公开(公告)号：KR1019990051290A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970070578

申请日：1997-12-19

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김종수 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: G02B1/00

Abstract: 본 발명은 광 투과율이 적고 광 반사율이 커서, 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 사용한 광학계에 적용 가능한 만진 미러를 제공하고자 하는 것으로, 이를 위한 본 발명의 만진 미러는 투명기판; 상기 투명기판 상에 형성되고, 고굴절률 박막 및 저굴절율 박막이 교대로 반복 적층되며 최하부 및 최상부 층에 고굴절률 박막을 갖는 적층 박막; 및 상기 적층 박막상에 형성되어, 상기 적층 박막을 통과한 광을 흡수하는 박막을 포함하여 이루어진다.

公开(公告)号：KR100160907B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950052662

申请日：1995-12-20

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  전영진 ,  정해빈 ,  이종현 ,  유형준

IPC: H01L21/306

Abstract: 본 발명은 X-선 마스크 제작을 위한 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척에 관한 것이다.
좀 더 구체적으로, 본 발명은 X-선 마스크 제작공정중 실리콘의 습식식각시 웨이퍼의 외주연 부분이 식각액과 접촉하는 것을 방지하거나 웨이퍼의 일면에 실장된 소자가 식각액과 접촉하는 것을 방지할 수 있는 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척에 관한 것이다.
본 발명의 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척은 X-선 마스크 제작을 위한 실리콘 습식식각용 웨이퍼 척에 있어서, 단면에 L자 형상으로 절곡된 환 형상을 지니고 절곡된 평탄면의 중앙에는 O-링(11)이 부설되어 웨이퍼(50) 일면의 외주연 부분을 안착시키는 위한 하부 지지부(10); 및, 환 형상을 지니고 하면 중앙에 O-링(21)이 부설되며 상기한 하부 지지부(10)의 절곡면에 내설되어 웨이퍼(50) 타면의 외주연 부분을 고정하기 위한 상부 지지부(20)를 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR100137573B1

公开(公告)日：1998-06-01

申请号：KR1019940033882

申请日：1994-12-13

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이진희 ,  최상수 ,  윤형섭 ,  박철순 ,  유형준 ,  박형무

IPC: H01L21/334

Abstract: 미세 게이트를 갖는 전계효과 트랜지스터에서, 게이트의 저항과 기생 커패시턴스를 대폭 줄여서 소자의 전기적인 성능을 개선하는 방법이 개시된다.
본 발명에서는, 기판 위에, 전자빔 노광용 제1레지스트 및 제2레지스트를 차례로 도포하고, 게이트 형상에 따라서 전자빔들로 게이트 영역의 상기 제1 및 제2레지스트를 노광시키되, 게이트 상부의 형성을 위해 조사되는 전자빔들의 에너지 크기와 게이트 하부의 형성을 위해 조사되는 전자빔의 에너지 크기를 다르게 한다.

公开(公告)号：KR1019970076070A

公开(公告)日：1997-12-10

申请号：KR1019960017848

申请日：1996-05-25

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 전영진 ,  최상수 ,  정해빈 ,  이종현 ,  유형준

IPC: G03F1/00 ,  G03F1/50

Abstract: 본 발명은 마스크용 글래스 링 구조에 관한 것으로서, 종래 글래스 링 구조를 개선한 것이다.
즉, 본 발명은 종래의 글래스 링의 기능 및 역할을 크게 저하시키지 않으면서도 글래스 링과 실리콘 웨이퍼 뒷면과의 접착면적을 적절히 축소 조절하여, 멤브레인의 편평도 및 OPD(Out-of-Plane Distortion)/IPD(In-Plane Distortion)특성을 크게 개선시킬 수 있도록 한 것이다.
그 글래스 링의 구조는 실리콘 웨이퍼 뒷면과 접착부위 면적을 달리하기 위하여 실리콘 웨이퍼 외경 보다 작은 임의의 크기의 외경 및 이에 상응하는 임의의 내경 크기를 갖고서 마스크를 지지하도록 구성된 것이다.
또 다른 글래스 링의 구조는 여러 구조물 또는 여러 조각으로 구성할 수가 있고, 또한 글래스 링 표면에 글래스 링과 웨이퍼 뒷면과의 접촉면적을 고의로 축소하기 위해 소정 형태의 돌기들을 형성할 수 있는 구조로 된 것이다.

公开(公告)号：KR1020070040898A

公开(公告)日：2007-04-18

申请号：KR1020050096439

申请日：2005-10-13

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  프라운호퍼 인스티튜트 포 컴퓨터 그라픽스 리서치

Inventor： 최상수

IPC: G06F9/455 ,  G06F9/00

CPC classification number: G06F17/5009 ,  G06T17/00

Abstract: 본 발명은 3차원 데이터 변환 방법에 관한 것으로서, 변환대상 데이터에 대해 조정 및 재정의를 통해 변환을 실행하여 형상 정보를 생성하는 과정, 및 상호 작용과 시각적인 특성에 관한 특정 정보를 추가하는 과정을 통해 CAD(Computer Aided Design) 데이터 및 VRML 데이터를 X3D 데이터로 변환시켜줌으로써 CAD 시스템들과 가상현실 시스템과의 통합 효과를 가져올 수 있을 뿐만 아니라, CAD 데이터들을 가상현실 시스템에서 사용하기 위하여 특별한 모델링 소프트웨어를 가지고 데이터를 재생산하는 것이 필요 없게 되므로, 가상현실 데이터의 변환에 소요되는 시간의 절감 및 비용의 절감을 꾀할 수 있다.
X3D, VRML, 가상현실, CAD 시스템

Abstract translation: 本发明涉及一种三维数据变换方法中，在过程中添加特定信息有关的处理，并且通过由调节执行转换与视觉特性进行交互，并重写为转换的数据生成的形状信息 它不仅可以通过给转换数据和VRML数据转换成X3D数据CAD系统和虚拟现实系统，虚拟现实系统中使用的CAD数据得到CAD（计算机辅助设计）的综合影响有一个特殊的建模软件 不需要再现数据，从而可以减少虚拟现实数据转换所需的时间和成本。

公开(公告)号：KR100315423B1

公开(公告)日：2001-11-26

申请号：KR1019990060406

申请日：1999-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이진희 ,  최상수 ,  윤형섭 ,  이경호

IPC: H01L29/772

Abstract: 본발명은반도체기술에관한것으로, 특히 MESFET, HEMT와같은트랜지스터의 T(Γ)형게이트형성방법에관한것이며, 게이트머리및 다리부분의길이와높이제어에난점이있고생산성이떨어지는전자빔리소그래피공정을배제하는미세감마형게이트형성방법및 미세티형게이트형성방법을제공하는데그 목적이있다. 본발명의특징적인미세감마형게이트형성방법은, 소정의하부층이형성된기판상에제1 희생절연막을형성하는제1 단계; 상기제1 희생절연막상에제1 감광막을도포하고, 제1 포토마스크를사용한마스크공정을실시하여게이트다리영역을포함하는제1 영역을노출시키는제1 감광막패턴을형성하는제2 단계; 상기제1 감광막패턴을식각마스크로사용하여노출된상기제1 희생절연막을선택식각하는제3 단계; 상기제3 단계수행후 상기제1 포토레지스트패턴이제거된전체구조표면을따라상기제1 희생절연막과식각선택비를가지는제2 희생절연막을형성하는제4 단계; 상기제4 단계를마친전체구조상부에제2 감광막을도포하고, 상기제1 포토마스크를일정선폭만큼쉬프트시킨상태에서마스크공정을실시하여상기제1 영역의일부를포함한제2 영역을노출시키는제2 감광막패턴을형성하는제5 단계; 상기제2 감광막패턴을식각마스크로사용하여노출된상기제2 희생절연막을선택식각하여상기게이트다리영역과게이트머리영역을디파인하는제6 단계; 상기제6 단계를마친전체구조상부에게이트용금속막을형성하는제7 단계; 및상기제2 감광막패턴을리프트오프시켜감마형게이트를형성하는제8 단계를포함하여이루어진다.

公开(公告)号：KR100312163B1

公开(公告)日：2001-11-03

申请号：KR1019990011744

申请日：1999-04-03

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  이진호 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: H01L21/027

Abstract: 본발명은 FED(field emission display) 팁(tip) 형성에필요한규칙적인배열을갖는미세패턴을제작하기위한마스크의구조및 그것을제작하는기술에관한것이다. FED 팁을형성하는데필요한 0.35 um 이하의규칙적인배열을갖는미세패턴을형성하려할 때, 일반적인자외선즉 G-line(436 nm)이나 I-line(365 nm,) 스텝퍼를사용해서는광의회절과간섭때문에매우어려워 KrF laser나 ArF laser 광을사용하는스텝퍼를사용해야한다. 그러나이것들은모두고가의노광장비라생산성을맞추기가매우어렵다. 그러나본 특허에서제안하는마스크를사용하면 FED 팁을제작하는데필요한 0.15 ~ 0.35 um까지의규칙적인배열을갖는미세패턴을 G-line(436 nm)이나 I-line(365 nm)을사용하여제작할수 있다. 제안된마스크는 Qz 기판과생성된패턴사이에 180 도위상변환을통해노광강도(intensity)가영(zero)이되는것을이용한다. 본발명은 FED 팁패턴을형성하는마스크부위에는노광광을차단하는 Cr과같은물질이없는마스크구조와제작방법을제안한다.

公开(公告)号：KR100276081B1

公开(公告)日：2001-02-01

申请号：KR1019970054786

申请日：1997-10-24

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김종수 ,  최상수 ,  정해빈 ,  유형준 ,  이각현 ,  김도훈

IPC: G02B1/10 ,  G02B5/04 ,  G02B27/28

Abstract: PURPOSE: A polarizing beam splitter for two wavelengths and a method for fabricating the same are provided to reflect a S-wave and transmit a P-wave by depositing alternately a material having a high refractive index and a material having a low refractive index on an inclined plane of a prism. CONSTITUTION: A reticle(1) is used for receiving an ArF excimer laser with a wavelength of 193nm. A couple of rectangular prism(4,8) is used for transmitting the ArF excimer laser through the reticle(1). A multi-coating layer(5) is formed on each inclined plane of the rectangular prisms(4,8). A plurality of 1/4 wavelength plate(6,9) is used for changing a wavelength of the laser beam reflected by the multi-coating layer(5). A reflective mirror(7) is used for reflecting the laser beam transmitting the 1/4 wavelength plate(6). The laser beam reflected by the reflective mirror(7) is focused on a wafer(10).

Abstract translation: 目的：提供一种用于两个波长的偏振分束器及其制造方法，用于反射S波并通过将具有高折射率的材料和具有低折射率的材料交替沉积在 棱镜的倾斜平面。 构成：将掩模版（1）用于接收波长为193nm的ArF准分子激光器。 一对矩形棱镜（4,8）用于通过光罩（1）传送ArF准分子激光器。 在矩形棱镜（4,8）的每个倾斜平面上形成多层涂层（5）。 多个1/4波长板（6,9）用于改变由多层涂层（5）反射的激光束的波长。 反射镜（7）用于反射透射1/4波长板（6）的激光束。 由反射镜（7）反射的激光束聚焦在晶片（10）上。

公开(公告)号：KR100269244B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019980019516

申请日：1998-05-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김도훈 ,  이각현 ,  최상수 ,  정해빈 ,  김보우

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G02B27/0075 ,  G02B5/3083 ,  G03F7/70216

Abstract: PURPOSE: A method for extending depth of focus of an optical system for lithographic equipment using transmission-type optical parts made of a double refraction material is provided to extend a range of an image in a direction of an optical axis, by making the image located in different positions have a predetermined interval in an optical axial direction depending on a polarization component of illumination light. CONSTITUTION: An optical system uses transmission-type double refraction optical parts(210) made of a double refraction material or a double refraction optical unit composed of the optical parts. An image by the double refraction optical unit(200) is focused in different positions and in a direction of an optical axis of the optical system to extend depth of focus, depending on a polarization component of illumination light(20).

Abstract translation: 目的：提供使用由双折射材料制成的透射型光学部件的用于光刻设备的光学系统的焦点深度的方法，以通过使图像位于图像的方向上延伸图像的范围 在不同的位置上，根据照明光的偏振分量，在光轴方向上具有规定的间隔。 构成：光学系统使用由双折射材料制成的透射型双折射光学部件（210）或由光学部件组成的双折射光学单元。 通过双折射光学单元（200）的图像被聚焦在光学系统的光轴的不同位置和方向上，以根据照明光（20）的偏振分量来延长焦深。

公开(公告)号：KR1020000065562A

公开(公告)日：2000-11-15

申请号：KR1019990011966

申请日：1999-04-07

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이각현 ,  김도훈 ,  최상수 ,  정해빈 ,  조경익

IPC: G03F7/207

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G02B17/08 ,  G02B27/0075 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085

Abstract: PURPOSE: A method for controlling an extension scope of a focus depth in an optical system using a double refraction material is provided to extend a depth of a focus by having an image of the optical system focused in different positions in an optical axis direction, and to control a position of the image by a simple manipulation of optical parts in the optical system. CONSTITUTION: In an optical system of an exposure equipment for forming a fine shape by focusing an image of an original mask on a photoresist layer applied on a substrate, parts forming the optical system is composed of penetrating optical parts made of a double refraction material or an optical unit composed of a combination of the penetrating optical parts. A depth of a focus is extended by having the image focused in different positions in an optical axis direction. And, the scope of the focus is controlled and maintained.

Abstract translation: 目的：提供一种用于控制使用双折射材料的光学系统中的聚焦深度的扩展范围的方法，以通过使光学系统的图像在光轴方向上聚焦在不同位置来延长焦点的深度，以及 以通过简单地操纵光学系统中的光学部件来控制图像的位置。 构成：在用于通过将原始掩模的图像聚焦在施加在基板上的光致抗蚀剂层上形成微细形状的曝光设备的光学系统中，形成光学系统的部件由穿透光学部件组成，由双折射材料制成， 由穿透光学部件的组合构成的光学单元。 通过使图像在光轴方向上聚焦在不同位置来扩大焦点的深度。 并且，重点的范围得到控制和维护。