Abstract:
본 발명은 하기 관계식 1을 만족하는 제1금속 코어; 상기 제1금속 코어를 둘러싼 제2금속 쉘; 및 상기 제2금속 쉘을 둘러싼 갭핑층;을 포함하는 코어-쉘 나노구조체, 비수계 유기 바인더 및 비수계 용매를 포함하는 광소결용 잉크조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다. [관계식 1] A 1 /A 2 ≤ 0.2 (관계식 1에서, A 1 /A 2 는 제1금속 코어의 표면에 있어서의 X-선 광전자 분광 스펙트럼 상, 제1금속의 산화물의 제1금속 2p 3/2 피크 면적(A 1 )을 제1금속의 제1금속 2p 3/2 피크 면적(A 2 )으로 나눈 비이다.)
Abstract:
The present invention relates to a novel method for synthesizing graphene having excellent properties by using a metal conductive thin film and fine patterns manufactured by metal nanoparticles on which formation of a surface oxide film is suppressed. According to the present invention, graphene having large area and fine nanopatterns can be manufactured.
Abstract:
본 발명은 캡핑된 나노 결정 실리콘의 제조방법에 관한 것으로, 자세하게는 환원제 및 캡핑제를 유기 용매에 투입하고, 실리콘 원료로서 테트라에톡시실란(TEOS) 또는 테트라메톡시실란(TMOS)을 사용함으로써 불순물이 없고, 재분산성이 우수하며, 합성방법이 단순하고, 환경 부담이 적은 캡핑된 나노 결정 실리콘의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A method of manufacturing nano crystalline silicon is provided to manufacture a hydrophilic or hydrophobic silicon particle based on a capping reagent. CONSTITUTION: A method of manufacturing nano crystalline silicon comprises the following steps. A capping reagent chosen from a reduced agent, C5-C20 alcohol, amin, thiol or fatty acid is added to an organic solution. Tetraehoxysilane(TEOS) or tetramethoxysilane(TMOS) are added to the organic solution to manufacture a spraying solution. The manufactured silicon spraying solution is added to a phase separating solution. The mixed solution from the phase separating solution is separated to make a silicon solution.
Abstract:
본 발명은 a)금속 산화물 전구체와 불소도핑 전구체를 혼합하는 혼합용액 제조단계; b)상기 혼합용액을 기판에 코팅하는 단계; 및 c)상기 코팅된 기판을 열처리하는 단계; 를 포함하여 제조되는 박막 트랜지스터의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 박막 트랜지스터는 종래의 산소 공공(vacancy)만이 포함된 반도체에 비하여 이동 전하의 양이 증가되며, 불소도핑의 방법이 기존의 기상이 아닌 액상에서 이루어지기 때문에 보다 환경 친화적이며, 저가의 대량생산에 적합한 방법이라는 장점을 가지고 있다. 액상 불소 도핑, 용액 공정, 산화물 반도체, 박막 트랜지스터