制御電極170が信号電子を制御し、コントローラ260は、第1の作動モードと第2の作動モードを切り換えるために別の電源に接続される。【選択図】図3

Abstract translation: 要解决的问题：通过控制像差来提供具有改善的光学性能的电子束晶片成像系统。解决方案：电子束晶片成像系统包括：发射极31; 电源331，其在发射极和列外壳之间施加至少20kV的电压; 以及由重叠的磁性透镜部件60和静电透镜部件160构成的物镜。静电透镜部件160包括第一，第二和第三电极162,164,166。控制电极170控制信号电子。 控制器260连接到单独的电源以切换第一致动模式和第二致动模式。

公开(公告)号：JP2014183047A

公开(公告)日：2014-09-29

申请号：JP2014051077

申请日：2014-03-14

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： ADAMEC PAVEL

IPC: H01J37/147 ,  H01J9/14 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/14 ,  H01F5/003 ,  H01J37/1475 ,  H01J2237/1526 ,  Y10T29/4902

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic deflector assembly having a high scanning speed and accuracy.SOLUTION: A magnetic deflector assembly (120) is disclosed which is configured for scanning a primary electron beam and adapted for providing an upgrade kit for a wafer imaging system. The magnetic deflector assembly (120) comprises at least one magnetic deflector for scanning the primary electron beam over a wafer in one direction. The at least one magnetic deflector includes at least two coils (320-1 and 320-2) forming a pair of coil units (302A and 302B, or 304A and 304B). The number of turns (321-1 and 321-2) in the at least two coils is 8 or less, and a maximum dimension of a cross section of a coil-forming wire or a coil-forming conductor is 0.2 mm or less.

Abstract translation: 要解决的问题：提供具有高扫描速度和精度的磁偏转器组件。解决方案：公开了一种磁偏转器组件（120），其被配置用于扫描一次电子束并适于提供用于晶片成像的升级套件 系统。 磁偏转器组件（120）包括用于在一个方向上在晶片上扫描一次电子束的至少一个磁偏转器。 所述至少一个磁偏转器包括形成一对线圈单元（302A和302B，或304A和304B）的至少两个线圈（320-1和320-2）。 至少两个线圈中的匝数（321-1和321-2）为8以下，线圈形成线或线圈形成用导体的截面的最大尺寸为0.2mm以下。

公开(公告)号：JP2014183046A

公开(公告)日：2014-09-29

申请号：JP2014049959

申请日：2014-03-13

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： ADAMEC PAVEL

IPC: H01J37/073

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J3/027 ,  H01J37/073 ,  H01J2237/022

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved electron gun arrangement for generating a primary electron beam for a wafer imaging system.SOLUTION: An electron gun arrangement comprises: a controller (116) configured for switching between a normal operation and a cleaning operation; a field emitter (5) having an emitter tip adapted for providing electrons; an extractor electrode (8) adapted for extracting an electron beam from an emitter tip electrode; a suppressor electrode (9) arranged radially outside the emitter; and an auxiliary emitter electrode (16) arranged radially outside the suppressor electrode and provided as a thermal electron emitter for thermally emitting electrons towards an optical axis. The suppressor electrode is at first and second potentials, relative to the extractor electrode, during the normal operation and the cleaning operation, respectively.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于生成晶片成像系统的一次电子束的改进的电子枪装置。解决方案：一种电子枪装置，包括：被配置为在正常操作和清洁操作之间切换的控制器（116） 具有适于提供电子的发射极尖端的场致发射体（5）; 提取器电极（8），适于从发射极尖端电极提取电子束; 位于发射极径向外侧的抑制电极（9）; 以及设置在抑制电极的径向外侧的辅助发射电极（16），并被设置为用于向光轴发射电子的热电子发射器。 在正常操作和清洁操作期间，抑制电极相对于提取器电极分别处于第一和第二电位。

公开(公告)号：JP2012089506A

公开(公告)日：2012-05-10

申请号：JP2011243906

申请日：2011-10-19

Applicant: Ict Integrated Circuit Testing Ges Fuer Halbleiterprueftechnik Mbh ,  アイシーティー インテグレーテッド サーキット テスティング ゲゼルシャフト フィーア ハルプライタープリーフテヒニック エム ベー ハー

Inventor： LANIO STEFAN DR ,  FROSIEN JUERGEN

IPC: H01J37/073 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J37/06 ,  H01J37/08 ,  H01J37/09 ,  H01J37/16 ,  H01J2237/06375

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the resolution of charged particle beam devices.SOLUTION: An emitter assembly for emitting a charged particle beam along an optical axis is provided. The emitter assembly housed in a gun chamber (20) includes: an emitter (5) which has an emitter tip (15) that is positioned at a first plane perpendicular to the optical axis, and which is configured to be biased to a first potential; and an extractor (112) which has an opening that is positioned at a second plane perpendicular to the optical axis, and which is configured to be biased to a second potential, where the second plane has a first distance from the first plane of 2.25 mm or above.

Abstract translation: 要解决的问题：提高带电粒子束装置的分辨率。 提供了一种用于沿光轴发射带电粒子束的发射器组件。 容纳在枪室（20）中的发射器组件包括：发射器（5），其具有位于垂直于光轴的第一平面处的发射极尖端（15），并且被配置为偏置到第一电位 ; 以及提取器（112），其具有位于垂直于光轴的第二平面处的开口，并且被配置为被偏置到第二电位，其中第二平面具有距离第一平面2.25mm的第一距离 或以上。 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT