中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

75 records (took 0.022 seconds)

    Rezeptur für die Rotationsbeschichtung und Verfahren zum Ablösen eines ionenimplantierten Fotolacks
    51.
    发明专利
    Rezeptur für die Rotationsbeschichtung und Verfahren zum Ablösen eines ionenimplantierten Fotolacks 未知

    公开(公告)号：DE112010004081B4

    公开(公告)日：2013-08-14

    申请号：DE112010004081

    申请日：2010-12-03

    Applicant: IBM

    Inventor： TOTIR GEORGE GABRIEL ,  KHOJASTEH MAHMOUD ,  AFZALI-ARDAKANI ALI ,  NUNES RONALD WAYNE

    IPC: H01L21/311 ,  G03F7/42 ,  H01L21/312

    Abstract: Verfahren mit Entfernen eines ionenimplantierten Fotolackmaterials von einem Halbleitersubstrat, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfasst: Bereitstellen eines strukturierten Fotolacks auf einer Oberfläche einer Halbleiterstruktur, wobei sich in dem strukturierten Fotolack mindestens eine Öffnung befindet, die eine obere Oberfläche eines Halbleitersubstrats der Halbleiterstruktur freilegt; Einlagern von Dotanden in die freiliegende obere Oberfläche des Halbleitersubstrats sowie in den strukturierten Fotolack durch Ionenimplantation; Bilden eines Polymerfilms, der ein Oxidationsmittel enthält, zumindest auf freiliegenden oberen Oberflächen des ionenimplantierten und strukturierten Fotolacks; Durchführen eines Temperschrittes, der eine Reaktion zwischen dem Polymerfilm und dem ionenimplantierten und strukturierten Fotolack verursacht, bei welcher ein modifizierter strukturierter Fotolack gebildet wird, der in wässrigen, sauren oder organischen Lösemitteln löslich ist; und Entfernen des veränderten strukturierten Fotolacks von der Halbleiterstruktur unter Verwendung eines wässrigen, sauren oder organischen Lösemittels.

    CERIUM(IV)-SALZE ALS WIRKSAMER DOTIERUNGSSTOFF FÜR KOHLENSTOFFNANORÖHRCHEN UND GRAPHEN
    52.
    发明专利
    CERIUM(IV)-SALZE ALS WIRKSAMER DOTIERUNGSSTOFF FÜR KOHLENSTOFFNANORÖHRCHEN UND GRAPHEN 未知

    公开(公告)号：DE102012222023A1

    公开(公告)日：2013-06-20

    申请号：DE102012222023

    申请日：2012-12-03

    Applicant: IBM

    Inventor： AFZALI-ARDAKANI ALI ,  CHANDRA BHUPESH ,  TULEVSKI GEORGE S

    IPC: C01B31/00 ,  B82B3/00 ,  H01J1/304

    Abstract: Ein Prozess umfasst das Kombinieren eines in einem wässrigen Lösungsmittel gelösten Cer(IV)-Salzes mit einem Kohlenstoffmaterial, das CNTs oder Graphen aufweist, wobei das Cer(IV)-Salz aus einem Cer(IV)-Ammoniumsalz einer Stickoxidsäure, einem Cer(IV)-Ammoniumsalz einer Schwefeloxidsäure, einem Cer(IV)-Salz einer Niederalkyl-Organo-Schwefelsäure oder einem Cer(IV)-Salz einer Niederalkan-Organo-Schwefelsäure gewählt wird. In einer Ausführungsform wird das Cer(IV)-Salz aus Cer(IV)-Ammoniumnitrat, Cer(IV)-Ammoniumsulfat, Cer(IV)-Niederalkylsulfonat oder Cer(IV)-Trifluor-Niederalkansulfonat gewählt. Ein Produkt wird durch diesen Prozess hergestellt. Ein Herstellungsartikel weist dieses Produkt auf einem Substrat auf.

    SELECTIVE PLACEMENT OF CARBON NANOTUBES
    53.
    发明专利
    SELECTIVE PLACEMENT OF CARBON NANOTUBES 未知

    公开(公告)号：CA2847579A1

    公开(公告)日：2013-04-04

    申请号：CA2847579

    申请日：2012-08-30

    Applicant: IBM

    Inventor： AFZALI-ARDAKANI ALI ,  TULEVSKI GEORGE STOJAN ,  PARK HONGSIK

    IPC: C01B31/02

    Abstract: A method of forming a structure having selectively placed carbon nanotubes, a method of making charged carbon nanotubes, a bi- functional precursor, and a structure having a high density carbon nanotube layer with minimal bundling. Carbon nanotubes are selectively placed on a substrate having two regions. The first region has an isoelectric point exceeding the second region's isoelectric point. The substrate is immersed in a solution of a bi- functional precursor having anchoring and charged ends. The anchoring end bonds to the first region to form a self-assembled monolayer having a charged end. The substrate with charged monolayer is immersed in a solution of carbon nanotubes having an opposite charge to form a carbon nanotube layer on the self-assembled monolayer. The charged carbon nanotubes are made by functionalization or coating with an ionic surfactant.

    Rezeptur für die Rotationsbeschichtung und Verfahren zum Ablösen eines lonenimplantiertenFotolacks
    55.
    发明专利
    Rezeptur für die Rotationsbeschichtung und Verfahren zum Ablösen eines lonenimplantiertenFotolacks 未知

    公开(公告)号：DE112010004081T5

    公开(公告)日：2012-11-15

    申请号：DE112010004081

    申请日：2010-12-03

    Applicant: IBM

    Inventor： TOTIR GEORGE GABRIEL ,  KHOJASTEH MAHMOUD ,  AFZALI-ARDAKANI ALI ,  NUNES RONALD WAYNE

    IPC: H01L21/311 ,  G03F7/42

    Abstract: Es wird eine Rezeptur für die Rotationsbeschichtung bereitgestellt, die zum Ablösen eines ionenimplantierten Fotolacks geeignet ist und eine wässrige Lösung eines wasserlöslichen Polymers, welches mindestens eine saure funktionelle Gruppe und mindestens ein Oxidationsmittel enthält, beinhaltet, wobei Letzteres ein Metall der Lanthanidengruppe enthält. Die Rezeptur für die Rotationsbeschichtung wird auf einen ionenimplantierten Fotolack aufgebracht und getempert, um einen veränderten Fotolack zu bilden. Der veränderte Fotolack ist in wässrigen, sauren oder organischen Lösemitteln löslich. Demgemäß kann eines der oben erwähnten Lösemittel zum vollständigen Ablösen des ionenimplantierten Fotolacks sowie aller möglicherweise vorhandenen Fotolackrückstände verwendet werden. An das Ablösen des veränderten Fotolacks kann sich ein Spülschritt anschließen.

    RECORDING MATERIALS WITH NEW HYDROPHILIC PROTECTIVE COATINGS FOR USE IN ELECTROEROSION PRINTING
    60.
    发明专利
    RECORDING MATERIALS WITH NEW HYDROPHILIC PROTECTIVE COATINGS FOR USE IN ELECTROEROSION PRINTING 未知

    公开(公告)号：CA1232135A

    公开(公告)日：1988-02-02

    申请号：CA477501

    申请日：1985-03-26

    Applicant: IBM

    Inventor： SACHDEV G KRISHNA ,  AFZALI-ARDAKANI ALI ,  PENNINGTON S KEITH ,  COHEN S MITCHELL

    IPC: G06K15/14 ,  B41M5/24 ,  B41N3/03 ,  C10M107/24 ,  C25F3/02

    Abstract: RECORDING MATERIALS WITH NEW HYDROPHILIC PROTECTIVE COATINGS FOR USE IN ELECTROEROSION PRINTING Electroerosion recording materials for "direct negative" and "offset master" are provided with a surface protective coating of solid conductive lubricant dispersed in a hydrophilic, crosslinked polymeric matrix. The protective films are especially useful where direct offset masters are produced without removal of noneroded lubricant film. The recording medium of this invention provides use as a defect-free "direct negative" and/or "direct offset master", without requiring the removal of the overlayer prior to use on the printing press. The protective coatings are applied from aqueous dispersions of polymerparticulate compositions and thus avoiding the use of organic solvents.

Patent Agency Ranking