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    기판처리장치
    1.
    发明授权
    기판처리장치 失效

    公开(公告)号：KR100330088B1

    公开(公告)日：2002-09-09

    申请号：KR1019950037308

    申请日：1995-10-26

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 다테야마기요히사 ,  히로세오사무

    IPC: H01L21/08

    Abstract: 본 발명은, 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처피체를 가열하는 가열수단과, 얹어놓는대 표면으로부터 돌출함으로써 피처리체와 얹어놓는대와의 사이에 간격을 마련하여서 피처리체를 지지하는 복수의 지지부재를 구비하고, 각 지지부재의 높이는, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 가변인 기판처리장치이다.
    또, 본 발명은, 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처리체를 가열하는 가열수단을 구비하고, 얹어놓는대의 표면은, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 다른 방사형태인 영역을 가지는 기판 처리장치이다.

    도포장치및그방법
    4.
    发明公开
    도포장치및그방법 失效

    公开(公告)号：KR1019960010093A

    公开(公告)日：1996-04-20

    申请号：KR1019950029397

    申请日：1995-09-07

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사

    IPC: B05C5/00

    Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로, 위쪽 개구를 가지는 윗쪽과 이래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대 를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할 수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.

    기판세정처리장치
    7.
    发明授权
    기판세정처리장치 失效
    半导体基板清洗装置

    公开(公告)号：KR100230694B1

    公开(公告)日：1999-11-15

    申请号：KR1019930008470

    申请日：1993-05-18

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 다테야마기요히사

    IPC: H01L21/304

    CPC classification number: H01L21/67173 ,  B08B1/007 ,  B08B1/04 ,  B08B11/02 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

    Abstract: 기판 세정처리장치에서는, 기판을 회전(spin) 판부재와 함께 회전시키는 모터와, 회전 판부재와 웨이퍼 하면과의 상호간에 공간이 형성되도록 웨이퍼를 유지하는 유지돌기와, 웨이퍼 상면에 세정액을 뿌리는 제트노즐과, 웨이퍼 상면에 회전브러시로 세정하는 회전 브러시와, 웨이퍼 하면의 질소가스 또는 순수한 물을 내뿜는 유체 취출기구와, 상호간 공간을 배기하는 배기기구를 가지며, 유체 취출기구의 유체통로 및 배기기구의 배기통로가 모터의 회전구동축의 안에 형성되고, 상호간 공간에 열결되어 통하도록 되어 있다.

    도포장치 및 도포방법
    8.
    发明授权
    도포장치 및 도포방법 失效
    装置和涂层方法

    公开(公告)号：KR100158211B1

    公开(公告)日：1999-02-18

    申请号：KR1019910015595

    申请日：1991-09-06

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 코니시노부오 ,  다카모리히데유키 ,  아키모토마사미 ,  다테야마기요히사

    IPC: H01L21/20

    CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719

    Abstract: 도포장치는 단일하우징내 배열설치되고, 웨이퍼를 지지하며 또한 회전시키는 2 개의 스핀척을 구비한다.
    양 스핀척 사이에는, 상기 노즐내의 굳어진 상기 도포액을 배출하기 위한 대기 트렌치가 배열설치된다.
    웨이퍼는 상기 하우징외에 배열설치된 단일의 반송기구에 의하여 상기 스핀척에 대하여 공급/배열된다.
    도포액공곱기구는 상기 스핀척에 지지된 웨이퍼상에 도포액을 토출하기 위한 단일 노즐을 포함한다.
    상기 노즐은 이동아암에 의하여 상기 스핀척 사이에서 이동시킨다.
    상기 양스핀척에 있어서의 처리 사이클은 동일 처리시간이고 또한 서로 반사이클씩 어긋나게 하여 설정된다.
    상기 노즐은 상기 스핀척에 지지된 웨이퍼상에 도포액을 토출하는때 이외에는 상기 대기 트렌치상에 배치된다.

    처리장치 및 처리방법
    9.
    发明公开
    처리장치 및 처리방법 失效
    处理装置和处理方法

    公开(公告)号：KR1019960008976A

    公开(公告)日：1996-03-22

    申请号：KR1019950023817

    申请日：1995-08-02

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

    Inventor： 다테야마기요히사 ,  노무라마사후미 ,  도모에다다카유키

    IPC: H01L21/02

    CPC classification number: B05C11/1039 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/08 ,  G03F7/3021 ,  Y10S134/902

    Abstract: 피처리체를현상액으로현상하는현상액처리장치는, 피처리체를회전가능하게유지하는유지부재와, 피처리체에현상액을공급하는현상액공급노즐과, 피처리체로공급된현상액을흡인하는현상액흡인노즐과, 현상액공급노즐을피처리체위쪽으로이동시키는현상액공급노즐이동기구와, 현상액흡인노즐을피처리체위쪽으로이동시키는현상액흡인노즐이동기구를구비하고, 현상액공급노즐을이동시켜서현상액을피처리체에공급한후, 현상액흡인노즐을이동시켜서피처리체상의현상액을흡인한다.

    Abstract translation: 用于开发与显影溶液在加工对象物的显影剂装置被保持，其旋转地保持加工对象部件，以及一个显影液吸嘴和显影液供给喷嘴供给的显影液被处理，抽吸供给显影剂体被处理，并且 具有用于显影液供给喷嘴移动机构为显影液供给喷嘴移动到目标位置，移动显影溶液吸引喷嘴朝向目标位置并且，通过移动显影液供给喷嘴的显影剂吸嘴移动机构后供给显影液的待处理 ，显影剂吸嘴移动以吸引待处理物体上的显影剂。

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