金属电镀沉积方法
    62.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103517571A

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201210300937.1

    申请日:2012-08-22

    Abstract: 本发明公开了一种金属电镀沉积方法,首先提供具有导通孔的绝缘基板,于该绝缘基板的第一表面上形成第一导电层,且在该第一导电层上局部形成阻层以使未覆盖该阻层的第一导电层形成待镀区域,将绝缘基板置于第一类镀液中使得第一金属层沉积于待镀区域中,接着移除该阻层及该阻层下方的第一导电层,之后,于该绝缘基板相对该第一表面的第二表面上形成第二导电层,且于第二导电层上形成遮蔽层,将前述绝缘基板置于第二类镀液中,使第二金属层沉积于该待镀区域的第一金属层上,最后移除该遮蔽层及该第二导电层。本发明通过导通孔的设置,让绝缘基板于酸性或碱性镀液中皆可执行电镀金属,可避免现有绝缘基板切割问题并提升量产良品率。

    散热基板
    69.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102469753A

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN201110105846.8

    申请日:2011-04-26

    CPC classification number: H05K1/053 H05K2201/0338 H05K2203/0315

    Abstract: 为了改进散热特性,此处公开了一种散热基板。该散热基板包括:具有预定厚度的铜层;在铜层的上表面和下表面上形成的阳极氧化绝缘层;以及在铜层和阳极氧化绝缘层之间形成的铝(Al)层。因此,改进了由铝(Al)层和铜(Cu)层组成的基体的散热功能,从而能够提供一种适用于高集成/高性能电子元件的高输出金属基板。

Patent Agency Ranking