公开(公告)号：KR1020100042586A

公开(公告)日：2010-04-26

申请号：KR1020090093203

申请日：2009-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  모토다기미오 ,  시노자키겐야

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B65G47/91 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67784 ,  B65G47/911 ,  B65G49/061 ,  B65G49/065 ,  G02F1/1303

Abstract: PURPOSE: A substrate transferring device and a substrate transferring method are provided to secure a substrate valid area by maintain the substrate without shaking. CONSTITUTION: A lifting stage lifts a substrate with different height. A pair of substrate carriers(26) are installed to move along a guide rail. A substrate maintaining unit(24) is formed more than the length of a substrate valid area in the edge of the substrate, and absorbs and maintains the edge of the substrate to be freely detached. An alignment unit(65) moves the substrate into a preset position by contacting a centering unit with a side end of the substrate on the substrate maintaining unit.

Abstract translation: 目的：提供基板转印装置和基板转印方法，以通过保持基板而不晃动来固定基板有效区域。 构成：升降台提升不同高度的基材。 一对基板载体（26）被安装成沿导轨移动。 基板保持单元（24）的形成比基板的边缘的基板有效区域的长度大，吸收并保持基板的边缘自由分离。 对准单元（65）通过使定心单元与基板保持单元上的基板的侧端接触来将基板移动到预定位置。

公开(公告)号：KR100821411B1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：KR1020020021907

申请日：2002-04-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: G02F1/13

Abstract: 장치구성상의 문제를 발생하지 않고, 높은 생산성과 소형의 풋프린트를 겸비할 수 있으며, 더구나 장치의 길이를 비교적 짧게 할 수 있는 복수의 처리유니트를 구비한 처리장치를 제공하는 것이다.
처리장치(100)는, 기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서 소정의 액처리가 이루어지는 액처리유니트(21,23,24)와, 액처리유니트(21,23,24)의 각각에 대응하여 설치되어, 각 액처리후에 소정의 열적처리를 하는 복수의 열적처리유니트가 집약되어 설치된 열적처리유니트 섹션(26,27,28)과, 액처리유니트(21,23,24)로부터 반출된 기판(G)을 각 열적처리유니트 섹션으로 반송하는 복수의 반송장치(33,37,40)를 구비하며, 액처리유니트(21,23,24) 및 열적처리유니트 섹션(26,27,28)은, 실질적으로 처리의 순서대로 또한 소정간격을 두고 실질적으로 2열(2a,2b)로 배치되며, 열적처리유니트의 적어도 일부가 이들 2열의 사이에 배치되어 있다.

公开(公告)号：KR100687393B1

公开(公告)日：2007-02-26

申请号：KR1020010014353

申请日：2001-03-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다기미오

IPC: H01L21/304

Abstract: 레지스트가 도포된 기판을 처리하는 장치는 레지스트막이 형성된 기판을 소정의 위치에서 유지한 상태에서 기판을 감압, 건조하고 또한 기판의 가장자리의 레지스트를 제거할 수 있는 구조를 구비한다. 이에 의해 기판에 대한 전사발생의 방지 및 택트타임의 단축을 가능하게 하는 것이다.

Abstract translation: 一种用于处理涂覆有抗蚀剂基材是压敏基底，同时保持在预定的位置形成抗蚀剂膜的基板，干燥，并且还具有能够除去在基板的边缘上的抗蚀剂的结构。 从而防止在衬底上产生传输并缩短生产节拍时间。

公开(公告)号：KR100283445B1

公开(公告)日：2001-10-24

申请号：KR1019950029397

申请日：1995-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사

IPC: B05C5/00

Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로,
위쪽 개구를 가지는 윗벽과 아래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키 는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.

公开(公告)号：KR1019990045032A

公开(公告)日：1999-06-25

申请号：KR1019980047283

申请日：1998-11-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.

公开(公告)号：KR101782192B1

公开(公告)日：2017-09-26

申请号：KR1020130068528

申请日：2013-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시이다카유키 ,  모토다기미오 ,  데라다다카시 ,  야마시타아츠시 ,  츠루타시게토

IPC: B05C11/10 ,  B05C5/02

CPC classification number: B05C5/0258 ,  B05C5/0254 ,  H01L21/6715 ,  Y10T137/0318

Abstract: 노즐에의도포액의충전작업을효율화시키는것을과제로한다. 실시형태에따른도포장치는, 노즐과, 이동기구와, 압력조정부와, 압력제어부를구비한다. 노즐은, 도포액이저류되는저류실과, 저류실에연통하는슬릿형의유로를구비하고, 유로의선단에형성되는토출구로부터도포액을토출한다. 이동기구는, 노즐과기판을기판의표면을따라상대적으로이동시킨다. 압력조정부는, 저류실의내부의압력을조정한다. 압력제어부는, 압력조정부를제어하여저류실의내부의압력을조정한다. 압력제어부는, 압력조정부를제어하여, 저류실의내부를부압으로하고, 또한, 부압으로한 저류실의내부의압력을서서히저하시키면서, 저류실의내부에도포액을충전한다.

Abstract translation: 有必要使喷嘴上的涂布液的填充操作更有效。 根据该实施例的包装装置包括喷嘴，移动机构，压力调节部和压力控制部。 喷嘴具有储存涂布液的储藏室和与储藏室连通的狭缝状的流路，并且从形成在流路的前端的喷出口喷出涂布液。 移动机构沿着基板的表面相对地移动喷嘴和基板。 压力调节部分调节储存室内的压力。 压力控制单元控制压力调节单元以调节保持室内的压力。 压力控制部分控制压力调节部分，以逐渐降低贮存室内的设定为负压的贮存室的内部压力，同时将贮存室中的涂布液充入。

公开(公告)号：KR101052977B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020050017189

申请日：2005-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오쓰카요시타카 ,  사카이미쓰히로 ,  나카오겐 ,  모토다기미오

IPC: H01L21/304

Abstract: 피처리기판의 두께의 불균일에 대하여 스테이지 상의 피처리기판과 도포노즐의 토출구와의 사이의 갭을 일정하게 유지하는 갭 관리를 효율적으로 하는 것을 과제로 한다.
해결수단으로 투광부(152)는, 연직방향에 분포하는 평행광의 광 빔(LB)을 수광부(154)를 향하여 수평으로 투광한다. 수광부(154)는, 투광부(152)로부터의 광 빔(LB)을 1차원 CCD(154a)에서 수광한다. 이 일차원 CCD(154a)에서의 최하단의 광 빔 수광위치는, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있을 때는 기판(G)의 윗면의 높이 위치 H
A 에 해당하고, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있지 않을 때는 흡착유지부(150)의 윗면의 높이 위치 H
B 에 해당한다. 계측제어연산부(156)는, 수광부(154)에서의 최하단 광 빔 수광위치(H
A , H
B )를 산출하여, 양 수광위치 사이의 고저차(H
A -H
B )을 구하여 이것을 상기 기판(G)의 두께의 측정값(TK)으로 하는 것이다.

Abstract translation: 存在这样的问题：使待处理基板的待处理基板与涂布喷嘴的排出口之间的间隙相对于待处理基板的厚度不均匀性保持恒定水平的间隙管理是有效的。

公开(公告)号：KR101018909B1

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：KR1020030074140

申请日：2003-10-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  이와사키다쓰야

IPC: H01L21/027

Abstract: 스테이지(100)상에 기판(G)이 얹어 놓여져 있는 상태에서, 고압가스공급원으로부터의 고압의 공기를, 가스공급관(118) 및 통형상지지체(114)내의 통풍로(114a)를 통해 가스토출부(116)로부터 소정의 압력으로 토출시킴으로써, 기판(G)을 지지핀(108)으로부터 실질적으로 뜨게 한다. 가스토출부(116)가 호른형으로 형성되어 있기 때문에, 기판(G)의 하면에 닿은 공기는 소용돌이류를 생기는 일없이 순조롭게 빈틈(g)을 통해 밖으로 빠져나간다. 이 구성에 의해, 피처리기판에 흠집이나 문지른 흔적을 남기는 일없이, 또한 파티클을 생기는 일없이, 기판의 위치맞춤을 안전하고 정확하게, 나아가서는 효율적으로 할 수 있다.

公开(公告)号：KR100586119B1

公开(公告)日：2006-08-10

申请号：KR1019980047283

申请日：1998-11-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
기판처리장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판처리시에 있어서는 덮개의 개폐를 신속히 행할 수 있고, 보수관리시에 있어서는 장치를 분해하지 않고 간편하고 안전하게 작업할 수 있는 기판처리장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
기판처리장치는, 기판재치대와, 상부 개구를 가지며, 상기 기판재치대를 둘러싸는 컵부와, 이 컵의 상부개구를 개폐하는 덮개와, 이 덮개를 지지하는 지지아암과, 이 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 1 피스톤과, 이 제 1 피스톤을 승강안내하는 제 1 실린더를 가진 제 1 승강기구와, 상기 지지아암을 직접 또는 간접으로 지지하는 제 2 피스톤과, 이 제 2 피스톤을 승강안내하는 제 2 실린더를 가진 제 2 승강기구와, 상기 제 1 및 제 2 실린더에 압력유체를 각각 공급하여, 상기 제 1 및 제 2 실린더로부터 압력유체를 각각 배기하는 구동회로와, 이 구동회로의 동작을 각각 제어하는 제어기구를 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
액정 디스플레이(LCD)용 유리기판과 같은 대형기판을 처리하기 위한 처리공간을 규정하는 컵과 덮개를 구비한 기판처리장치에 사용됨.

公开(公告)号：KR100375036B1

公开(公告)日：2003-05-09

申请号：KR1019970043254

申请日：1997-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  가와사키데쓰

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05B15/52 ,  B05C5/0254 ,  B05C9/02 ,  Y10T156/1798

Abstract: Disclosed is an apparatus for forming a coating film for semiconductor processing, including a holder for holding a substrate, a coating solution supply device arranged to face one main surface of the substrate held by the holder and provided with a discharge port for supplying a coating solution onto the one main surface of the substrate, the coating solution forming a band-like stream having a width smaller than that of the substrate, a moving device for moving the coating solution supply device in parallel and relative to the substrate held by the holder to form a coating region and a non-coating region on the one main surface of the substrate, and a clearance retaining device for maintaining constant the distance between the discharge port of the coating solution supply device and the one main surface of the substrate.

Abstract translation: 本发明公开了一种用于形成用于半导体加工的涂膜的设备，该设备包括用于保持基板的保持器，涂覆溶液供应装置，该涂覆溶液供应装置被布置为面对由保持器保持的基板的一个主表面并且设置有用于供应涂覆溶液 在所述基板的一个主面上形成宽度比所述基板的宽度小的带状流的涂敷液，使所述涂敷液供给装置相对于所述保持架保持的所述基板平行移动的移动装置， 在基板的一个主表面上形成涂覆区域和非涂覆区域;以及间隙保持装置，用于保持涂覆溶液供给装置的排出口与基板的一个主表面之间的距离恒定。