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公开(公告)号：KR1020150090156A
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：KR1020157016674
申请日：2014-01-17
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/263 , H01J37/241 , H01J37/28 , H01J2237/225 , H01J2237/281
Abstract: 본발명의시료관찰장치는, 오목부인피관찰대상부를포함하는시료에, 제1 가속전압에의하여하전입자선을조사하는하전입자광학칼럼과, 하전입자선의조사에의하여얻어지는신호로부터피관찰대상부를포함하는화상을취득하는화상취득부와, 표준시료에서의오목부와당해오목부의주변부의명도비와, 표준시료에서의오목부의구조를나타내는값과의관계를나타내는정보를, 복수의가속전압별로미리기억하는기억부와, 상기화상에서의오목부와오목부의주변부의명도비를구하는연산부를구비한다. 연산부는, 관계를나타내는정보와상기화상에서의상기명도비를이용해서, 제1 가속전압의적부를판정한다.
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公开(公告)号：KR1020130026503A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：KR1020137003177
申请日：2011-08-08
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/263 , G01N23/22 , H01J37/222 , H01J37/28
Abstract: 본 발명의 하전 입자 빔 현미경은, 검출 입자(118)의 계측 처리법의 선택 수단(153, 155)을 구비하고, 상기 수단은 시료(114)로부터 방출되는 2차 전자(115)수가 많은 주사 영역과, 2차 전자수가 적은 주사 영역에서, 상이한 계측 처리법을 선택하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 하전 입자 빔 현미경을 이용한 시료 검사에 있어서, 방출되는 2차 전자수가 적은 구멍 바닥이나 홈 바닥의 대비를 강조한 상, 및 음영 대비를 강조한 상을 단시간에 취득할 수 있게 되었다.
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公开(公告)号：KR101727951B1
公开(公告)日：2017-04-18
申请号：KR1020157016674
申请日：2014-01-17
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/263 , H01J37/241 , H01J37/28 , H01J2237/225 , H01J2237/281
Abstract: 본발명의시료관찰장치는, 오목부인피관찰대상부를포함하는시료에, 제1 가속전압에의하여하전입자선을조사하는하전입자광학칼럼과, 하전입자선의조사에의하여얻어지는신호로부터피관찰대상부를포함하는화상을취득하는화상취득부와, 표준시료에서의오목부와당해오목부의주변부의명도비와, 표준시료에서의오목부의구조를나타내는값과의관계를나타내는정보를, 복수의가속전압별로미리기억하는기억부와, 상기화상에서의오목부와오목부의주변부의명도비를구하는연산부를구비한다. 연산부는, 관계를나타내는정보와상기화상에서의상기명도비를이용해서, 제1 가속전압의적부를판정한다.
Abstract translation: 本发明的样品观察装置，含有一个凹口被拒绝血液观察对象的样品，用于通过电压 - 光学柱照射的带电粒子束的第一加速带电粒子和带电粒子观察到的血液从由所述对象部分的线获得的信号 用于获取包括图像获取单元，和标准样品eseoui凹部与凹部周myeongdobi的技术和标准样品eseoui预先存储信息，其指示指示所述凹陷结构的值之间的关系的图像，由多个加速电压的 以及计算部分，用于获得图像中的凹入部分的凹入部分和周边部分的亮度比。 算术单元通过使用指示图像中的关系和亮度比的信息来确定第一加速电压的单位。
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公开(公告)号：KR101411119B1
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：KR1020137003177
申请日：2011-08-08
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/263 , G01N23/22 , H01J37/222 , H01J37/28
Abstract: 본 발명의 하전 입자 빔 현미경은, 검출 입자(118)의 계측 처리법의 선택 수단(153, 155)을 구비하고, 상기 수단은 시료(114)로부터 방출되는 2차 전자(115)수가 많은 주사 영역과, 2차 전자수가 적은 주사 영역에서, 상이한 계측 처리법을 선택하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 하전 입자 빔 현미경을 이용한 시료 검사에 있어서, 방출되는 2차 전자수가 적은 구멍 바닥이나 홈 바닥의 대비를 강조한 상, 및 음영 대비를 강조한 상을 단시간에 취득할 수 있게 되었다.
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公开(公告)号：KR1020160071368A
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：KR1020167006812
申请日：2014-08-08
Applicant: 스윈번 유니버시티 오브 테크놀로지
Inventor： 주오드카지스사울리우스 , 게르빈스카스게디미나스 , 세니우티나스게디미나스
IPC: G01N23/225 , G21K5/00 , H01J37/00
CPC classification number: H01J37/265 , B82Y40/00 , G01N23/225 , G01N2223/073 , G01N2223/351 , G01N2223/611 , G21K5/00 , H01J37/00 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J37/3002 , H01J37/3178 , H01J2237/004 , H01J2237/0047 , H01J2237/28
Abstract: 하전입자를사용하는이미징또는조작용장치로서, 이장치는이온또는전자의하전입자빔을생성하도록구성된하전입자소스; 이미징또는조작을위해하전입자빔에샘플을고정하는하전입자소스에대해장착된샘플고정기; 및광학빔을생성하도록구성된광원시스템을포함하며, 상기광원시스템은이미징또는조작의공간해상도를개선하기위해이미징또는조작동안샘플의전하를변형하는광학빔을샘플위로지향하게하는샘플고정기에대해장착된다.
Abstract translation: 一种用于使用带电粒子进行成像或制造的装置，所述装置包括：被配置为产生离子或电子的带电粒子束的带电粒子源; 相对于带电粒子源安装的样品保持器，以将样品保持在带电粒子束中用于成像或制造; 以及被配置为产生光束的光源系统，其中所述光源系统相对于所述样品保持器安装以将所述光束引导到所述样品上，以在成像或制造期间修改所述样品的电荷，以改善所述样品的空间分辨率 成像或制作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101550558B1
公开(公告)日：2015-09-04
申请号：KR1020147003926
申请日：2012-08-16
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/153 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J37/29 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/24578
Abstract: 본발명의하전입자선장치는, 2차하전입자(112) 신호를검출하는제1 검출조건과, 반사하전입자(111) 신호를검출하는제2 검출조건사이에서, 하전입자선의주사편향량을보정하도록편향기를제어하는것을특징으로한다. 이에의해, 검출하는하전입자종을변경했을때에발생하는배율변동이나측장오차를보정할수 있다. 그로인해, 저단차시료나대전시료의관찰, 측정등에있어서, 반사하전입자신호에기초하는화상을형성할때에도, 배율변동이나측장오차에의하지않고정확한화상을취득하는것이가능해졌다.
Abstract translation: 根据本发明的带电粒子束装置2 chaha带电粒子112，第一搜索条件，并且所述第二检测条件之间的反射带电粒子（111），用于检测所述信号，行扫描的带电粒子校正偏转量，用于检测所述信号 控制偏转器。 这使得可以校正当改变要检测的带电粒子类型时导致的倍率变化和长度测量中的误差。 从而，这样的低阶段初级样品或样品带电的观察，测量，形成基于反射带电粒子信号的图像时，它没有变化，并且长度测量误差获得正确的图像的放大率成为可能。
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公开(公告)号：KR101752164B1
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：KR1020167000604
申请日：2014-03-10
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J2237/164 , H01J2237/202 , H01J2237/28
Abstract: 하전입자광학계와시료사이에하전입자선이투과가능한격막을설치한하전입자선장치에있어서, 시료에요철이있는경우여도시료와격막의접촉을방지한다. 일차하전입자선의조사에의해시료(6)로부터방출되는이차적하전입자를검출하는검출기(3)로부터출력되는검출신호또는당해검출신호로부터생성되는화상에의거해서, 시료(6)와격막(10)의거리를감시한다.
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公开(公告)号：KR101685274B1
公开(公告)日：2016-12-09
申请号：KR1020147030888
申请日：2013-04-12
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
IPC: H01J37/21 , H01J37/28 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/26
CPC classification number: H01J37/21 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J37/3178 , H01J2237/04756 , H01J2237/0492 , H01J2237/063 , H01J2237/10 , H01J2237/15 , H01J2237/21 , H01J2237/244 , H01J2237/2602 , H01J2237/281
Abstract: 깊은구멍관찰등을위해서리타딩과부스팅을조합해서제어함으로써, 신호전자를에너지선택해서검출하는경우, 포커스조정에는대물렌즈의자장변화를사용할수밖에없지만, 자장변화는응답성이나쁘기때문에, 스루풋이저하되어버린다. 1차전자선을발생하는전자원과, 상기 1차전자선을집속하는대물렌즈와, 상기 1차전자선을편향시키는편향기와, 상기 1차전자선의조사에의해시료로부터발생하는 2차전자또는반사전자를검출하는검출기와, 상기 1차전자선이통과하는구멍을갖는전극과, 상기전극에부전압을인가하는전압제어전원과, 상기시료에부전압을인가함으로써상기시료상에상기 1차전자선을감속시키는전계를생성하는리타딩전압제어전원을구비하고, 상기전극에인가되는전압과상기시료에인가되는전압의차를일정하게한 채초점조정을행한다.
Abstract translation: 当通过组合并控制用于观察深孔等的延迟和升压来进行能量选择来检测信号电子时，聚焦调整的唯一方式是使用物镜的磁场变化。 然而，由于磁场变化的响应性差，吞吐量降低。 带电粒子束装置包括：电子源，被配置为产生一次电子束; 配置成聚焦一次电子束的物镜; 偏转器，被配置为偏转所述一次电子束; 检测器，被配置为通过一次电子束的照射来检测从样品产生的二次电子或反射电子; 具有一次电子束通过的孔的电极; 电压控制电源，被配置为向所述电极施加负电压; 以及延迟电压控制电源，被配置为通过向样本施加负电压来产生使样品上的一次电子束减速的电场，其中带电粒子束装置执行焦点调整，同时施加到 施加到样品的电极和电压保持不变。
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公开(公告)号：KR1020110081283A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：KR1020117010295
申请日：2009-10-22
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: H01J37/28 , B82Y35/00 , G01B3/004 , G01B3/30 , G01B15/00 , H01J37/263 , H01J37/265 , H01J2237/2826
Abstract: 본 발명은 전자 현미경에서 사용되는 배율 교정을 고정밀도로 행하는 표준 부재를 제공한다. 일정 피치 치수의 주기 패턴으로 이루어지는 배율 교정 패턴을 포함하는 면 방위 (110) 또는 (100) 실리콘 기판과, 상기 일정 피치 치수의 주기 패턴을 포함하지 않는 광축 조정 패턴을 포함하는 면 방위 (110) 또는 (100) 실리콘 기판을, 접착제를 사용하지 않는 접합을 사용하고, 또한 상기 2매의 기판의 면 방위를 맞추어 접합한다. 다음에, 상기 접합 기판의 (111)면 혹은 (110)면이 단면 표면으로 되도록 벽개 혹은 다이싱한 후, 또한 상기 각 패턴에 있어서의 주기 패턴의 한쪽을 선택적으로 에칭함으로써, 단차가 없고 또한 초격자 패턴에 데미지가 없고 또한 기판 표면에 대해 수직인 단면 상에 일정 피치 치수의 요철 주기 패턴을 갖는 표준 부재가 형성된다.
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70.发明申请METHOD FOR IMAGE OUTLIER REMOVAL FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE CAMERAS 审中-公开用于传输电子显微镜摄像机的图像移出装置的方法
公开(公告)号：WO2016022419A2
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/US2015043134
申请日：2015-07-31
Applicant: GATAN INC
Inventor： MOONEY PAUL
CPC classification number: A61K39/00 , A61K48/00 , C12N15/09 , G06T5/005 , G06T2207/10061 , H01J37/222 , H01J37/26 , H01J37/263 , H01J2237/223 , H01J2237/226 , H01J2237/2448 , H01J2237/24495 , H01J2237/2617 , H04N5/3675
Abstract: Methods are disclosed for removal of outlier pixels from a transmission electron microscopy camera image. One exemplary method includes establishing a desired exposure of n electrons per pixel; exposing the camera to a series of sub-frame exposures to produce a series of sub-frame images; calculating an average image signal of all sub-frame exposures in said series; establishing a threshold selected to achieve a desired number of false positives; evaluating each of said sub-frame exposures for pixels further away from said average than said threshold; and replacing pixels in each of said sub-frame images that exceed said threshold with said average to form corrected sub-frame images.
Abstract translation: 公开了用于从透射电子显微镜照相机图像去除异常像素的方法。 一种示例性方法包括建立每像素n个电子的期望曝光; 将相机暴露于一系列子帧曝光以产生一系列子帧图像; 计算所述系列中所有子帧曝光的平均图像信号; 建立选定的阈值以实现期望数量的误报; 针对比所述阈值更远离所述平均值的像素评估所述子帧曝光的每一个; 以及用所述平均值替换每个所述子帧图像中超过所述阈值的像素以形成校正的子帧图像。
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