니들형 센서 및 그 제조 방법
    25.
    发明公开
    니들형 센서 및 그 제조 방법 失效
    针式传感器及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020000008883A

    公开(公告)日:2000-02-15

    申请号:KR1019980028947

    申请日:1998-07-16

    Abstract: PURPOSE: Needle type sensor and its manufacturing method are provided to improve medical sensors such as blood sugar sensor that were conventionally made in a rather bigger size squarely or roundly and needed extra carriers to insert into bodies or to collect blood. CONSTITUTION: Needle model sensor and its manufacturing method stack reinforced metal to avoid bending on SOI(silicon on insulator) wafer board that comprises sacrificial oxide layers and silicon layers sequentially and forms the first dielectric film on the top of it. It forms sensing cells(11,10,12), metal wires and electrode by stacking and patterning a platinum layer and a titanium layer on the top of the first dielectric film. It forms a sensing layer by stacking a biochemical layer or a chemical treated layer on the top metal layer being formed work electrode or gold or Ag2Cl layer on the top metal layer used as reference electrode. It forms the second thick dielectric layer in the external areas to wide the depth of sensor wall part. Needle model sensor and its manufacturing method is manufactured by using fine manufacturing skill removing sacrificing oxide after patterning the outer shape of sensor by using photo engraving process and removing a small part of the second dielectric film to expose sensor cells(11,10,12). It reduces manufacturing cost by simplifying procedures and mass manufacturing.

    Abstract translation: 目的:提供针型传感器及其制造方法,以改善传统制造的医疗传感器,例如通常以相当大的尺寸正方形或圆形地制造,并且需要额外的载体插入体内或收集血液。 构成:针型传感器及其制造方法堆叠加强金属,以避免在SOI(绝缘体上硅)晶片板上弯曲,其中包括牺牲氧化物层和硅层,并在其顶部形成第一介电膜。 它通过在第一介电膜的顶部堆叠和图案化铂层和钛层来形成感测单元(11,10,12),金属线和电极。 它通过在形成作为电极的顶部金属层或用作参考电极的顶部金属层上的金或Ag2Cl层上堆叠生化层或化学处理层来形成感测层。 它在外部区域形成第二厚电介质层,以使传感器壁部分的深度变宽。 针模型传感器及其制造方法是通过使用精细制造技术通过使用光刻工艺对传感器的外部形状进行图案化之后去除牺牲氧化物并除去小部分第二电介质膜以暴露传感器单元(11,10,12) 。 通过简化程序和批量生产,可以降低制造成本。

    마이크로 자이로스코프 제조 방법
    26.
    发明公开
    마이크로 자이로스코프 제조 방법 失效
    微陀螺制造方法

    公开(公告)号:KR1019980050573A

    公开(公告)日:1998-09-15

    申请号:KR1019960069404

    申请日:1996-12-21

    Abstract: 본 발명은 반도체 장치 제조 방법에 관한 것으로, 각 속도 측정 장치의 제조에 있어서 종래의 방법인 기판 가공 기술은 식각시 정확한 수적구조를 구현할 수 있는 문제점을 해결하기 위해 결정면이 110 방향인 실리콘 웨이퍼를 기판 접합 기술에 의해 하부 전극이 제조된 실리콘 웨이퍼 위에 부착한 후, 표면 가공 기술을 이용하여 가로세로비가 크고 정확한 구조의 구현에 의해 안정된 미세 구조체의 제조를 통하여 고감도, 저전압 구동형 마이크로 자이로스코프의 구현이 가능하며, 저응력 미세 구조체의 제조과 주변 회로와의 접속을 위한 금속 전극의 제조가 용이한 마이크로 자이로스코프 제조 방법이 제시된다.

    집속 이온빔 시스템의 이온 광학계
    28.
    发明授权
    집속 이온빔 시스템의 이온 광학계 失效
    离子光束聚焦系统的离子光学系统

    公开(公告)号:KR1019910007805B1

    公开(公告)日:1991-10-02

    申请号:KR1019880017977

    申请日:1988-12-30

    Abstract: The instrument for the ion beam systedm applied to the semiconductor manufacturing, improves the system performance through improving the alignment accuracy in the system and minimizing spherical aberration for electrostatic lens. The instrument comprises a vacuum chamber (105), ion source (101), accelerator (102), and electrostatic lens (103). The whole system is composed of an ion source module assembled with ion source (101) , source holder (108), disk (109) for fixing the source (101), ion extraction electrode (107); an accelerator module assembled with first and second electrodes (111)(112), insert ring (114) for adjusting distance between electrodes; an ion-beam feed tube module with ion-beam feed tube (115) with air hole (115a); process chamber (106) for positioning wafer (104).

    Abstract translation: 用于离子束系统的仪器适用于半导体制造,通过提高系统中的对准精度并使静电透镜的球面像差最小化来提高系统性能。 仪器包括真空室(105),离子源(101),加速器(102)和静电透镜(103)。 整个系统由离子源(101),源保持器(108),用于固定源(101)的盘(109),离子提取电极(107))组装的离子源模块组成。 与第一和第二电极(111)(112),用于调节电极之间的距离的插入环(114)组装的加速器模块; 具有带有空气孔(115a)的离子束供给管(115)的离子束供给管模块; 处理室(106),用于定位晶片(104)。

    노광 장비용 프로그래머블 마스크
    30.
    发明授权
    노광 장비용 프로그래머블 마스크 有权
    曝光设备的可编程掩模

    公开(公告)号:KR100280832B1

    公开(公告)日:2001-04-02

    申请号:KR1019970065335

    申请日:1997-12-02

    Abstract: 본 발명은 노광 장비용 프로그래머블 마스크에 관한 것으로, 특히 전기적 신호에 의하여 광 개폐가 이루어지는 미세 소자가 마스크 상에 하나의 화소를 이루는 형태로 집적된 패턴 노광용 마스크에 관한 것이다.
    반도체 집적회로의 미세회로 인쇄는 자외선 등을 노광 광원으로 이용하여 회로 패턴이 새겨진 인쇄회로 원판, 즉 마스크의 패턴을 축소시켜 투사하는 방식의 노광 인쇄장비를 주로 사용하고 있다. 그러나 이러한 방법에서는 십 여장 이상의 마스크가 필요하게 되며, 소자의 제작 종류가 많을 경우 이에 따른 노광용 마스크의 제작 기간 및 비용 소요가 큰 부담이 되고 있다.
    본 발명에서는 미소 광 개폐 소자가 집적된 프로그래머블 마스크 상에서 직접 설계된 회로의 패턴을 구현시키고 이 패턴을 웨이퍼 등의 기판에 투사시켜 인쇄하는 방법을 제시한다.

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