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    용매 어닐링 방법, 이를 이용한 블록 공중합체 패턴 형성 방법 및 이에 의하여 제조된 블록 공중합체 패턴
    32.
    发明授权
    용매 어닐링 방법, 이를 이용한 블록 공중합체 패턴 형성 방법 및 이에 의하여 제조된 블록 공중합체 패턴 有权
    溶剂退火方法，使用该方法形成嵌段共聚物图案的方法以及通过使用其形成嵌段共聚物图案的方法形成的嵌段共聚物图案

    公开(公告)号：KR101449850B1

    公开(公告)日：2014-10-13

    申请号：KR1020130056998

    申请日：2013-05-21

    Applicant: 한국과학기술원

    Inventor： 정연식 ,  허윤형 ,  정재원 ,  김종민

    IPC: H01L21/20 ,  B29C59/00 ,  H01L21/22

    Abstract: In a method for forming block copolymer pattern, provided is a method for forming block copolymer pattern, comprising: a step for contacting an annealing pad where an organic solvent is absorbed in a block copolymer applied to a substrate; and a step for which the block copolymer is self-assembled by the organic solvent discharged from the annealing pad.

    Abstract translation: 在形成嵌段共聚物图案的方法中，提供了一种形成嵌段共聚物图案的方法，包括：使有机溶剂吸收在施加到基材上的嵌段共聚物中的退火焊盘的接触步骤; 和通过从退火焊盘排出的有机溶剂自组装嵌段共聚物的步骤。

    나노전사 프린팅방법 및 이를 이용한 나노패턴의 제조방법
    33.
    发明公开
    나노전사 프린팅방법 및 이를 이용한 나노패턴의 제조방법 审中-实审
    使用其制造纳米图案的纳米转印印刷方法和方法

    公开(公告)号：KR1020130143417A

    公开(公告)日：2013-12-31

    申请号：KR1020120066966

    申请日：2012-06-21

    Applicant: 엘지디스플레이 주식회사 ,  한국과학기술원

    Inventor： 박종현 ,  김태헌 ,  봉성율 ,  정연식 ,  정재원 ,  김경호 ,  박운익

    IPC: H01L21/027

    CPC classification number: H01L21/0273 ,  B82B1/001 ,  B82B3/0014 ,  B82B3/0019

    Abstract: A nano transfer printing method according to an embodiment of the present invention includes the steps of: coating an elastic mold including a surface pattern with a block copolymer; forming a polymer thin film with a self-assembly pattern by annealing the block copolymer to induce self-assembly; printing the polymer thin film with the self-assembly pattern on the substrate; and removing the polymer thin film except the self-assembly pattern and forming an oxidation pattern by oxidizing the self-assembly pattern.

    Abstract translation: 根据本发明实施例的纳米转印印刷方法包括以下步骤：用嵌段共聚物涂布包括表面图案的弹性模具; 通过退火嵌段共聚物以自组装形成具有自组装图案的聚合物薄膜; 在衬底上印刷具有自组装图案的聚合物薄膜; 除去自组装图案以外的聚合物薄膜，通过氧化自组装图案形成氧化图案。

    이산화탄소 환원을 위한 3차원 나노 구조 금속 촉매 및 이의 제조방법
    38.
    发明授权
    이산화탄소 환원을 위한 3차원 나노 구조 금속 촉매 및 이의 제조방법 有权

    公开(公告)号：KR102203640B1

    公开(公告)日：2021-01-15

    申请号：KR1020180134259

    申请日：2018-11-05

    Applicant: 한국과학기술원

    Inventor： 정연식 ,  오지훈 ,  김예지 ,  김종민 ,  조민형 ,  김범일

    IPC: B01J37/00 ,  B01J23/52 ,  B01J35/02 ,  C25B3/25 ,  C25B11/04

    Abstract: 본발명은이산화탄소환원을위한 3차원나노구조금속촉매및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의이산화탄소환원을위한 3차원나노구조금속촉매는정렬된금속나노선이적층된구조로, 적층된촉매두께에의해국소 pH를높게조절하여 CO 선택성을높일수 있다. 또한, 금속나노선의작은입자크기덕분에높은 CO 선택성을갖는고차결정면을촉매활성부위에포함하여 CO 선택성을현저하게증가시키고, 수소발생반응을억제시킴으로써이산화탄소환원반응속도를높일수 있다. 3차원나노구조금속촉매를이루는금속나노선사이의공간은촉매층 내부에서반응물및 생성물의이동을원활하게하여이산화탄소환원반응속도를높인다. 또한, 본발명의 3차원나노구조를가지는촉매는나노구조의제어를통해높은안정성을가질수 있고이산화탄소환원을위한촉매전극에활용될수 있다.

    표면강화 라만 분광용 기판의 제조방법
    40.
    发明授权
    표면강화 라만 분광용 기판의 제조방법 有权

    公开(公告)号：KR101932195B1

    公开(公告)日：2018-12-24

    申请号：KR1020170140942

    申请日：2017-10-27

    Applicant: 한국과학기술원

    Inventor： 오지훈 ,  김재훈 ,  송준태 ,  백광민 ,  조승희 ,  정연식

    IPC: G01N21/65 ,  B82B3/00 ,  G01J3/44 ,  B82Y15/00

    Abstract: 본 발명은 빠르고 손쉬운 전기화학적 방법을 이용해 고밀도의 나노갭(nanogap)을 갖는 금속 나노구조체, 예컨대, 금(Au) 나노구조를 형성하고, 이를 통한 폭넓은 플라즈모닉 공명(plasmonic resonance) 위치를 갖는 표면강화 라만 분광용(Surface Enhanced Raman Spectroscopy; SERS) 기판의 제조방법에 관한 것이다. 구체적으로는, 본 발명은 기판 상에 금속 박막을 증착시키고, 수용액 상에서 상기 금속 박막의 표면에 양극전압을 인가하여 전기화학적 산화반응 및 환원반응을 수행함으로써 고밀도의 나노기둥, 나노기공, 나노입자 및 10nm 이하의 나노갭 또는 이들의 조합을 포함하는 금속 나노구조체를 포함하고, 플라즈모닉 공명 위치의 제어를 통해 표면강화 라만 분광 신호의 극대화할 수 있는 표면강화 라만 분광용 기판의 제조방법을 제공할 수 있다. 나아가, 검출 면적 내에 수많은 금속 나노구조체를 포함, 특히 10nm 이하의 나노갭을 포함할 수 있으므로 다수의 나노갭으로부터 발생하는 라만 신호 증폭을 통해 표면강화 라만 분광 신호의 균일성 및 재현성을 보다 높은 수준으로 확보할 수 있으므로, 식품 내 유해인자 탐지 및 분석에 용이하게 사용될 수 있다. 또한 종래의 리소그래피 기술을 배제하되 수용액 중에서 전기화학공정을 통해 금속 나노구조체를 형성함으로써 대면적화에 응용가능하고, 제작비용 절감, 공정 편의성 등의 효과도 기대된다.

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