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公开(公告)号：CN1534289B
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：CN200410008570.1
申请日：2004-03-24
Applicant: 株式会社理学
Inventor： 表和彦
IPC: G01N23/207
Abstract: 一种X射线衍射装置，从入射光学系统(22)射出的X射线入射到被支撑在试样支撑机构(24)上的试样(60)上，来自此处的衍射X射线被受光光学系统(26)检测到。入射光学系统具有X射线源(66)和多层膜反射镜(61)。试样支撑机构的姿势控制机构(36、40)对按照使试样的法线(61)平行于第1旋转中心线(32)的方式将试样维持在第1姿势的状态、按照与之垂直的方式维持在第2姿势的状态进行切换。当将试样维持在第1姿势而使受光光学系统绕第1旋转中心线旋转时，就可以进行面内衍射测定。另一方面，当将试样维持在第2姿势而使受光光学系统同样地旋转时，就可以进行面外衍射测定。因此利用本发明的X射线衍射装置可以进行面内衍射测定。
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公开(公告)号：CN116868048B
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202180076558.6
申请日：2021-11-01
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。
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公开(公告)号：CN113049615B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202011565438.6
申请日：2020-12-25
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/201
Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤，在所述理论散射强度取得步骤中，通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献，所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献，所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。
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公开(公告)号：CN110223797B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN201910150250.6
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社理学
Abstract: 本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置，其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备：线状X射线源；多层膜镜；以及并排反射镜，其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合，所述X射线产生装置的特征在于，多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源，并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状，并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧，在俯视观察下，所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。
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公开(公告)号：CN116868048A
公开(公告)日：2023-10-10
申请号：CN202180076558.6
申请日：2021-11-01
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/223
Abstract: 本发明的课题在于提供一种分析灵敏度高且分析速度快的全反射荧光X射线分析装置。本发明的全反射荧光X射线分析装置具有：X射线源，其具有电子束焦点，该电子束焦点的与试样表面平行且与X射线照射方向正交的方向的有效宽度大于所述照射方向的尺寸；分光元件，其所述正交的方向的有效宽度大于电子束焦点，且具有沿所述照射方向弯曲的面；及检测器，其沿所述正交的方向排列多个而配置，测量自照射有利用所述分光元件所集光的所述X射线的所述试样产生的荧光X射线的强度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116804639A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310292387.1
申请日：2023-03-23
IPC: G01N23/207 , G01N23/20008
Abstract: 提供一种不管周围的状态如何都能够对单晶状态的试样的损伤进行测定的损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置。包含如下步骤：将细束的白色X射线照射到单晶状态的试样的步骤(S03)；检测通过照射产生的衍射光斑的步骤(S05)；算出与检测出的衍射光斑的特定方向的强度分布的方差有关的系数的步骤(S06)；以及从所算出的系数确定试样的损伤状态的步骤。“单晶状态”是指材料由单晶或粗大晶粒形成的状态。
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公开(公告)号：CN114509452A
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202111230312.8
申请日：2021-10-21
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/04 , G01N23/046
Abstract: 本发明提供一种成像型X射线显微镜，即使是高能量的X射线也能够增大数值孔径，即使在实验室内也能够以足够的强度得到放大像。具备：包含微焦点且高输出的X射线源(120)和将辐射的X射线向样品聚光照射的聚光镜(130)的X射线照射部；保持样品的样品保持部；将透过了样品的X射线成像的反射镜型X射线镜头部(150)；以及取得所成像的X射线像的摄像部(190)，构成聚光镜(130)以及反射镜型X射线镜头部(150)的各镜具有形成有对特定波长的X射线具有高的反射率的多层膜的反射面。
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公开(公告)号：CN113049615A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202011565438.6
申请日：2020-12-25
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/201
Abstract: 本发明提供一种通过抑制对系统大小的制约的方法来计算理论散射强度散射测量分析方法、散射测量装置、及信息存储介质。所述散射测量分析方法包括从多粒子系散射体的结构模型取得理论散射强度的理论散射强度取得步骤，在所述理论散射强度取得步骤中，通过第1计算、第2计算中与距离r对应的至少一者取得多个散射体中散射体m和与该散射体m距离r的散射体n的组合对所述理论散射强度的贡献，所述第1计算根据各自的散射因子fm(q)、fn*(q)及中心间距离rmn计算散射体m和散射体n的贡献，所述第2计算由第1代表值代替所述散射体n的散射因子fn*(q)并且由固定值代替距离r处存在的散射体数量的概率密度函数。
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公开(公告)号：CN111527400A
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：CN201880084358.3
申请日：2018-09-05
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/20016 , G01N23/207
Abstract: 本发明的X射线检查装置具备：试样配置部(11)，配置作为检查对象的试样；试样配置部定位机构(30)，使试样配置部(11)移动；测角仪(20)，包括独立回转的第一、第二回转部件(22、23)；X射线照射单元(40)，搭载于第一回转部件(22)；以及二维X射线检测器(50)，搭载于第二回转部件(23)。而且，试样配置部定位机构(30)包括以在测定点P与θs轴及θd轴正交并且在水平方向上延伸的χ轴为中心，使试样配置部(11)以及 轴旋转的χ旋转机构(35)。
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公开(公告)号：CN106461579B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201580019383.X
申请日：2015-01-14
Applicant: 株式会社理学
IPC: G01N23/207
Abstract: 针对从试样(S)衍射来的聚光X射线(2)，根据布拉格条件用单色仪(60)仅使特定波长的X射线反射，进而通过受光狭缝(30)，利用X射线检测器(20)进行检测。单色仪(60)做成装卸自如，配置于使来自试样(S)的聚光X射线(2)直接地收敛时的聚光点(2a)与该试样(S)之间。此时，单色仪(60)尽可能接近上述聚光点(2a)。另外，单色仪(60)由内部的栅格面间隔从一端到另一端连续地变化的多层膜反射镜构成。
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