公开(公告)号：KR1019980083863A

公开(公告)日：1998-12-05

申请号：KR1019970019341

申请日：1997-05-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 차훈 ,  양윤식

IPC: H01L21/3065

Abstract: 본 발명은 플라즈마를 이용한 식각공정이 진행되는 반도체장치 제조용 플라즈마 식각설비에 관한 것이다.
본 발명은, 식각가스를 사용한 식각공정이 진행되는 공정챔버와 상기 식각공정이 진행될 웨이퍼가 대기하며, 웨이퍼가 출입할 수 있는 슬릿밸브가 설치된 로드락챔버가 구비되는 반도체장치 제조용 플라즈마 식각설비에 있어서, 상기 로드락챔버 상부에 퍼지가스공급원에서 공급되는 퍼지가스가 일정압력 및 일정방향으로 분사될 수 있는 가스분사수단이 설치되고, 상기 로드락챔버 일측에 상기 공정챔버에서 유출된 가스를 펌핑할 수 있는 펌핑수단이 설치된 배기라인이 더 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 공정챔버 내부에서 발생된 공정부산물이 로드락챔버에서 부유되어 식각공정이 진행될 웨이퍼를 오염시키는 것을 방지할 수 있고, 식각가스가 카세트 대기챔버 및 식각설비 주변부를 오염시키는 것을 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR2019980009720U

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR2019960021993

申请日：1996-07-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성경 ,  차훈

IPC: H01L21/68

Abstract: 반도체웨이퍼의클램핑시웨이퍼왕클램프의고정력불균일에의한웨이퍼손상및 깨침현상을방지할수 있도록한 반도체웨이퍼클램프조립체에관한것이다. 본고안의구성은공정챔버내의프레임(11)에보울트(13)로고정되는클램프홀더(12)와, 상기클램프홀더의일측에고정되어웨이퍼의가장자리부를고정하는클램프(14)와, 상기클램프홀더의상부에설치된클램프커버(16)로구성된반도체웨이퍼클램프조립체에있어서, 상기클램프(14)가고정되는클램프홀더(12)와이를고정하는보울트(13) 사이에코일스프링(19)을탄력설치하여클램프가탄력적으로유동가능하게구성된것이다. 따라서웨이퍼클램핑시각 클램프와웨이퍼사이의고정력이균일하게이루어져웨이퍼의변형에의한손상및 깨짐이방지됨으로써수율이향상되는효과가있다.

Abstract translation: 设计为防止晶片损坏和kkaechim通过夹紧力的不均匀夹持半导体晶片的晶片王当通过在半导体晶片等的夹持组件夹持引起的。 和在guseongeun处理帧中的纸11 EVO ulteu 13标识信息夹持器12和固定夹具14，其中有一个在该腔室固定在夹持器的晶片的一侧的边缘部分，所述夹持器的上部 在半导体晶片夹持组件构造成夹持安装16所述盖之间的弹性安装的螺栓的螺旋弹簧（19）（13）所述夹具用于固定夹具14，夹具保持件12被暂时固定ÿ 它被弹性地配置成使流动。 因此，夹具和晶片之间的夹紧力，以利Gyunil取得的晶片钳位时间防止损伤和破损由于晶片的变形，从而存在着成品率提高的效果。

公开(公告)号：KR1020010010201A

公开(公告)日：2001-02-05

申请号：KR1019990028944

申请日：1999-07-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 홍형식 ,  이영출 ,  차훈 ,  김경대

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A wafer polishing device and a wafer polishing method are provided to simultaneously correct D/F value applied on each carrier of a multi-head part in CMP process, and corrects D/F value applied on each carrier of a multi-hear part by in-situ method. CONSTITUTION: A wafer polishing device includes a pad, a multi-head, cylinders, load-cells, and a display part. The pad polishes a wafer. The multi-head includes many carriers corresponding to one waver, and holds the wafer. The cylinders are arranged on the multi-head, applies a pressure on each carrier. The load-cells are arranged between the cylinder and the multi-head, and measure a pressure applied on a carrier from each cylinder. The display part changes a pressure value measured in each load cell to a current value, and displays each current signal at the same time. The wafer polishing device regulates a pressure value applied on a carrier from each cylinder, makes the current signals to be identical, and thus a vertical pressure about each carrier of the multi-head can be corrected.

Abstract translation: 目的：提供晶片抛光装置和晶片抛光方法，以在CMP工艺中同时校正施加在多头部件的每个载体上的D / F值，并且校正施加在多听筒部件的每个载体上的D / F值 通过原位法。 构成：晶片抛光装置包括焊盘，多头，气缸，负载电池和显示部件。 垫抛光晶片。 多头包括对应于一个摇摆的许多载体，并且保持晶片。 气缸布置在多头上，对每个载体施加压力。 负载单元布置在气缸和多头之间，并且测量从每个气缸施加在载体上的压力。 显示部将各测力传感器中测定的压力值变更为当前值，同时显示各电流信号。 晶片抛光装置调节从每个气缸施加在载体上的压力值，使得电流信号相同，从而可以校正围绕多头的每个载体的垂直压力。

公开(公告)号：KR2020010001411U

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR2019990011851

申请日：1999-06-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양윤식 ,  차훈 ,  조정훈

IPC: H01L21/304

Abstract: 목적: 챔버외부에형성된함몰부를제거하여진공와류의발생을방지하고파티클이용이하게배출될수 있도록개선된 HSG 공정용챔버를제공한다. 구성: 챔버내부에는웨이퍼를안치하는서셉터및 상기웨이퍼에열을공급하는히터가구비되고, 챔버벽에는트랜스퍼챔버와의웨이퍼출입을위한웨이퍼출입구와, 배큠조성및 챔버내 반응가스및 부산물의배출을위한배기구가형성되고, 상기웨이퍼출입구및 배기구의외측하방이각각함몰된구조로된 HSG 공정용고진공열처리챔버에있어서, 상기함몰부각각을상기챔버재료와동일한재료로형성된블록실드로매립시켜출입구및 배기구의개폐시에상기챔버내부와외부의압력차로발생하는공기흐름이원활하게이루어지도록한다. 효과 : 챔버내의진공흐름시에와류발생을방지하여파티클의배출을용이하게함으로써챔버내 파티클의누적량을줄일수 있고, HSG 공정중에는부유된파티클이웨이퍼에흡착되는것을방지하여제조수율을향상시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020000065830A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990012530

申请日：1999-04-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 신은희 ,  김진만 ,  최백순 ,  차훈

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/321

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a shelter plate for reducing a sputtering contamination source and improving an inductive coupling among plasma is provided to eliminate the sputtering contamination source of a dielectric window caused by a capacitive electric field, by reducing an obstacle of the capacitive electric field generated by a coil while maintaining the inductive coupling between the coil and a plasma gas. CONSTITUTION: A plasma-etch process is performed. A pattern of first and second regions etched in a dielectric window is sampled after the etch process is performed for a predetermined interval of time. A sheltering plate is formed by processing a metal plate, so that the first region of the sampled pattern becomes a sheltering layer and the second region becomes an opening.

Abstract translation: 目的：提供一种制造用于减少溅射污染源并改善等离子体之间的感应耦合的防护板的方法，以通过减少电容电场的障碍物来消除由电容电场引起的介电窗口的溅射污染源 由线圈产生，同时保持线圈和等离子体气体之间的感应耦合。 构成：执行等离子体蚀刻工艺。 在蚀刻处理进行预定的时间间隔之后，对在介电窗口中蚀刻的第一和第二区域的图案进行采样。 通过处理金属板形成遮蔽板，使得采样图案的第一区域成为遮蔽层，第二区域变为开口。

公开(公告)号：KR200173947Y1

公开(公告)日：2000-03-02

申请号：KR2019960021993

申请日：1996-07-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김성경 ,  차훈

IPC: H01L21/68

Abstract: 반도체 웨이퍼의 클램핑시 웨이퍼와 클램프의 고정력 불균일에 의한 웨이퍼 손상 및 깨짐현상을 방지할 수 있도록 한 반도체 웨이퍼 클램프 조립체에 관한 것으로, 본 고안의 구성은 공정챔버내의 프레임(11)에 보울트(13)로 고정되는 클램프 홀더(12)와, 상기 클램프 홀더의 일측에 고정되어 웨이퍼의 가장자리부를 고정하는 클램프(14)와, 상기 클램프 홀더의 상부에 설치된 클램프 커버(16)로 구성된 반도체 웨이퍼 클램프 조립체에 있어서, 상기 클램프(14)가 탄력적으로 유동 가능하도록 상기 클램프 홀더(12)의 내측 단턱(12b)과 이를 고정하는 보울트(13)의 머리부(13a) 사이에 설치된 코일스프링(19)과, 상기 보울트(13)의 머리부(13a)와 프레임(11) 상면 사이의 보울트(13) 몸체 외주에 개재되어 상기 코일스프링(19)의 탄성력을 일정하게 제한적으로 유지하는 스� �이서(20)가 설치된 것이다. 따라서 웨이퍼 클램핑시 각 클램프와 웨이퍼 사이의 고정력이 균일하게 이루어져 웨이퍼의 변형에 의한 손상 및 깨짐이 방지됨으로써 수율이 향상되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019990081332A

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019980015200

申请日：1998-04-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송재관 ,  차훈 ,  원유근 ,  김동철

IPC: H01L21/00

Abstract: 반도체 장치를 제조하는 설비를 운용하면서 입력단에 따로 연결하여 보다 편리한 조건에서 설비의 상태를 점검하고, 설비의 이상 발생시 이에 대한 원인을 파악하기 위한 시스템을 설비 점검시에 적용하도록 하는 반도체 장치 제조설비의 진단 시스템과 이를 이용한 식각설비 및 노광설비에 관한 것으로서, 반도체 장치 제조공정이 수행되며, 제조공정 및 설비의 상태신호를 출력하는 제조설비, 상기 제조설비로부터 인터페이스를 위한 전송선로를 통해 연결되고 상기 제조설비를 제어하는 설비제어 시스템 및 상기 전송선로에 형성된 소정 연결부에 별도로 탈착 자재하게 연결되어서 상기 제조설비로부터 인가되는 각종 동작신호를 분석하여 상기 제조설비를 진단하는 진단 시스템을 구비하여 상기 제조설비의 상태를 모니터링하고, 상기 제조설비를 제어하도록 이루어진다.

公开(公告)号：KR1019990074646A

公开(公告)日：1999-10-05

申请号：KR1019980008363

申请日：1998-03-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양윤식 ,  차훈 ,  채승기

IPC: H01L21/3065

Abstract: 식각설비 중 웨이퍼 저장챔버에 진공형성시 잔류가스가 원활히 배출되도록 하고, 퍼지가스가 일정한 온도를 유지하면서 골고루 공급되도록 하는 반도체 장치 제조설비의 건식식각 설비에 관한 것이다.
본 발명은, 프로세스 챔버와 카세트 챔버 사이에 연결된 로드로크 챔버와 대기의 흐름이 자유롭게 이루어진 웨이퍼 저장챔버가 구비된 반도체 장치 제조설비의 건식식각 설비에 있어서, 상기 웨이퍼 저장챔버의 일측에 설치되어서 퍼지가스가 공급되는 가스공급부 및 상기 웨이퍼 저장챔버의 다른 일측에 설치되고, 진공펌프에 연결되어 상기 웨이퍼 저장챔버 내부의 불순물 배출 및 진공형성을 위한 진공배관을 구비하여 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 챔버에 진공을 형성하는 데 있어서 배관을 더 형성함으로써 진공형성이 빠르게 이루어지고, 유독성 가스를 강제송풍에 의해 배출되며, 또한 퍼지가스가 온도가 상승된 분위기에서 골고루 공급되는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100208707B1

公开(公告)日：1999-07-15

申请号：KR1019960033603

申请日：1996-08-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정규찬 ,  차훈

IPC: H01L21/00

Abstract: 반도체 제조설비에 오존을 공급하기 위한 오존 발생장치에 관한 것이다.
본 발명의 구성은 일측의 수직측판(11)과 수평받침판(12)∼(14)으로 이루어진 프레임(15)을 구비하여 제 1 및 제 2 파워서플라이(17)(18), 컨트롤카드(19)를 수평받침판상에 상,하로 배치하고, 셀(16)은 제 1 및 제 2 파워서플라이의 후방에 배치하여 제 1 및 제 2 파워서플라이와 전기적으로 접속하며, 복수개의 가스포트(21)가 형성된 모듈(20)은 파워서플라이의 측방에 배치하고 복수개의 가스포트와 셀을 각종 가스라인(22)으로 연결하여 이루어진 것이다.
따라서 주요부품의 과열로 인한 고장이 예방되고, 정기적인 검검이나 고장수리시 작업이 매우 용이하며, 설치공간의 축소로 작업자의 작업공간이 넓어지는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019990035509A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970057325

申请日：1997-10-31

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김경훈 ,  차훈 ,  김성경

IPC: H01L21/308

Abstract: 본 발명은 고집적화되어가는 최근의 반도체소자의 스펙을 만족시킬 수 있는 폴리막의 식각공정을 수행하기 위한 반도체장치의 폴리막 식각방법에 관한 것이다.
본 발명은, 유도결합형의 나선형공명기로 형성시킨 플라즈마를 이용하여 폴리막을 식각시킴을 특징으로 한다.
따라서, 최근의 반도체소자의 스펙을 만족시킬 수 있는 폴리막의 식각공정의 수행으로 반도체소자의 신뢰도가 향상되는 효과가 있다.