에너지 하베스팅용 페이스트 조성물 및 이의 제조방법
    34.
    发明授权
    에너지 하베스팅용 페이스트 조성물 및 이의 제조방법 有权
    用于能量收集的粉末组合物及其制造方法

    公开(公告)号:KR101773594B1

    公开(公告)日:2017-08-31

    申请号:KR1020160083502

    申请日:2016-07-01

    CPC classification number: H01L41/18 H01L41/187 H01L41/193 H01L41/37

    Abstract: 본발명은아민기로표면기능화된세라믹입자, 및말레산무수물이그라프트된탄성중합체를포함하는에너지하베스팅용페이스트조성물및 이의제조방법에관한것으로, 세라믹입자의고함량화및 고분산화가가능하여, 에너지하베스팅소자제조시 높은발전용량을가질수 있는에너지하베스팅용페이스트조성물및 이의제조방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明进行了表面官能化的陶瓷颗粒,和马来酸酐,在能量收集tingyong膏组合物及其制造方法,其包括弹性体接枝胺基,它可以是陶瓷颗粒的高含量屏幕和丘氧化, 在制造能量收集装置时能够具有高发电能力的能量收集浆料组合物及其制造方法。

    그래핀의 신규한 제조방법
    37.
    发明授权
    그래핀의 신규한 제조방법 有权
    用于生长石墨膜的新方法

    公开(公告)号:KR101392226B1

    公开(公告)日:2014-05-08

    申请号:KR1020120139358

    申请日:2012-12-04

    CPC classification number: C01B32/184 B01J19/121 B01J23/72 C23C16/26

    Abstract: The present invention relates to a novel method for synthesizing graphene having excellent properties by using a metal conductive thin film and fine patterns manufactured by metal nanoparticles on which formation of a surface oxide film is suppressed. According to the present invention, graphene having large area and fine nanopatterns can be manufactured.

    Abstract translation: 本发明涉及一种通过使用金属导电薄膜和由表面氧化膜形成被抑制的金属纳米粒子制成的精细图案,合成具有优异性能的石墨烯的新颖方法。 根据本发明,可以制造具有大面积和精细纳米图案的石墨烯。

    나노 결정 실리콘의 제조방법
    39.
    发明公开
    나노 결정 실리콘의 제조방법 有权
    生产纳米结晶硅的方法

    公开(公告)号:KR1020130041002A

    公开(公告)日:2013-04-24

    申请号:KR1020130027712

    申请日:2013-03-15

    CPC classification number: C01B33/023 C01P2004/64 C30B29/06

    Abstract: PURPOSE: A method of manufacturing nano crystalline silicon is provided to manufacture a hydrophilic or hydrophobic silicon particle based on a capping reagent. CONSTITUTION: A method of manufacturing nano crystalline silicon comprises the following steps. A capping reagent chosen from a reduced agent, C5-C20 alcohol, amin, thiol or fatty acid is added to an organic solution. Tetraehoxysilane(TEOS) or tetramethoxysilane(TMOS) are added to the organic solution to manufacture a spraying solution. The manufactured silicon spraying solution is added to a phase separating solution. The mixed solution from the phase separating solution is separated to make a silicon solution.

    Abstract translation: 目的:提供一种制造纳米晶体硅的方法,以制造基于封盖剂的亲水或疏水硅颗粒。 构成:制造纳米晶体硅的方法包括以下步骤。 将选自还原剂C5-C20醇,氨基,硫醇或脂肪酸的封端剂加入到有机溶液中。 将四乙氧基硅烷(TEOS)或四甲氧基硅烷(TMOS)加入到有机溶液中以制备喷雾溶液。 将制造的硅喷雾溶液加入到相分离溶液中。 将相分离溶液的混合溶液分离,制成硅溶液。

    불소 도핑을 통한 용액 공정용 산화물 반도체 기반 박막 트랜지스터의 전기적 물성 제어 방법
    40.
    发明授权
    불소 도핑을 통한 용액 공정용 산화물 반도체 기반 박막 트랜지스터의 전기적 물성 제어 방법 有权
    通过氟掺杂法控制基于溶液处理的氧化物半导体的薄膜晶体管的电性能的方法

    公开(公告)号:KR101096079B1

    公开(公告)日:2011-12-20

    申请号:KR1020090083357

    申请日:2009-09-04

    Abstract: 본 발명은 a)금속 산화물 전구체와 불소도핑 전구체를 혼합하는 혼합용액 제조단계;
    b)상기 혼합용액을 기판에 코팅하는 단계; 및
    c)상기 코팅된 기판을 열처리하는 단계;
    를 포함하여 제조되는 박막 트랜지스터의 제조방법에 관한 것이다.
    본 발명에 의한 박막 트랜지스터는 종래의 산소 공공(vacancy)만이 포함된 반도체에 비하여 이동 전하의 양이 증가되며, 불소도핑의 방법이 기존의 기상이 아닌 액상에서 이루어지기 때문에 보다 환경 친화적이며, 저가의 대량생산에 적합한 방법이라는 장점을 가지고 있다.
    액상 불소 도핑, 용액 공정, 산화물 반도체, 박막 트랜지스터

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