公开(公告)号：KR1020120056913A

公开(公告)日：2012-06-05

申请号：KR1020100080728

申请日：2010-08-20

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 노상훈 ,  문영준 ,  홍순민 ,  김대중 ,  박태상 ,  김현태

IPC: H05K1/14 ,  H01R12/51

Abstract: PURPOSE: A wafer substrate and a wafer substrate assembly connection structure are provided to improve connection reliability by reducing stress added to an electrode. CONSTITUTION: A top side electrode(11) is included at the upper side of a wafer substrate(10) for electrical connection. A bottom side electrode(13) is included at the lower side of the wafer substrate for the electrical connection. A top connector(30) is bent from the upper side of the wafer substrate to the side. A bottom connector(40) is bent from the lower side of the wafer substrate to the side. A top connector electrode(31) is included in the top connector in order to be connected with the top side electrode. A bottom connector electrode(41) is included in the bottom connector in order to be connected with the bottom side electrode.

Abstract translation: 目的：提供晶片基板和晶片基板组件连接结构，以通过减少添加到电极的应力来提高连接可靠性。 构成：用于电连接的晶片衬底（10）的上侧包括顶侧电极（11）。 底部电极（13）包括在用于电连接的晶片衬底的下侧。 顶部连接器（30）从晶片衬底的上侧弯曲到侧面。 底部连接器（40）从晶片衬底的下侧弯曲到侧面。 顶部连接器电极（31）包括在顶部连接器中以便与顶侧电极连接。 底部连接器电极（41）包括在底部连接器中以便与底部侧电极连接。

公开(公告)号：KR1020120051119A

公开(公告)日：2012-05-22

申请号：KR1020100112378

申请日：2010-11-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고강웅 ,  오현철 ,  김동억 ,  김대중

IPC: B41J2/165

CPC classification number: B41J2/16585 ,  B41J2/16526 ,  B41J2/16538 ,  B41J2/16552 ,  B41J2/16517

Abstract: PURPOSE: An inkjet head cleaning device and a method thereof are provided to form a uniform ink film between a bottom plane of an inkjet head and a top plane through purging by placing a cleaning blade in the bottom plane of the inkjet head. CONSTITUTION: An inkjet head cleaning device comprises a cleaning blade(300) and a driving unit(500). The cleaning blade is installed by being spaced at a predetermined interval to form a residual ink(10) film between a bottom plane(150) of an inkjet head(100) and the cleaning blade. The driving unit transfers the cleaning blade to a direction parallel to the bottom plane of the inkjet head. The top plane of the cleaning blade is flatly formed while being parallel to the bottom plane of the inkjet head so that an link film is formed between the top plane of the cleaning blade and the bottom plane of the inkjet head. A thin groove(350) having a predetermined width in a longitudinal direction of the cleaning blade is formed in the middle part of the top plane of the cleaning blade.

Abstract translation: 目的：提供一种喷墨头清洁装置及其方法，通过将清洁刮板放置在喷墨头的底面中，通过清洗在喷墨头的底面与顶面之间形成均匀的墨膜。 构成：喷墨头清洁装置包括清洁刮板（300）和驱动单元（500）。 清洁刮板通过以预定间隔间隔安装，以在喷墨头（100）的底面（150）和清洁刮板之间形成残留油墨（10）。 驱动单元将清洁刮板传送到与喷墨头的底平面平行的方向。 清洁刮板的顶面在平行于喷墨头的底面的同时平坦地形成，使得在清洁刮板的顶面和喷墨头的底面之间形成连接膜。 在清洁刮板的顶面的中间部分形成有在清洁刮板的长度方向上具有预定宽度的细槽（350）。

公开(公告)号：KR1020120051118A

公开(公告)日：2012-05-22

申请号：KR1020100112377

申请日：2010-11-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고강웅 ,  김대중 ,  팽동우

IPC: B41J2/21 ,  B41J29/393 ,  H04N1/407

CPC classification number: B41J2/2114 ,  H04N1/4076 ,  B41J29/393

Abstract: PURPOSE: AN ink discharging device of an inkjet head and a control method thereof are provided to accurately measure amount of transparent ink spread and to reduce a session for DPN(Drive Per Nozzle) based on an accurate measurement. CONSTITUTION: AN ink discharging device(100) of an inkjet head(200) comprises a transparent inkjet head, a color inkjet head, a plurality of pixels(500), a color value measuring unit, and a control unit. The transparent inkjet head comprises a plurality of nozzles(240-1, 240-2,240-n) discharging transparent ink. The color inkjet head is perpendicularly mounted in the transparent inkjet head and comprises a plurality of nozzles discharging color ink. The plurality of pixels spread the color ink and transparent ink through the color inkjet head and transparent inkjet head. The color value measuring unit measures a color value of the ink spread on the plurality of pixels based on signals applied to the plurality of nozzles of the transparent inkjet head and the plurality of nozzles of the color inkjet head. The control unit changes the signals applied to the plurality of nozzles of the transparent inkjet head to make the measured color values of the ink spread on the plurality of pixels uniform.

Abstract translation: 目的：提供喷墨头的墨水排出装置及其控制方法，以精确地测量透明墨水的扩散量，并且基于准确的测量来减少DPN（每个喷嘴驱动）的会话。 构成：喷墨头（200）的喷墨装置（100）包括透明喷墨头，彩色喷墨头，多个像素（500），颜色值测量单元和控制单元。 透明喷墨头包括排放透明油墨的多个喷嘴（240-1,240-2,240-n）。 彩色喷墨头垂直地安装在透明喷墨头中，并且包括排出彩色墨水的多个喷嘴。 多个像素通过彩色喷墨头和透明喷墨头将彩色油墨和透明油墨分散。 颜色值测量单元基于施加到透明喷墨头的多个喷嘴和彩色喷墨头的多个喷嘴的信号来测量在多个像素上展开的油墨的颜色值。 控制单元改变施加到透明喷墨头的多个喷嘴的信号，使得在多个像素上扩散的油墨的测量颜色值均匀。

公开(公告)号：KR1020090044810A

公开(公告)日：2009-05-07

申请号：KR1020070111067

申请日：2007-11-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이용우 ,  이영미 ,  채민철 ,  김대중 ,  황재성

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01L21/3146 ,  H01L21/265 ,  H01L21/3143 ,  H01L21/31608 ,  H01L21/3185

Abstract: 본 발명은 고에너지 이온주입 시 이온주입 마스크 레이어의 종횡비(Aspect Ratio)를 증가시키는 이온주입 마스크 형성방법에 관한 것이다.
고에너지 이온주입 시 포토레지스트의 두께가 증가로 인한 종횡비 증가에 따른 패턴 러닝 및 리프팅이 발생됨을 방지하는 본 발명에 적용되는 이온주입 마스크 형성방법은, 반도체 기판 상에 필드영역을 형성하고 상기 반도체 기판 상에 비결정탄소막, 하드마스크막을 순차적으로 적층하는 단계와, 상기 하드마스크막 상에 식각 마스크 패턴을 형성하는 단계와, 상기 형성된 식각 마스크 패턴에 의해 상기 필드영역이 노출되도록 상기 하드마스막과 상기 비결정탄소막을 식각하여 상기 하드마스막과 상기 비결정탄소막의 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
필드영역의 고에너지 이온주입 시 하드마스크를 적용하여 종횡비 증가에 의한 패턴 리닝(Pattern leaning)현상과 포토레지스트의 리프팅현상의 발생을 방지한다.
플라즈마, 이온주입 마스크 형성, 종횡비 증가방지, 패턴리닝 현상방지, 포토레지스트 리프팅현상방지

公开(公告)号：KR100788654B1

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：KR1020020068762

申请日：2002-11-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대중 ,  신승철

IPC: H04N21/472

CPC classification number: H04N5/57 ,  G09G2340/125 ,  H04N21/4318 ,  H04N21/4402 ,  H04N21/4854

Abstract: 본 발명은 화면 조정 장치 및 방법에 관한 것으로서, 화면 조정 장치는, 재생할 영상에 중첩되어 표시되고, 사용자에게 화면 조정 인터페이스를 제공하는 OSD 화면 조정부; 및 사용자가 OSD 화면 조정부를 통해 화면 조정을 수행시, 디스플레이 패널에 표시될 하나의 영상 중 소정 영역의 영상만 화면 조정 상태를 반영해 표시하고 나머지는 소정 기준 화면 상태를 적용해 표시하는 영상 분할부를 포함함을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 간단한 구조를 가진 화면 조정 장치를 구현하고, 화면 조정시 사용자에게 하나의 영상 안에서 서로 다른 화면 상태를 볼 수 있도록 함으로써 산만하지 않은 안정된 영상 화면을 제공할 수 있다.

公开(公告)号：KR100720144B1

公开(公告)日：2007-05-18

申请号：KR1020050118590

申请日：2005-12-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송세경 ,  안병일 ,  김동억 ,  최상진 ,  김혁 ,  조성민 ,  이현진 ,  김대중

IPC: B41J2/165 ,  B41J2/07 ,  B41J29/38 ,  B41J29/393

Abstract: 본 발명은 잉크젯헤드 메인터넌스장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 잉크젯헤드 메인터넌스장치는 잉크를 분사하도록 잉크젯헤드를 예비 구동하는 구동부; 구동부에 의해 구동되는 잉크젯헤드의 잉크분사 상태를 측정하는 측정부; 및 측정부의 측정 결과에 기초하여 소정 조건을 만족하는 잉크젯헤드를 보관하는 보관부를 포함한다. 이에 의해 잉크젯헤드의 인쇄 시간을 단축하고 잉크젯헤드를 효율적으로 유지 관리할 수 있다.
잉크젯 인쇄, 메인터넌스, 예비 구동

Abstract translation: 喷墨头维护设备和方法本发明涉 根据本发明的喷墨头维护设备包括：驱动单元，用于预先驱动喷墨头以喷射墨水; 测量单元，用于测量由驱动单元驱动的喷墨头的喷墨状态; 以及存储单元，用于基于测量单元的测量结果来存储满足预定条件的喷墨头。 结果，可以缩短喷墨头的打印时间并且可以有效地保持喷墨头。

公开(公告)号：KR100670911B1

公开(公告)日：2007-01-19

申请号：KR1020050000009

申请日：2005-01-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 한영국 ,  김대중 ,  김은성 ,  김재훈

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L23/544 ,  G03F9/708 ,  G03F9/7084 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 반도체 장치의 제조 방법에서 있어서, 칩 영역의 반도체 기판에 제1 종횡비를 갖는 제1 트랜치를 형성하는 동시에, 예정 영역의 반도체 기판에는 상기 제1 종횡비보다 작은 제2 종횡비를 갖는 제2 트랜치를 형성한다. 칩 영역에는 제1 트랜치를 매립하는 산화물 및 반도체 기판 상에 형성되는 폴리실리콘을 포함하는 제1 구조물을 형성하는 동시에, 예정 영역에는 제2 트랜치 내부를 매립하도록 적층된 산화물 및 폴리실리콘을 포함하는 제2 구조물을 형성한다. 제1 구조물의 상기 폴리실리콘을 부분적으로 제거하는 동시에 제2 트랜치 내부에 매립된 제2 구조물의 폴리실리콘을 제거함으로써, 칩 영역에 폴리실리콘 패턴과 예정 영역에 제2 트랜치의 입구 부위가 단차진 형태를 갖는 정렬 마크를 동시에 형성한다. 따라서, 별도의 공정을 수행하지 않고 정렬 마크를 용이하게 형성할 수 있다.

Abstract translation: 在半导体装置的制造方法中，在同一时间，以形成具有在所述芯片区域的半导体衬底中的第一宽高比的第一沟槽，所述预期区域的半导体基板，以形成具有更小的第二纵横比大于第一纵横比大的第二沟槽 。 形成在氧化物和半导体衬底以填充第一沟槽，期望区包含堆叠在同一时间以形成包含多晶硅的第一结构，以填充第二沟槽芯片区域的内部的氧化层和多晶硅，如权利要求 2结构。 去除嵌入在第二沟槽中的第二结构的多晶硅同时部分地去除第一结构的多晶硅允许多晶硅图案和第二沟槽的入口区域处于预定区域 同时。 因此，可以容易地形成对准标记而无需执行单独的处理。

公开(公告)号：KR1020070006044A

公开(公告)日：2007-01-11

申请号：KR1020050061028

申请日：2005-07-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 유지용 ,  서전석 ,  김학 ,  김대중 ,  백경윤

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/405 ,  H01L21/0334 ,  H01L21/3083 ,  H01L21/308 ,  H01L21/31144

Abstract: A method for fabricating a pattern structure and a method for fabricating a trench using the same are provided to reduce a critical dimension by using patterns whose lower intervals are narrower than upper intervals. A mask pattern structure(20) includes mask patterns(2) that are separated from each other on a layer. The mask pattern structure is divided by a first region(A) and a second region(B). The first region has a first pattern density. The second region has a second pattern density substantially lower than the first pattern density. The layer is etched by using the mask pattern structure as an etching mask to form first sidewalls(11) and second sidewalls(12). The first sidewalls are located under the first region. The second sidewalls are located under the second region. The first sidewalls substantially have a vertical first profile. The second sidewalls have a second profile whose line width getting smaller on lower portion thereof.

Abstract translation: 提供了一种用于制造图案结构的方法和使用该方法制造沟槽的方法，以通过使用较低间隔比上部间隔窄的图案来减小临界尺寸。 掩模图案结构（20）包括在层上彼此分离的掩模图案（2）。 掩模图案结构被第一区域（A）和第二区域（B）分割。 第一区域具有第一图案密度。 第二区域具有显着低于第一图案密度的第二图案密度。 通过使用掩模图案结构作为蚀刻掩模来蚀刻该层，以形成第一侧壁（11）和第二侧壁（12）。 第一侧壁位于第一区域下方。 第二侧壁位于第二区域的下方。 第一侧壁基本上具有垂直的第一轮廓。 第二侧壁具有其下部的线宽变小的第二轮廓。

公开(公告)号：KR1020070000612A

公开(公告)日：2007-01-03

申请号：KR1020050056098

申请日：2005-06-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대중 ,  이대엽 ,  유지용 ,  한영국 ,  유도열 ,  이재한

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F1/64 ,  G03F7/7085

Abstract: A semiconductor substrate exposing apparatus is provided to perform easily stably an exposure process regardless of the size of a guide frame by using a reticle stage capable of being shrunk or expanded corresponding to the guide frame. A semiconductor substrate exposing apparatus includes a light source unit(110), a reticle stage and a substrate stage. The reticle stage(140) is arranged on a first light progressing path. The reticle stage is capable of being shrunk or expanded according to the size of a pellicle, wherein the pellicle is attached to a reticle. The reticle stage is used for supporting the reticle. The substrate stage(170) is used for supporting a semiconductor substrate, so that the substrate is arranged on a second light progressing path.

Abstract translation: 提供一种半导体衬底曝光装置，通过使用能够相应于引导框架收缩或扩大的标线片台，而与导向框架的尺寸无关地轻松稳定地执行曝光处理。 半导体衬底曝光装置包括光源单元（110），标线片台和衬底台。 标线台（140）布置在第一光进行路径上。 标线片台能够根据防护薄膜的尺寸收缩或膨胀，其中防护薄膜组件附着在掩模版上。 标线台用于支撑掩模版。 基板台（170）用于支撑半导体基板，使得基板布置在第二光进行路径上。

公开(公告)号：KR1020060135122A

公开(公告)日：2006-12-29

申请号：KR1020050054799

申请日：2005-06-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대중 ,  이대엽 ,  유지용 ,  서전석 ,  유도열

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L23/544 ,  G03F7/70633 ,  H01L29/665 ,  H01L29/78 ,  H01L2924/0002 ,  G03F9/708 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2924/00

Abstract: An overlay key, a method of forming the same, a semiconductor device fabricated by using the same, and a method of fabricating a semiconductor device by using the same are provided to obtain a clear overlay key image by using the overlay key in which a film having high reflectivity is formed under a main scale. An overlay key includes a main scale(224) formed on a metal silicide film directly contacting a silicon substrate, and a vernier(254) provided on the main scale. The metal silicide is obtained by reacting the substrate(200) with a metal material. The metal silicide contains cobalt silicide, tungsten silicide, titanium silicide, and tantalum silicide. The metal silicide has reflectivity of 8 to 30%.

Abstract translation: 提供一种覆盖键，其形成方法，使用该半导体器件的半导体器件，以及通过使用该半导体器件制造半导体器件的方法，通过使用覆盖键来获得清晰的覆盖键图像， 在主刻度上形成具有高反射率的。 覆盖键包括形成在与硅衬底直接接触的金属硅化物膜上的主刻度（224）和设置在主刻度上的游标（254）。 金属硅化物通过使基板（200）与金属材料反应而获得。 金属硅化物包含硅化钴，硅化钨，硅化钛和硅化钽。 金属硅化物的反射率为8〜30％。