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51.发明授权N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체 제조방법 및 N-t-부톡시카르보닐말레이미드와 스티렌유도체의 공중합체를 이용한 내열성 포지티브 레지스트 화상 형성 방법 失效生产N-叔丁氧羰基马来酰亚胺与苯乙烯衍生物的共聚物的方法以及用N-叔丁氧羰基马来酰亚胺与苯乙烯衍生物的共聚物形成耐热正性抗蚀剂的方法
公开(公告)号：KR1019950000702B1
公开(公告)日：1995-01-27
申请号：KR1019910010272
申请日：1991-06-21
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08G73/06
Abstract: The copolymer, useful for a heat-resistant positive resist image, of N-t-butoxycarbonyl maleimide and styrene deriv. is produced by radical polycondensing an N-t-butoxycarbonyl maleimide monomer and a styrene deriv. with a radical initiator. The styrene deriv. is pref. styrene, p-acetoxystyrene, p-methylstyrene, p-t-butoxycarbonyloxystyrene, p-trimethylsillylstyrene or p- chlorinated styrene. The resist image is formed by spin-coating a soln. obtd. by dissolving the copolymer and an onium salt in a chlorobenzene on the silicon wafer, prebaking, ultra-violet exposing and postbaking the coated wafer, and developing it with a developing liquor i.e. trimethylammonium hydroxy soln., anisole, toluene, methylisobutyl ketone or chloroform.
Abstract translation: 用于耐热正性抗蚀剂图像的共聚物，N-叔丁氧基羰基马来酰亚胺和苯乙烯衍生物。 通过自由基缩聚N-叔丁氧基羰基马来酰亚胺单体和苯乙烯衍生物来制备。 与激进的发起者。 苯乙烯衍生物 是首选 苯乙烯，对乙酰氧基苯乙烯，对甲基苯乙烯，对叔丁氧基羰氧基苯乙烯，对三甲基甲硅烷基苯乙烯或对氯化苯乙烯。 通过旋涂溶胶形成抗蚀剂图像。 obtd。 通过将共聚物和鎓盐溶解在硅晶片上的氯苯中，预烘烤，紫外曝光和后烘烤涂覆的晶片，并用显影液，即三甲基铵羟基溶胶，苯甲醚，甲苯，甲基异丁基酮或氯仿显影。
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公开(公告)号：KR1019940010966B1
公开(公告)日：1994-11-21
申请号：KR1019920003540
申请日：1992-03-04
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08F222/40
Abstract: The N-tert-butoxymaleimide/styrene copolymer is produced by radical- copolymerizing N-tert-butoxymaleimide monomer and styrene derivative in the presence of a radical copolymerization initiator i.e. benzoyl peroxide or azobis (isobutylonitrile). The styrene derivative is pref. styrene, p-acetoxy styrene, p-methyl styrene, p-chloro styrene, m-chloromethyl styrene, p-tert- butoxycarbonyloxy styrene or p-trimethylsilyl styrene. The copolymer is used as a microlithographic resist having a high radiation-sensibility, resolution and heat resistance.
Abstract translation: N-叔丁氧基马来酰亚胺/苯乙烯共聚物通过在自由基共聚引发剂即过氧化苯甲酰或偶氮双（异丁腈）的存在下，使N-叔丁氧基马来酰亚胺单体和苯乙烯衍生物自由基共聚来制备。 苯乙烯衍生物是优选的。 苯乙烯，对乙酰氧基苯乙烯，对甲基苯乙烯，对氯苯乙烯，间氯甲基苯乙烯，对叔丁氧基羰基氧基苯乙烯或对三甲基甲硅烷基苯乙烯。 该共聚物用作具有高辐射敏感性，分辨率和耐热性的微光刻抗蚀剂。
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55.发明公开
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Patent Agency Ranking
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57.发明授权
公开(公告)号：KR101488701B1
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：KR1020130009528
申请日：2013-01-28
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C07D233/56 , C09D5/14 , A01N43/28
CPC classification number: A01N43/50 , C07D233/58 , A01N25/10 , A01N25/34
Abstract: 본 발명의 항균성 이미다졸륨 화합물, 광경화성 코팅 조성물 및 항균성 코팅막은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 유도체를 포함한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에서, 상기 X
- , R
1 및 R
2 에 대한 설명은 발명의 상세한 설명에 기재된 것과 같다. 상기 항균성 이미다졸륨 화합물은 여러 가지 균주에 대한 항균성이 뛰어난 특성이 있고, 광경화성 코팅 조성물에 포함되어 간단한 방식으로 항균성 코팅막을 제공할 수 있다. 또한, 항균성 코팅막은 상기 항균성 이미다졸륨 화합물이 단량체로 포함되어 고분자 쇄(chain)에 화학적으로 결합되어 존재하므로 항균 성능이 오래 유지되고, 광조사라는 방식으로 티올 엔 결합을 유도하여 제조공정이 간단하며, 유독한 유기용제의 사용이 불필요해 친환경적인 항균성 코팅막을 제공할 수 있다.-
58.发明授权
公开(公告)号：KR100687281B1
公开(公告)日：2007-02-27
申请号：KR1020050116037
申请日：2005-11-30
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: Injectable thermosensitive pluronic hydrogels coupled with bioactive materials for tissue regeneration and a preparation method thereof are provided to improve cell-affinity of the pluronic hydrogels while their thermosensitivity is maintained, so that they are useful for tissue regeneration. The injectable thermosensitive pluronic hydrogels coupled with bioactive materials through meta-acryloxyethyl trimellitic acid for tissue regeneration, represented by the formula(1) is provided, wherein R is a physiologically activating material; the metacryloxyethyl trimellitic acid is 4-metacryloxyethyl trimellitic acid or 2-methacryloxyethyl trimellitic acid; and the physiologically activating material is a cell-affinity ligand peptide or growth factor. The method for preparing the injectable thermosensitive pluronic hydrogels coupled with bioactive materials through meta-acryloxyethyl trimellitic acid for tissue regeneration comprises the steps of: (1) reacting the thermosensitive pluronic polymer with metacryloxyethyl trimellitic acid anhydride at room temperature to prepare the metacryloxyethyl trimellitic acid-fluronic polymer; and (2) coupling the metacryloxyethyl trimellitic acid-fluronic polymer with a cell-affinity ligand peptide or growth factor.
Abstract translation: 提供与用于组织再生的生物活性材料偶联的可注射热敏性普朗尼克水凝胶及其制备方法，以改善普朗尼克水凝胶的细胞亲和力，同时保持其热敏性，从而它们可用于组织再生。 提供了由式（1）表示的通过用于组织再生的偏丙烯酰氧基乙基偏苯三酸与生物活性材料偶联的可注射热敏性普朗尼克水凝胶，其中R为生理活性物质; 甲基丙烯酰氧基乙基偏苯三酸为4-甲基丙烯酰氧基乙基偏苯三酸或2-甲基丙烯酰氧基乙基偏苯三酸; 并且生理活化物质是细胞亲和配体肽或生长因子。 通过间 - 丙烯酰氧基乙基偏苯三酸与生物活性材料偶联制备用于组织再生的可注射热敏性普朗尼克水凝胶的方法包括以下步骤：（1）在室温下使热敏聚醚聚合物与甲基丙烯酰氧基乙基偏苯三酸酐反应以制备甲基丙烯酰氧基乙基偏苯三酸 - 氟聚合物; 和（2）将甲基丙烯酰氧乙基偏苯三酸 - 氟隆聚合物与细胞亲和配体肽或生长因子偶联。
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59.发明授权이미다졸륨기를 함유한 공중합체, 이의 제조 방법, 이를함유하는 태양전지용 전해질 조성물 및 이를 전해질로서포함하는 염료감응 태양 전지 失效含有咪唑鎓基团的共聚物，其制备方法，含有该共聚物的太阳能电池用电解质组合物以及包含该电解质组合物作为电解质的染料敏化太阳能电池
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60.发明授权
公开(公告)号：KR100479686B1
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：KR1020020009950
申请日：2002-02-25
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: C08F220/52
Abstract: 본 발명은 반도체 제조에서 미세 패턴 가공 시 노광된 빛의 난반사 억제를 위하여 사용될 수 있으며, 193nm 파장의 원자외선 영역에서 높은 광흡수도를 갖는
N -하이드록시페닐말레이미드 반복 단위 함유 유기 고분자, 이를 포함하는 반사 방지막용 조성물 및 이들의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유기 고분자를 포함하는 바닥 반사 방지막은 기가 비트급 디램(Giga-bit DRAM)의 고집적 반도체 소자 제조에 사용되어 회로의 층간 난반사 및 정재파 현상을 대폭 억제할 수 있으므로, 70nm - 120nm 급의 초고해상도 미세회로를 안정적으로 형성하여 반도체 제품의 생산 수율을 증대시킬 수 있다.
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