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    滤光器的制造方法
    23.
    发明公开
    滤光器的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN102137951A

    公开(公告)日：2011-07-27

    申请号：CN200980134065.2

    申请日：2009-09-14

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 塩野一郎 ,  佐藤寿彦 ,  富樫靖久 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

    IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  G02B5/20

    CPC classification number: C23C14/0078 ,  C03C17/001 ,  C03C2218/31 ,  H01J37/32082

    Abstract: 本发明提供一种滤光器的制造方法，该制造方法通过在薄膜形成前除去因清洗而附着于基板表面的异物来制造具有良好膜质的滤光器。通过进行使用含有水分的溶液对基板S进行清洗的清洗工序P1、利用氧气的等离子体对经清洗工序P1进行清洗的基板S的表面进行等离子体处理的前处理工序P3、以及在经前处理工序P3进行了等离子体处理的基板S的表面形成薄膜的薄膜形成工序(P4、P5)，能够有效除去附着在基板表面的异物。另外，在前处理工序P3中，向产生等离子体的区域仅导入氧气，且使所导入的氧气流量多于在薄膜形成工序中所导入的氧气流量，从而在薄膜形成工序(P4、P5)之前有效去除在清洗工序中通过OH基键附着在基板S表面的异物、防止脱膜部的发生。

    光学薄膜沉积装置及光学薄膜的制造方法
    24.
    发明公开
    光学薄膜沉积装置及光学薄膜的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN101861408A

    公开(公告)日：2010-10-13

    申请号：CN200980100991.8

    申请日：2009-08-17

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 长江亦周 ,  姜友松 ,  塩野一郎 ,  清水匡之 ,  林达也 ,  古川诚 ,  村田尊则

    IPC: C23C14/22

    CPC classification number: C23C14/22 ,  C23C14/083 ,  C23C14/10 ,  C23C14/221 ,  C23C14/225 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/3132

    Abstract: 本发明提供一种能够制造具有良好的光学特性的光学薄膜的光学薄膜沉积装置，以及制造成本低廉而且具有良好的光学特性的光学薄膜的制造方法。在真空容器(10)内向基体(14)沉积沉积物质的光学薄膜沉积装置具有：圆顶形的基体保持单元(12)，其设置在真空容器(10)内，用于保持基体(14)；旋转单元，其使基体保持单元(12)旋转；沉积单元(34)，其与基体(14)相对设置；离子源(38)，其向基体(14)照射离子；以及中和器(40)，其向基体(14)照射电子。离子源(38)被设置在下述位置，即，所述位置是使从离子源(38)照射离子的轴线、与相对于基体(14)的表面的垂线之间的角度为8°以上40°以下，并使基体保持单元的旋转轴中心和离子源(38)的中心之间的垂直方向的距离、与基体保持单元(12)的直径之比为0.5以上1.2以下的范围。

    成膜方法和成膜装置
    26.
    发明公开
    成膜方法和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN106256927A

    公开(公告)日：2016-12-28

    申请号：CN201510711369.8

    申请日：2015-10-28

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 石田将崇 ,  林达也 ,  菅原卓哉 ,  我妻伸哉 ,  宫内充祐 ,  姜友松 ,  长江亦周

    IPC: C23C14/34

    Abstract: 本发明提供成膜方法和成膜装置。本发明的方法是下述成膜方法：通过将施加有电压的多个基板依次导入成膜区域内的规定位置，成膜区域是利用溅射放电的溅射等离子体从靶材释放出的溅射粒子所到达的区域，由此使溅射粒子到达基板的表面并堆积，并进行使溅射等离子体中的离子撞击基板或溅射粒子的堆积物的等离子体处理，形成薄膜，其中，在形成于具有排气系统的真空容器内的成膜区域内，进行溅射粒子的堆积和基于溅射等离子体的等离子体处理而形成中间薄膜，然后通过使基板保持器旋转而使基板移动至被配置成与成膜区域在空间上分离的反应区域内，进行使溅射等离子体之外的其他等离子体中的离子撞击中间薄膜的等离子体再处理，形成薄膜。

    薄膜的成膜方法和成膜装置
    27.
    发明公开
    薄膜的成膜方法和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN105307784A

    公开(公告)日：2016-02-03

    申请号：CN201580000240.4

    申请日：2015-05-01

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 佐守真悟 ,  高濑慎一 ,  菅原聪 ,  长江亦周 ,  姜友松

    IPC: B05D3/12 ,  B05C9/10

    CPC classification number: B05B17/04 ,  B05B9/04 ,  B05B13/0221 ,  B05B14/20 ,  B05B16/60 ,  B05D1/02 ,  B05D3/0493 ,  B05D5/083 ,  B05D2203/35 ,  C03C17/30 ,  C03C2217/76 ,  C03C2218/15

    Abstract: 本发明提供一种以低成本成膜出具备耐久性的薄膜的方法。该成膜方法使用成膜装置(1)。该装置(1)包括：基板(100)配置于内部下方的真空容器(11)、对该容器(11)内进行排气的真空泵(15)、设置于容器(11)外部且储藏成膜剂溶液(21)的储藏容器(23)、一端具有成为可排出成膜剂溶液(21)的排出部(19)的喷嘴(17)、加压储藏容器(23)内所储藏的成膜剂溶液(21)的液面的加压单元(气体供给源(29)等)。使用由2种以上材料构成的溶液作为成膜剂溶液(21)，所述溶液包含第1材料(S1)和具有高于该S1的蒸汽压(P1)的蒸汽压(P2)的第2材料(S2)，且第1材料的浓度为0.01重量％以上。对于该成膜剂溶液(21)，在P2以上的压力(其中，不包括高于P2一个数量级以上的压力)的气氛下，以0.05～0.3MPa的排出压将其排出至基板上。

    测量装置和成膜装置
    30.
    发明公开
    测量装置和成膜装置 有权

    公开(公告)号：CN104350380A

    公开(公告)日：2015-02-11

    申请号：CN201280073844.8

    申请日：2012-09-10

    Applicant: 株式会社新柯隆

    Inventor： 佐井旭阳 ,  日向阳平 ,  大泷芳幸 ,  姜友松

    IPC: G01N21/84 ,  C23C14/24 ,  C23C16/52 ,  G01B11/06 ,  G01N21/27

    CPC classification number: G01B11/0633 ,  C23C14/30 ,  C23C14/54 ,  G01N21/8422

    Abstract: 本发明提供一种能够实现更高速的测量并能够获得更高精度的测量结果的装置，来作为对薄膜的光学特性值和光学膜厚值中的至少一个值进行测量的测量装置。对形成于监视基板(Sm)的薄膜的包括光学特性值和光学膜厚值中的至少一方的值进行测量的测量装置(101)具备：光信号产生机构(10)，其将多个LED单元(11a～11f)利用光学滤光镜所生成的单色光调制成对于每个光源单元互不相同的设定频率，并发出多个光信号；照射机构(20)，其对该多个光信号进行复用而生成复用信号，并通过光纤将复用信号向监视基板(Sm)照射；检测机构(30)，其通过光纤检测由监视基板(Sm)反射的复用信号并输出电信号；信号分离机构(50)，其对检测机构(30)所输出的电信号实施带通滤波器的滤波处理，从该电信号中将每个设定频率的成分信号分离出来；以及计算机构(80)，其基于分离出来的每个设定频率的成分信号，按照每个设定频率计算出成分信号所表示的光学特性值，该测量装置同时测量多个所述光学特性值。

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