公开(公告)号：CN219919245U

公开(公告)日：2023-10-27

申请号：CN202321216174.2

申请日：2023-05-19

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  青山贵昭 ,  冈田胜久 ,  渡边健

IPC: H05H1/46 ,  H01F5/00 ,  H01F38/14

Abstract: 本申请实施例提供一种等离子体发生装置的线圈和等离子体发生装置，该线圈包括至少一个由导线卷绕而成的螺旋部，对于所述线圈的至少一个所述螺旋部，所述导线的投影面积Sa与所述螺旋部的外缘所包围的区域的投影面积S的比值为0.07～0.5。本申请的线圈能够改善该线圈导入的电磁场所产生的等离子体的均匀性。

公开(公告)号：CN206902226U

公开(公告)日：2018-01-19

申请号：CN201720367394.3

申请日：2017-04-10

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  菅原卓哉 ,  青山贵昭

IPC: C23C14/35

Abstract: 本实用新型公开一种成膜装置，该成膜装置包括：真空容器；与所述真空容器内部连通的排气机构；基板保持单元，其能保持多个基板；位于所述真空容器内部的成膜区域，所述成膜区域能够通过溅射从靶材释放出溅射离子到达所述基板；位于所述真空容器内的隔离单元，其将所述成膜区域与所述真空容器内的其他区域隔开；所述隔离单元被配置为将所述成膜区域与所述成膜区域的外部连通。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN216528739U

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202123375764.3

申请日：2021-12-29

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  青山贵昭 ,  宫内充祐 ,  松本繁治 ,  斋藤大嗣

IPC: H01J37/08 ,  H01J37/147 ,  H01J9/14

Abstract: 本申请实施例提供一种离子引出栅极以及离子源。所述离子引出栅极的截面呈弧状，在离子引出栅极上设置有贯穿离子引出栅极且中心轴线为直线的多个孔部；其中，多个孔部中的至少一部分孔部的中心轴线与孔部周围的离子引出栅极的表面的切线不垂直，和/或，离子引出栅极的厚度根据孔部的大小和相邻孔部之间的间隔被确定。由此，离子能够高效地通过离子引出栅极的孔部，从而进一步提升离子源的效率；此外，可以在提高栅极的离子束引出效率从而加大离子束密度的同时，兼顾地提高栅极的机械强度和延长使用寿命。

公开(公告)号：CN209065995U

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201821666566.8

申请日：2018-10-15

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 长江亦周 ,  尹诗流 ,  马图腾 ,  宫内充祐

IPC: C23C14/24

Abstract: 本申请公开一种成膜装置，包括：真空容器；位于所述真空容器内的基板支架，其具有用于保持基板的基板保持面；位于所述真空容器内的成膜单元，其用于在所述基板上形成薄膜；位于所述真空容器内的照射单元，其用于向所述基板支架发射粒子；所述照射单元能使所述基板保持面的电位状态为单一电位。本申请提供的成膜装置在成膜过程中不会产生异常放电，保证薄膜形成过程的稳定，提升成膜质量。

公开(公告)号：CN205062167U

公开(公告)日：2016-03-02

申请号：CN201520843493.5

申请日：2015-10-28

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 石田将崇 ,  林达也 ,  菅原卓哉 ,  我妻伸哉 ,  宫内充祐 ,  姜友松 ,  长江亦周

IPC: C23C14/34

CPC classification number: C23C14/34

Abstract: 本实用新型提供成膜装置。成膜装置具有：具有排气系统的真空容器；成膜区域，其形成于真空容器内；反应区域，其形成于真空容器内，并与成膜区域在空间上分离；阴极电极，其搭载靶材；溅射电源，其使面对靶材的被溅射面的成膜区域内产生溅射放电；等离子体产生单元，其使反应区域内产生通过在成膜区域内发生的溅射放电而形成的溅射等离子体之外的其他等离子体；将多个基板保持在外周面上的基板保持器；和使基板保持器旋转的驱动单元，借助驱动单元使基板保持器旋转，使基板在成膜区域内的规定的位置与反应区域内的规定的位置之间反复移动，成膜装置还具备：基板电极，其从背面搭载由基板保持器保持的基板；和偏置电源，其向基板电极供给电力。

公开(公告)号：CN202968678U

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201220694165.X

申请日：2012-12-14

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 盐野一郎 ,  林达也 ,  姜友松 ,  宫内充祐 ,  冈田胜久 ,  长江亦周

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/32

Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件（12），其配设于真空容器（10）内，用于保持多个基板（14）；旋转构件，其用于使基板保持构件（12）旋转；蒸镀构件（34），其以与基板（14）对置的方式设置；以及能量粒子源（38），其用于对基板（14）照射能量粒子。能量粒子源（38）在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下，安装于在真空容器（10）配设的门（10a）的内壁面。

公开(公告)号：CN202898521U

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN201220540309.6

申请日：2012-10-22

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 渡边健 ,  青山贵昭 ,  冈田胜久 ,  盐野一郎 ,  宫内充祐 ,  长江亦周

IPC: C23C14/24

Abstract: 本实用新型提供一种薄膜形成装置，其能够抑制由于蒸镀材料的粒子通过基板支架保持部件（3）的外周部和真空槽（1）的内壁面之间的间隙（S）而导致真空槽（1）内被污染这一情况。真空蒸镀装置（100）具备：真空槽（1）；蒸镀机构（4），其收纳在真空槽（1）内；和基板支架保持部件（3），其在比蒸镀机构（4）靠上方的位置收纳在真空槽（1）内，在所述真空蒸镀装置（100）中，在基板支架保持部件（3）的外周部和真空槽（1）的内壁面之间的间隙（S）内，配置有从基板支架保持部件（3）的外周部向真空槽（1）的内壁面延伸出的密封部（5）。