公开(公告)号：KR2020010001412U

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR2019990011852

申请日：1999-06-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정혁 ,  우창우 ,  윤명식 ,  김향란

IPC: B25B5/14

Abstract: 목적: 본고안은고주파플라즈마를이용한건식식각공정에서파생되는정전기유도시에도핑거부저면에웨이퍼가부착되는것을방지할수 있는건식식각장치의클램프링을제공한다. 구성: 챔버내 척전극의상부면에안치된웨이퍼(WF)의외주측에지부를상부에서눌러고정하도록내주면에다수의핑거부(142)가형성된클램프링(140)을갖는건식식각장치에있어서, 상기핑거부(142) 저면을너얼링가공하여요철(142a)을형성함으로써웨이퍼(WF)와의접촉면적을줄일수 있다. 효과: 웨이퍼를눌러고정하는클램프링의핑거부저면을웨이퍼와의접촉면적을줄일수 있는동시에공간방전을속행시킬수 있는구조로개선하여정전기충전으로인한웨이퍼의부착을방지할수 있고, 이에따라서웨이퍼의클램프링 부착으로인해발생되던공정상의불량을해결할수 있어수율을양호하게확보할수 있다.

公开(公告)号：KR2020000021278U

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：KR2019990008968

申请日：1999-05-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정혁 ,  김경대 ,  김희덕 ,  이상열

IPC: H01L21/306

Abstract: 목적: 드라이에칭공정을행하는프로세싱챔버내에구비된상부전극의마모에따른교체작업을손쉽게할 수있는드라이에칭챔버의상부전극을제공한다. 구성: 드라이에칭을위한챔버설비의상부전극에있어서, 다수의가스분사홀이형성된내측상부전극과, 상기내측상부전극이중앙홀로삽입되는링 형상의몸체로이루어진외측상부전극으로구성되어, 상기내측상부전극만을별도로교체할수 있게한다. 상기의구성에서, 상기내측상부전극과외측상부전극은그 표면을애노다이징코팅처리하여구성하되, 상기내측상부전극과외측상부전극간의접촉부는도전가능한비코팅부로형성한다. 효과: 설비의보수작업및 부품교체시에내측상부전극만을해체하면되므로, 폴리머의축적및 마모등으로인한부품교체시에하나의몸체로된 상부전극전체를교체하던종래에비해, 작업자의노고가경감되며, 작업시간을단축하여설비가동시간을향상시켜생산성을증대시킬수 있고, 아울러설비의유지보수에필요한부품공급및 인력투입에소요되는비용을절감할수 있다.

公开(公告)号：KR1020000022645A

公开(公告)日：2000-04-25

申请号：KR1019990022541

申请日：1999-06-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정혁 ,  김희덕 ,  조정훈 ,  최종욱 ,  조성범 ,  이영구 ,  김진성 ,  이장은 ,  정주혁 ,  박선후 ,  이재현 ,  남신우

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01J37/32431 ,  C23C16/4583 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/54 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32642 ,  H01L21/32136 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/68735 ,  Y10T117/10

Abstract: PURPOSE: A reaction chamber is provided to suppress an impurity occurrence by preventing plasma from being penetrated into a rear side of a semiconductor wafer through a close contact of an edge ring and a semiconductor wafer. CONSTITUTION: An electrostatic chuck(200) absorbs a semiconductor wafer(100) through an electrostatic absorption. A lift pin(210) is penetrated and inserted into a center portion of the electrostatic chuck(100) to travel the semiconductor wafer(100) up and down on loading and unloading. An edge ring(240) is mounted on an upper edge of the electrostatic chuck(200) to fix the semiconductor wafer(100). A focus ring(280) guides a plasma formation area on an upper portion of the semiconductor wafer(100) to an edge portion of the semiconductor wafer(100) to form an even plasma formation area.

Abstract translation: 目的：提供一种反应室，通过边缘环和半导体晶片的紧密接触防止等离子体渗透到半导体晶片的后侧，从而抑制杂质发生。 构成：静电吸盘（200）通过静电吸收吸收半导体晶片（100）。 提升销（210）穿透并插入到静电卡盘（100）的中心部分中，以在装载和卸载时上下运动半导体晶片（100）。 边缘环（240）安装在静电卡盘（200）的上边缘上以固定半导体晶片（100）。 聚焦环（280）将半导体晶片（100）的上部的等离子体形成区域引导到半导体晶片（100）的边缘部分，以形成均匀的等离子体形成区域。

公开(公告)号：KR1019990085794A

公开(公告)日：1999-12-15

申请号：KR1019980018415

申请日：1998-05-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김상호 ,  박정혁

IPC: B25B13/00

Abstract: 본 발명은 특수한 원형형태의 로크너트를 직접적으로 체결 및 해체할 수 있도록 고안된 로크너트용 드라이버에 관한 것이다.
본 발명에 따른 로크너트용 드라이버는, 도 3에 도시한 바와 같이, 헤드(22)의 중심을 기준으로 방사상으로 서로 대칭되는 적어도 2개 이상의 너트홈체결돌기(25)가 헤드(22)에 고정되어 있으며, 상기 헤드(22)가 축(23)에 의하여 손잡이(24)에 연결되어서 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 원형형상으로 특수하게 형성된 로크너트(1)를 너트의 파손없이 용이하게 체결 및 해체할 수 있도록 함으로써 로크너트(1)의 손상을 방지하고, 반도체장치 제조설비의 유지, 보수를 원활하게 하는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019990074103A

公开(公告)日：1999-10-05

申请号：KR1019980007486

申请日：1998-03-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정혁 ,  홍형식

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명은 확산설비에 관한 것으로, 확산로 내부의 온도를 측정하는 열전대가 설비의 사전예방정비, 설비의 고장조치, 주변 설비의 진동에 따라 위치변화되던 것을 유동방지수단을 이용하여 열전대의 위치변화를 방지함으로서, 열전대의 위치변화에 따라 확산로 내부의 온도 측정값이 변화되어 정확한 공정진행이 이루어지지 않아 공정불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990069085A

公开(公告)日：1999-09-06

申请号：KR1019980003111

申请日：1998-02-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정혁 ,  김병현

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은, 웨이퍼를 고정시키는 클램프의 유동을 최소화시킨 반도체소자 제조용 식각장치의 클램프 고정용 어셈블리에 관한 것이다.
본 발명의 클램프 고정용 어셈블리는, 웨이퍼를 고정시키는 클램프의 유동을 방지할 수 있도록 상기 클램프의 고정홈에 삽입되는 단부를 나사체결이 가능하도록 구비시키는 플런저; 및 상기 클램프가 상기 플런저에 고정되도록 상기 플런저의 단부에 형성시킨 나사에 체결되도록 형성시키는 리테이너가 구비되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼를 고정시키는 클램프의 유동을 방지하여 이로 인한 불량을 최소화시킬 수 있음으로 인해 반도체소자의 제조의 생산성이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019990069084A

公开(公告)日：1999-09-06

申请号：KR1019980003110

申请日：1998-02-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박정혁 ,  김상호

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은 진공척과 고정링을 나사조임으로 체결하여 결합을 견고하게 하는 반도체소자 제조용 서셉터에 관한 것이다.
본 발명은, 웨이퍼를 진공흡착하여 고정시키는 진공척, 상기 진공척에 고정된 웨이퍼에 근접되어 발열함으로써 상기 웨이퍼를 가열시키는 히터 및 상기 히터의 내부에 상기 진공척을 고정시키는 고정링을 구비하여 이루어지는 반도체소자 제조용 서셉터에 있어서, 상기 진공척과 상기 고정링이 견고하게 체결되도록 상기 진공척과 상기 고정링 사이에 결합수단을 설치하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 진공척과 고정링의 체결을 견고하게 하여 상기 진공척의 이탈 및 웨이퍼 또는 고정링의 깨짐현상을 방지하고, 파티클로 인한 웨이퍼 불량을 방지하여, 웨이퍼의 수율 및 품질의 균일성을 향상시키게 하는 효과를 갖는다.