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    Procedimiento para la fabricación de espumas abrasivas
    36.
    发明专利
    Procedimiento para la fabricación de espumas abrasivas 未知

    公开(公告)号：ES2450072T3

    公开(公告)日：2014-03-21

    申请号：ES08787162

    申请日：2008-08-13

    Applicant: BASF SE

    Inventor： ALTEHELD ARMIN ,  HAHN KLAUS ,  MOECK CHRISTOF ,  BAUMGARTL HORST ,  SCHIERHOLZ JENS-UWE ,  PERETOLCHIN MAXIM

    IPC: C08J9/00 ,  B24D3/32 ,  B24D11/00 ,  C08L61/28

    Abstract: Procedimiento para la fabricación de una espuma abrasiva a base de un producto de condensación de melaminaformaldehídoque contiene nanopartículas inorgánicas, que comprende las etapas de: (1) preparar una disolución o dispersión que contiene un precondensado de la espuma que va a fabricarse asícomo nanopartículas inorgánicas y al menos un agente expansivo físico con un punto de ebullición entre 0 ºC y80 ºC y eventualmente otros componentes aditivos (Z), (2) espumar el precondensado mediante calentamiento de la disolución o dispersión de la etapa (1) a unatemperatura de al menos 60 ºC, para obtener una espuma que contiene nanopartículas inorgánicas, así comoeventualmente (3) recocer la espuma obtenida en la etapa (2) a una temperatura de 120 ºC a 300 ºC.

    SISTEMA PIRORRETARDANTE.
    38.
    发明专利
    SISTEMA PIRORRETARDANTE. 未知

    公开(公告)号：MX2013007564A

    公开(公告)日：2013-10-30

    申请号：MX2013007564

    申请日：2011-12-23

    Applicant: BASF SE

    Inventor： HAHN KLAUS ,  MASSONNE KLEMENS ,  DOERING MANFRED ,  FUCHS SABINE ,  JANSSENS GEERT ,  HOFMANN MAXIMILIAN ,  BELLIN INGO ,  SPIES PATRICK ,  DEGLMANN PETER ,  DENECKE HARTMUT ,  FLECKENSTEIN CHRISTOPH ,  WAGNER JOCHEN ,  OSTERMANN RAINER ,  CIESIELSKI MICHAEL

    IPC: C08J9/00 ,  C08K5/00 ,  C08K5/372 ,  C08K5/49 ,  C09K21/12

    Abstract: La invención se refiere a un sistema pirorretardante que consiste en: a) al menos un compuesto de azufre de la fórmula (1), donde las definiciones de los símbolos e índice son como sigue: R, siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es arilo de C6-C12, un grupo heteroarilo de 5-10 miembros el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, alquilo de C1-C18 alquenilo de C2-C18, alquinilo de C3-C18 o cicloalquilo de C3-C10 X, siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es OR2, SR2, NR2R3, COOR2, CONR2, S02R2, F, CI, Br, R, H, o un grupo Y1-P(Y2)PR'R"; y1 es o S, o NR'''; Y2 es O o S; p es 0 o 1; R' and R'', siendo idénticos o diferentes, preferentemente idénticos, son alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, arilo de C6-C12, cicloalquilo de C3-C10, aril de C6-C12-aiquiio de C1-C18, un grupo heteroarilo o grupo heteroariloxi el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, O- alquilo- (de C1-C18)-, 0-alquenilo- (de C2-C18) -, O- alquinilo- (de C2-C10)-, O-arilo- (de C6-C12) -, O-cicloalquiio-(de C3-C10)- o aril(de C6-C12)-alquil-(de C1-C18)-O; R''' es H, alquilo de C1-C18, o (P(Y2)pR'R'') ; siendo idéntico o diferente, preferentemente idéntico, es alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, C6-C12-aril, C3-C10-cicloalquil, aril de C6-C12-alquilo de C1-C18, un grupo heteroarilo el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S, O-alquilo (de C1-C18), 0-alquenilo- (C2-018) -, O-alquinilo de (C3-C18) -, O-arilo de (C6-C12) -, 0-cicloalquilo- (C3-C10) -, aril (de C6-C12) - alquilo (de C1-C18) -O, S-alquilo- (C1-C18) -, S-alquenilo (de C1-C18), S-alquinilo (de C2-C18) -, S-arilo (de C6-C12) -, S- cicloalquilo (de 03-do) -, aril (de C6-C12) -alquilo (de C1-C18)-S, OH, F, Cl, Br o H; R2 y R3, siendo idénticos o diferentes, preferentemente idénticos, son H, alquilo de C1-C18, alquenilo de C2-C18, alquinilo de C2-C18, arilo de C6-C12, cicloalquilo de C3-C10, arilo de C6-C12-alquilo deC1-C18, o un grupo heteroarilo el cual contiene uno o más heteroátomos del grupo de N, O y S; n es un entero de 1 a 8, y m es un número de 1 a 1000; b) al menos un compuesto organofosforoso libre de halógeno con un contenido de fósforo en el intervalo desde 0.5 hasta 40% en peso, con base en el compuesto de fósforo.

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