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    도포장치및그방법
    3.
    发明公开
    도포장치및그방법 失效

    公开(公告)号：KR1019960010093A

    公开(公告)日：1996-04-20

    申请号：KR1019950029397

    申请日：1995-09-07

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사

    IPC: B05C5/00

    Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로, 위쪽 개구를 가지는 윗쪽과 이래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대 를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할 수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.

    도포장치및그방법
    6.
    发明授权
    도포장치및그방법 失效
    涂抹器及其方法

    公开(公告)号：KR100283445B1

    公开(公告)日：2001-10-24

    申请号：KR1019950029397

    申请日：1995-09-07

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사

    IPC: B05C5/00

    Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로,
    위쪽 개구를 가지는 윗벽과 아래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키 는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.

    기판 반송 처리 장치
    7.
    发明公开
    기판 반송 처리 장치 有权
    基板运输和加工设备

    公开(公告)号：KR1020100042587A

    公开(公告)日：2010-04-26

    申请号：KR1020090093227

    申请日：2009-09-30

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오타요시하루 ,  모토다기미오 ,  시노자키겐야

    IPC: H01L21/677 ,  B65G49/06 ,  B65G47/91 ,  G02F1/13

    CPC classification number: H01L21/67784 ,  B65G47/911 ,  B65G49/061 ,  B65G49/065 ,  G02F1/1303

    Abstract: PURPOSE: A substrate transferring and processing device is provided to suppress a process failure by uniformizing the thickness of a resist layer. CONSTITUTION: A process solution supply nozzle(23) supplies a process solution from a nozzle hole to a substrate. A substrate carrier(50) moves along the guide rail. A substrate maintaining unit(24) absorbs and maintains the edge of the substrate to be freely detached. A support unit is arranged on the same position as the nozzle hole of the process solution supply nozzle in a substrate transferring direction and supports the substrate carrier under the substrate maintaining unit.

    Abstract translation: 目的：提供基板转印和处理装置，通过使抗蚀剂层的厚度均匀化来抑制处理失败。 构成：工艺溶液供应喷嘴（23）将工艺溶液从喷嘴孔提供给基材。 基板载体（50）沿导轨移动。 基板保持单元（24）吸收并维持基板的边缘以自由分离。 支撑单元布置在与基板传送方向上的处理剂供给喷嘴的喷嘴孔相同的位置上，并且在基板保持单元下方支撑基板载体。

    처리 시스템
    8.
    发明公开
    처리 시스템 失效
    加工系统

    公开(公告)号：KR1020060043313A

    公开(公告)日：2006-05-15

    申请号：KR1020050017189

    申请日：2005-03-02

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오쓰카요시타카 ,  사카이미쓰히로 ,  나카오겐 ,  모토다기미오

    IPC: H01L21/304

    CPC classification number: G03F7/16 ,  G01B11/06 ,  H01L21/67253

    Abstract: 피처리기판의 두께의 불균일에 대하여 스테이지 상의 피처리기판과 도포노즐의 토출구와의 사이의 갭을 일정하게 유지하는 갭 관리를 효율적으로 하는 것을 과제로 한다.
    해결수단으로 투광부(152)는, 연직방향에 분포하는 평행광의 광 빔(LB)을 수광부(154)를 향하여 수평으로 투광한다. 수광부(154)는, 투광부(152)로부터의 광 빔(LB)을 1차원 CCD(154a)에서 수광한다. 이 일차원 CCD(154a)에서의 최하단의 광 빔 수광위치는, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있을 때는 기판(G)의 윗면의 높이 위치 H
    A 에 해당하고, 흡착유지부(150) 상에 기판(G)이 배치되어 있지 않을 때는 흡착유지부(150)의 윗면의 높이 위치 H
    B 에 해당한다. 계측제어연산부(156)는, 수광부(154)에서의 최하단 광 빔 수광위치(H
    A , H
    B )를 산출하여, 양 수광위치 사이의 고저차(H
    A -H
    B )을 구하여 이것을 상기 기판(G)의 두께의 측정값(TK)으로 하는 것이다.

    반송장치
    9.
    发明授权
    반송장치 失效
    传送装置

    公开(公告)号：KR100814576B1

    公开(公告)日：2008-03-17

    申请号：KR1020020025467

    申请日：2002-05-09

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

    IPC: G02F1/13

    Abstract: 반송장치로 기판(G)을 반송시킬 때, 반송롤러 상의 기판 양단을 가압롤러에 의해 가압시키면서 반송하고 있기 때문에, 기판 양단과 반송롤러의 사이에서의 미끄러짐을 방지할 수 있어 반송시간의 지연이나 파티클의 발생을 방지할 수 있다. 또한 반송롤러의 재치부(載置部)의 지름보다도 큰 지름을 구비하는 지지롤러를 설치하여 기판을 산 모양 형태로 반송시킴으로써 기판의 휘어짐을 방지할 수 있다. 특히, 반송 도중에 있어서 현상액(現像液)이나 린스액 등의 처리액이 기판의 중앙부근에 잔류하는 문제를 해소할 수 있어 건조처리를 확실하게 할 수 있다.

    기판 얼라이먼트장치, 기판처리장치 및 기판반송장치
    10.
    发明公开
    기판 얼라이먼트장치, 기판처리장치 및 기판반송장치 失效
    带有类似气体放电部件的基板对准装置，基板处理装置和基板传送装置

    公开(公告)号：KR1020040036610A

    公开(公告)日：2004-04-30

    申请号：KR1020030074140

    申请日：2003-10-23

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  이와사키다쓰야

    IPC: H01L21/027

    Abstract: PURPOSE: A substrate alignment apparatus, a substrate treatment apparatus and a substrate transfer apparatus are provided to align safely and exactly a substrate to be treated without damage of the substrate by floating substantially the substrate from a support pin using a horn-like gas discharge part. CONSTITUTION: A substrate alignment apparatus includes a plurality of supporters, a horn-like gas discharge part, a position determining part and a support pin. The plurality of supporters(114) are discretely arranged to support a substrate to be treated(G) in a nearly horizontal state. The horn-like gas discharge part(110) is installed on each supporter to float substantially the substrate. The position determining part is used for aligning exactly the substrate. The support pin(108) is surrounded by the gas discharge part on the supporter to load finally the substrate.

    Abstract translation: 目的：提供一种基板对准装置，基板处理装置和基板转印装置，用于使基板处理不会损坏基板，使基板从支撑销上大致漂浮，使用喇叭状气体放电部 。 构成：衬底对准装置包括多个支撑器，喇叭状气体放电部，位置确定部和支撑销。 多个支撑体（114）被离散地布置成在几乎水平的状态下支撑待处理基板（G）。 角状气体排出部（110）安装在每个支撑件上以基本上浮动地衬底。 位置确定部分用于精确对准衬底。 支撑销（108）被支撑件上的气体排出部分包围以最终加载基板。

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