公开(公告)号：KR1020010050809A

公开(公告)日：2001-06-25

申请号：KR1020000057889

申请日：2000-10-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정송 ,  강성호 ,  최영인

IPC: H04L12/56

CPC classification number: H04Q11/0478 ,  H04L2012/5635

Abstract: PURPOSE: An ABR(Available Bit Rate) service apparatus in a packet switching system is provided to minimize a requiring amount of hardware or a memory to offer a precise operation result in the case of implementing an ABR service algorithm as hardware. CONSTITUTION: A forward cell processing part(200) receives a forward cell and provides the first activation signal to a cardinality estimation part(202) if the cell is a forward RM(Resource Management) cell, was generated from a source, and has no CRC error. Whenever the forward cell processing part(200) provides the first activation signal, the cardinality estimation part(202) judges whether the received RM cell contributes to cardinality. The cardinality estimation part(202) estimates cardinality according to the second activation signal provided from a timer(210) and provides it to an ER(Explicit cell Rate) engine(208). The ER engine(208) calculates an ER according to the third activation signal provided from the timer(210) and provides it to a backward cell processing part(212). A queue counter(206) provides the size of the current queue and the frequency of queue variations to the ER engine(208) using the Q write and read signals supplied from an input/output buffer management part. The backward cell processing part(212) receives a backward cell and checks whether it is a backward RM cell. If the received cell is the backward RM cell, the backward cell processing part(212) compares whether the calculated ER provided from the ER engine(208) is smaller than the sum of an ER and an MCR(Minimum Cell Rate) contained in the received backward RM cell. In case that the calculated ER is smaller than the sum, the backward cell processing part(212) writes the calculated ER in the received backward RM cell.

Abstract translation: 目的：提供分组交换系统中的ABR（可用比特率）服务设备，以在将ABR服务算法实现为硬件的情况下最小化需要量的硬件或存储器来提供精确的操作结果。 构成：如果小区是前向RM（资源管理）小区，则从源地生成并且没有向前向小区处理部分（200）接收正向小区，并且将第一激活信号提供给基数估计部分（202） CRC错误。 每当前向信元处理部分（200）提供第一激活信号时，基数估计部分（202）判断接收到的信元是否对基数有贡献。 基数估计部（202）根据从定时器（210）提供的第二激活信号估计基数，并将其提供给ER（显式单元速率）引擎（208）。 ER引擎（208）根据从定时器（210）提供的第三激活信号计算ER，并将其提供给反向信元处理部分（212）。 使用从输入/输出缓冲器管理部件提供的Q写和读信号，队列计数器（206）向ER引擎（208）提供当前队列的大小和队列变化的频率。 反向信元处理部（212）接收反向信元，检查是否为反向信元。 如果接收到的小区是后向RM小区，则反向小区处理部（212）比较从ER引擎（208）提供的计算出的ER是否小于ER中包含的ER和MCR（最小信元速率）之和 收到后向RM单元。 在计算出的ER小于和的情况下，反向信元处理部（212）将计算出的ER写入接收到的反向信元。

公开(公告)号：KR1019990069803A

公开(公告)日：1999-09-06

申请号：KR1019980004294

申请日：1998-02-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박동철 ,  이종오 ,  강성호

IPC: H01L21/26

Abstract: 본 발명은 이온 주입 설비용 이온 차아지 변환 장치에 관한 것으로, 본 발명에서는 Mg 박스 냉각 공정이 진행될 때, 일정 량의 냉각 에어를 추가로 공급할 수 있는 에어 콘트롤러를 온도 콘트롤러 이외에 별도로 구비하고, 이를 통해, Mg 박스의 냉각 공정에 다량의 냉각 에어가 추가로 이용될 수 있도록 함으로써, 전체적인 Mg 박스의 냉각시간을 현저히 저감시킬 수 있고, 또한, 이러한 냉각 시간 저감을 통해, 이온 생성 장치에 의한 추가의 이온 재료 가스 소비를 방지함으로써, 전체적인 제품 생산비를 현저히 저감시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR2019970014985U

公开(公告)日：1997-04-28

申请号：KR2019950024583

申请日：1995-09-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: G11B7/08

公开(公告)号：KR2019970002946U

公开(公告)日：1997-01-24

申请号：KR2019950013565

申请日：1995-06-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: G11B7/09

CPC classification number: G11B7/0933 ,  G11B7/0932 ,  G11B7/0935 ,  G11B7/0953 ,  G11B7/0956

Abstract: 본고안은콤팩트디스크플레이어등에서디스크에기록된정보를재생하거나혹은디스크에정보를기록하는광픽업헤드의구동방향을포커스방향이나트래킹반지름방향및 트래킹접선방향의 3축방향으로제어할수 있게한 3축구동제어장치에관한것인바, 특징적인구성으로는코일과대물렌즈를홀더로조립시킨렌즈홀더조립체와, 상기렌즈홀더조립체를포커스방향으로제어하기위한포커스코일과, 상기렌즈홀디조립체를트래킹반지름방향으로제어하기위한제1~2트래킹코일과, 상기렌즈홀더조립체를트래킹접선방향으로제어하기위한제3~4트래킹코일과, 상기포커스코일과제1~2트래킹코일및 제3~4트래킹코일에흐르는전류에따라그 주위에적절한자속을발생시키는각각의재1~4자석과, 상기코일에발생하는자속을유효하게끌어내기위한각각의제1~4요크와, 상기렌즈홀더조립체의포커스방향이나트래킹반지름방향의움직임에대해힌지역할을하는제1~4와이어로구성함에있다.

公开(公告)号：KR1020170021582A

公开(公告)日：2017-02-28

申请号：KR1020150116154

申请日：2015-08-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강곤수 ,  강성호 ,  김민철 ,  유선호 ,  이광준 ,  이용훈 ,  이주홍 ,  최선홍 ,  하상철

IPC: H01J61/073 ,  H01J61/86 ,  H01J61/52

CPC classification number: H01J61/526 ,  H01J61/06 ,  H01J61/0732 ,  H01J61/523 ,  H01J61/82 ,  H01J61/90 ,  H01L21/67115 ,  H05B7/18

Abstract: 아크램프는내부에반응기체를수용하기위한아크튜브, 및상기아크튜브내에서서로대향하도록배치되며전기아크를발생시키기위한양극및 음극을포함한다. 상기양극은상기아크튜브의일단부로부터내부로연장하는양극헤드부, 및상기양극헤드부상에접합되고상부면의가장자리를따라연장형성된트렌치를갖는양극팁부를포함한다.

Abstract translation: 弧光灯包括用于在其中容纳反应气体的电弧管，以及在电弧管中彼此面对并且用于产生电弧的阳极和阴极。 正极包括从一个端部延伸到所述头部部分的正电极，和阳极头被接合到具有形成沿所述电弧管的顶部边缘侧前端部延伸的沟槽中的所述正极部。

公开(公告)号：KR1020130077186A

公开(公告)日：2013-07-09

申请号：KR1020110145765

申请日：2011-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강종훈 ,  김태곤 ,  최한메 ,  조은영 ,  강곤수 ,  강성호 ,  허성호

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/324 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/681 ,  H01L22/10 ,  H01L22/12 ,  H01L22/20

Abstract: PURPOSE: A wafer heat treating method is provided to prevent a wafer from breaking by performing a rapid heat treatment process after arranging the wafer in order not to position the defect of the wafer at an uneven temperature gradient area in a process chamber. CONSTITUTION: A defect of a wafer is detected. The wafer is arranged in order to position the defect at remaining areas except uneven temperature gradient areas in a process chamber (400). The wafer is rapidly heat-treated in the process chamber. The process chamber has a hexahedron shape of a rectangular cross section. The uneven temperature gradient areas are corner areas of the rectangular cross section.

Abstract translation: 目的：提供晶片热处理方法，以便在布置晶片之后执行快速热处理工艺以防止晶片破裂，以便不将晶片的缺陷定位在处理室中不均匀的温度梯度区域。 构成：检测到晶片缺陷。 布置晶片以将缺陷定位在处理室（400）中除了不均匀的温度梯度区域之外的其余区域。 晶片在处理室中快速热处理。 处理室具有矩形横截面的六面体形状。 不均匀的温度梯度区域是矩形横截面的拐角区域。

公开(公告)号：KR1020080019334A

公开(公告)日：2008-03-04

申请号：KR1020060081475

申请日：2006-08-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최재형 ,  김영선 ,  정정희 ,  이준영 ,  김중현 ,  강성호 ,  박홍범 ,  서종범

IPC: H01L21/04 ,  H01L21/20 ,  H01L27/108

CPC classification number: H01L21/0228 ,  H01L21/02205 ,  H01L21/324 ,  H01L28/40

Abstract: A method for forming a thin film and a method for manufacturing a capacitor using the same are provided to obtain an excellent dielectric layer by improving surface uniformity on a substrate. A lower electrode(102) is formed on a plurality of substrates(100) which are positioned within a chamber(10). A precursor layer is formed on the lower electrode by supplying precursor gas including hafnium and zirconium onto the substrates. A first purge process is performed to purge the inside of the chamber. A dielectric layer(120) including a zirconium oxide is formed on the lower electrode by oxidizing the precursor layer. A second purge process is performed to purge the inside of the chamber. An upper electrode(130) is formed on the dielectric layer.

Abstract translation: 提供一种形成薄膜的方法和使用其制造电容器的方法，以通过改善基板上的表面均匀性来获得优异的介电层。 在位于室（10）内的多个基板（100）上形成下电极（102）。 通过将含有铪和锆的前体气体供给到基板上，在下电极上形成前体层。 执行第一吹扫处理以吹扫室的内部。 通过氧化前体层，在下部电极上形成包含氧化锆的电介质层（120）。 执行第二吹扫处理以吹扫室的内部。 在电介质层上形成上电极（130）。

公开(公告)号：KR1020070016336A

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：KR1020050070920

申请日：2005-08-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장영호 ,  강성호 ,  김정훈 ,  김종환 ,  백승용 ,  장덕영

IPC: H01L21/20

CPC classification number: C23C16/4409 ,  H01L21/67126

Abstract: 프로세스 챔버의 파손을 방지할 수 있는 웨이퍼 가공 장치는, 웨이퍼에 대한 가공 공정을 위해 상기 웨이퍼를 수용하며, 하부가 개방된 실린더 형상을 갖고 상기 개방된 하부의 둘레를 따라 플랜지가 형성된 프로세스 챔버와 상기 프로세스 챔버를 지지하며 상하 개방된 실린더 형상을 갖고, 상기 가공 공정을 휘한 가스 공급부와 연결된 매니폴드와 상기 프로세스 챔버의 플랜지를 커버하도록 배치되어 상기 프로세스 챔버를 상기 매니폴드에 고정시키기 위한 고정 부재와 환형 일 형상을 갖고 상기 프로세스 챔버와 상기 매니폴드 사이에 배치되며, 상기 플랜지의 하부면과 외측면에 밀착하는 계단부를 갖는 시일 링을 제공한다. 따라서, 상기 프로세스 챔버와 상기 매니폴드 사이에 안정적인 시일 링을 이용하여, 상기 프로세스 챔버의 파손을 효과적으로 방지한다.

公开(公告)号：KR1020060134361A

公开(公告)日：2006-12-28

申请号：KR1020050053981

申请日：2005-06-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호 ,  안병호 ,  김대옥 ,  김기석 ,  전교준 ,  전두한 ,  김영민 ,  주용규 ,  이광영

IPC: H01L21/20

CPC classification number: C23C16/45544

Abstract: A connecting assembly and an apparatus for depositing an atomic layer using the same are provided to substantially eliminate a dead zone by using a gasket, thereby effectively suppressing adhesion of particles onto an inner wall of pipeline. A connecting assembly includes a fastening member enclosing a circumference of pipeline(131,132) which provides a flow path of a fluid, to keep ends of the pipeline closely, and a gasket(150) interposed between ends of the pipeline for suppressing damage of the ends. A center portion of the gasket protrudes to come into contact with the flow path. An inner diameter of the pipeline is enlarged at a portion adjacent to the end, and the gasket has a funnel shape to come in contact with the enlarged portion.

Abstract translation: 提供连接组件和使用其的沉积原子层的装置，以通过使用垫圈基本上消除死区，从而有效地抑制颗粒在管道内壁上的粘附。 连接组件包括封闭管道周边的紧固构件（131,132），其提供流体的流动路径，以保持管道的端部紧密;以及插入在管道的端部之间的垫圈（150），用于抑制端部的损坏 。 垫圈的中心部分突出以与流动路径接触。 管道的内径在与端部相邻的部分处扩大，并且垫圈具有与扩大部分接触的漏斗形状。

公开(公告)号：KR100590186B1

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：KR1019990049357

申请日：1999-11-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강성호

IPC: H04L12/28

Abstract: 본 발명의 HTTP(Hypertext Transfer Protocol)을 사용한 TFTP(Trivial File Transfer Protocol) 파일(File) 전송 시스템은, 인터넷(Internet)상에서 파일(문서)전송을 지원하는 HTTP를 사용하여 파일 전송을 요청하는 TFTP 클라이언트가 실행되는 클라이언트 시스템과 HTTP를 사용하여 상기 클라이언트의 파일전송 요청에 대한 서비스를 제공하는 TFTP 서버가 실행되는 서버 시스템을 포함한다. 본 발명은, 이와 같은 시스템을 이용하여 네트웍에서 TFTP 서버 프로그램을 별도로 설치/실행할 필요없이 인터넷을 이용하여 TFTP 파일을 다수의 사용자가 동시에 특정 두 시스템간에 전송할 수 있는 효과를 제공한다.
TFTP, HTTP, TCP/UDP, IP, Server, Client, Protocol