Abstract:
본 발명은 이산화탄소 탄산염 고정화 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 철강슬래그 또는 자연광물을 이용하여 이산화탄소를 광물상인 탄산염으로 안정하게 전환 및 고정시키는 이산화탄소 탄산염 고정화 방법에 관한 것이다. 이를 위하여 본 발명은, 원료 슬래그에 추출용매로서 암모늄염 용매를 공급하여 알칼리 성분을 추출하는 제1단계; 탄산화 반응기로 공급된 상기 알칼리 성분을 함유한 추출용액에 이산화탄소를 주입하여 탄산염 침전물로의 전환반응을 유도하여 상기 추출용액으로부터 탄산염 침전물을 생성시키는 제2단계; 원료 슬래그에 추출용매로서 아세트산 용매를 공급하여 알칼리 성분을 최종 추출하는 제3단계; 탄산화 반응기로 공급된 상기 제3단계의 알칼리 성분을 함유한 추출용액에 이산화탄소를 주입하여 탄산염 침전물로의 전환반응을 유도하여 상기 추출용액으로부터 탄산염 침전물을 생성시키는 제4단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 이산화탄소 탄산염 고정화 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 배기가스의 이산화탄소 회수방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 이산화탄소 흡수액의 재생에너지를 감소시켜 이산화탄소 회수비용을 절감하기 위한 배기가스의 이산화탄소 회수방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명은, 재생탑으로 유입되는 액상 흡수제의 용매보다 증발열 및 현열이 낮은 순환용매를 재생탑 하부에 공급하여 가열된 액상 흡수제와 혼합되게 함으로써 증발시켜 상기 재생탑 내부 압력을 액상 흡수제에서 유리된 이산화탄소의 배출이 가능하게 유지시키는 것을 특징으로 하는 배기가스의 이산화탄소 회수방법을 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A method for forming a trench for a silicon carbide semiconductor device is provided to simplify a manufacturing process by performing a two-step process once. CONSTITUTION: A polymer is deposited in a reactor excluding a wafer(S1). The wafer is put into the reactor. Electric power is applied to etch a trench(S2). An etching mask of the wafer is patterned with indium tin oxide. [Reference numerals] (S1) Polymer deposition in a reactor; (S2) Etching
Abstract:
PURPOSE: An electrode compostition for ink jet printing is provided to form a catalyst electrode layer of a counter electrode and obtain an increased fill factor effect and a decreased whole resistance effect of a dye-sensitized solar cell. CONSTITUTION: An electrode composition for ink jet printing contains 10-40 weight% of platinum nanoparticles, 1-10 weight% of a high molecular surface stabilizer, and 40-89 weight% of a solvent. The platinum nanoparticles have a particle diameter of 5-50 nm. A manufacturing method of an electrode for a dye-sensitized solar cell comprises a step of forming a catalyst electrode layer with a constant thickness by ink jet printing the electrode composition to a transparent substrate; and a step of plasticizing the electrode composition which is coated on the transparent substrate. Additionally, the dye-sensitized solar cell comprises a counter electrode which accepts the manufactured electrode and an operating electrode which is welded with the counter electrode.
Abstract:
본 발명은 이산화탄소의 고정방법에 관한 것으로서, 산처리를 통해 자연광물이나 제강 슬래그로부터 금속이온성분을 추출하고 여기에 이산화탄소를 주입하여 탄산염화 반응을 시켜 이산화탄소를 고정함에 있어 pH 조정 과정을 생략함으로써 반응을 효율적으로 진행하고 연속 고정이 가능하도록 하고 또한 폐기되는 추출용매를 재활용함으로써 전체 이산화탄소 고정비용을 절감할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명을 사용하여 이산화탄소를 고정할 경우 제철 산업 현장에서 발생하는 이산화탄소를 효율적으로 제거하여 온실 가스 발생을 대폭 감소시킬 수 있고 폐자원인 재강 슬래그를 재활용할 수 있는 장점도 있다.
Abstract:
PURPOSE: A resource circulating carbon dioxide fixing method is provided to suppress the generation of floating slaked lime by omitting a pH value adjusting process for a carbon dioxide fixing reaction. CONSTITUTION: Metallic ion components are extracted by acid-treating natural minerals or iron manufacturing slag. Carbon dioxide is injected into the extracted solution containing the metallic ion components to undergo carbonization. A dissolved solution containing the carbonate is transferred to a dissolved carbonate storing bath and is stored in the storing bath. The stored dissolved carbonate is transferred to a carbonate separating and refining bath. The pH value of the separating and refining bath is adjusted to be 7 or more, and the carbonate is separated. The remaining solution is acid-treated to be recycled as an extracting solvent for the metallic ion component extracting process.
Abstract:
PURPOSE: A curved dye-sensitized solar cell and a manufacturing method thereof are provided to increase light efficiency by attaching a reflective film to a concave surface on a curved substrate for a counter electrode. CONSTITUTION: A curved substrate having curvature is prepared. A curved conductive substrate(10) for a working electrode is prepared by coating a conductive film(12) on a concave surface of the curved substrate. A curved conductive substrate(20) for a counter electrode is prepared by coating a conductive film(22) on the convex surface of the curved substrate. Metal electrodes(14,24) and protective films(16,26) are formed on the curved conductive substrate. The working electrode is manufactured by coating a semiconductor oxide electrode film(18) on the concave surface of the curved conductive substrate for the working electrode . The counter electrode is manufactured by coating a catalyst electrode(28) on the convex surface of the curved conductive substrate for the counter electrode.
Abstract:
본 발명은 나노 엠보 패턴 표면을 갖는 플라스틱 및 이의 제조 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 폴리프로필렌(polypropylene, PP) 고분자 표면에 아르곤 이온빔을 조사하여, 폴리프로필렌 고분자 표면에 나노 엠보(embossing) 패턴이 형성되도록 한 나노 엠보 패턴 표면을 갖는 플라스틱 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 진공 챔버내에서 고분자 재료의 표면에 이온빔을 조사하되, 그 조사 시간 및 가속 전압 크기를 조절하면서 조사하는 표면 처리를 수행하여, 고분자 재료 표면에 나노 크기의 엠보 패턴이 형성되도록 한 것을 특징으로 하는 나노 엠보 패턴 표면을 갖는 플라스틱 및 이의 제조 방법을 제공한다. 나노, 엠보, 패턴, 플라스틱, 고분자, 이온빔, 내외장재
Abstract:
본 발명은 자동차용 디스플레이 장치에 관한 것으로, 운전자의 시선을 인식하여 시선이 머무는 지점의 시선좌표를 찾아내는 시선인식유니트와; 상기 시선인식유니트로부터 전달받은 상기 시선좌표를 자동차의 인테리어좌표로 환산하고 상기 인테리어좌표에 해당하는 지점에 필요한 정보를 영상으로 표시하는 정보표시유니트를 구비하며, 상기 정보표시유니트는, 자동차의 내측에 설치되며 상기 인테리어좌표에 해당하는 지점에 중요정보와 부가정보를 영상으로 디스플레이하는 디스플레이수단과; 상기 디스플레이수단의 방향 및 위치를 조절하는 구동수단과; 상기 구동수단을 제어하고, 상기 인테리어좌표에 해당하는 지점에 필요한 정보를 선택하여 상기 디스플레이수단에 제공하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이러한 구성에 의해서 운전자의 시선이 머무는 지점에 중요정보 및 부가정보를 표시함으로써 운전자의 시선의 분산을 방지할 수 있다. 디스플레이 장치, 시선인식유니트, 인테리어좌표, 정보표시유니트
Abstract:
PURPOSE: A fabrication method of nanocomposite powders consisted with carbon nanotube and metal is provided to prevent damage to carbon nanotube by manufacturing nanocomposite powder via two steps of low speed and high speed milling process. CONSTITUTION: A fabrication method of nanocomposite powders consisted with carbon nanotube and metal is as follows. Carbon nanotube and metal base powder are uniformly mixed by a low speed milling(S10). The low speed milling process performs in a milling speed of 1rpm~100rpm for 20 hours. The carbon nanotube and metal base powder uniformly mixed by the low speed milling process is milled at high speed for uniform dispersion(S20). The high speed milling process is performed in speed of 100rpm~5000rpm for 1 hour.