公开(公告)号：KR101451790B1

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：KR1020130046220

申请日：2013-04-25

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이헌주 ,  문명운 ,  오규환 ,  김성진 ,  유의선 ,  고태준 ,  김승철

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11 ,  G02B5/20 ,  G02B5/122 ,  G02B5/28 ,  G02B5/02

CPC classification number: G02B1/118 ,  B23H9/008 ,  C23C14/028 ,  C23C14/14 ,  C23C14/5853 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11 ,  G02B5/0221 ,  G02B5/122 ,  G02B5/208 ,  G02B5/282

Abstract: According to an embodiment of the present invention, a method of manufacturing a low-reflection surface body (30) includes a first step of preparing material (10) including a column structure (11) at a surface; a second step of preparing aluminum surface-material (20) by processing the column structure (11) to have an aluminum film (21); and a third step of oxidizing the aluminum surface-material (20) to form a nanoflake layer (31) to manufacture a low-reflection surface body (30) having a dual projection structure (33). The method of manufacturing the low-reflection surface body (30) totally and internally reflects and absorbs wavelengths in ranges of visible ray and infrared ray regions to provide the low-reflection surface body (30) which is a surface able to remarkably reduce reflection rate and can be applied in a surface of a photovoltaic element or surface processing of various displays by a simple, low-cost, and eco-friendly process.

Abstract translation: 根据本发明的实施例，制造低反射表面体（30）的方法包括：在表面上制备包括柱结构（11）的材料（10）的第一步骤; 通过处理柱结构（11）制备铝表面材料（20）以具有铝膜（21）的第二步骤; 以及将铝表面材料（20）氧化以形成具有双突起结构（33）的低反射表面体（30）的第三步骤，以形成纳米薄层（31）。 低反射面体（30）的制造方法全部内部反射吸收可见光和红外线区域的波长，提供能够显着降低反射率的表面的低反射面体（30） 并且可以通过简单，低成本和环保的方法应用于光电元件的表面或各种显示器的表面处理。

公开(公告)号：KR101397451B1

公开(公告)日：2014-05-21

申请号：KR1020130005012

申请日：2013-01-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이지영 ,  문명운 ,  성원경 ,  박종구 ,  양철웅 ,  조소혜 ,  이광렬

IPC: B82B3/00 ,  H01L31/042 ,  H01L31/09 ,  H01L27/14

CPC classification number: H01L31/035227 ,  H01L31/0322 ,  Y02E10/541

Abstract: A method for manufacturing CIGS nanorods or nanowires according to an embodiment of the present invention includes a deposition preparation step of placing raw materials including copper, indium, gallium, and selenium and a substrate in a reactor, and a deposition step of growing the CIGS nanorods or nanowires on a substrate by maintaining the temperature of the reactor in which a carrier gas flows at a constant flow rate at 850-1000°C. According to the method of the present invention, provided are Cu(In,Ga)Se_2 nanorods or nanowires having a uniform composition distribution, high light absorptivity, and high crystallinity without using a catalyst.

Abstract translation: 根据本发明的实施方案的制造CIGS纳米棒或纳米线的方法包括沉积制备步骤，将包括铜，铟，镓和硒的原料和基底放置在反应器中，以及沉积步骤，将CIGS纳米棒 或纳米线通过保持载体气体在850-1000℃恒定流速下流动的反应器的温度而在基底上。 根据本发明的方法，提供了不使用催化剂的组成分布均匀，光吸收率高，结晶度高的Cu（In，Ga）Se_2纳米棒或纳米线。

公开(公告)号：KR101349075B1

公开(公告)日：2014-01-16

申请号：KR1020110102843

申请日：2011-10-10

Applicant: 현대자동차주식회사 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 홍보기 ,  김세훈 ,  한국일 ,  이광렬 ,  문명운

IPC: H01M8/02 ,  H01M4/86 ,  H01M8/10 ,  B60L11/18

CPC classification number: H01M8/1007 ,  H01M4/8605 ,  H01M4/8807 ,  H01M4/8817 ,  H01M4/8821 ,  H01M4/886 ,  H01M8/1004 ,  H01M2008/1095 ,  H01M2300/0082 ,  Y02E60/521 ,  Y10S977/778 ,  Y10S977/89

Abstract: 본 발명은 물질전달성이 향상된 연료전지 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 마이크로미터 스케일의 거칠기를 갖는 기공체 표면을 나노 구조화를 위한 플라즈마 식각 처리하여 종횡비가 큰 나노 돌기를 형성함으로써 마이크로-나노 이중 구조(Micro-Nano Dual Structure)를 형성한 후 소수성 박막(Hydrophobic Thin Layer)을 코팅하여 소수성을 크게 증가시킨 고소수성의 기공체를 기체확산층으로 사용하는 연료전지 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 상기한 고소수성의 기공체를 연료전지의 기체확산층으로 사용할 경우 연료전지 내 전기화학반응 생성물인 물을 보다 효율적으로 배출시켜 물 범람 문제를 감소시킬 수 있고, 반응기체인 수소 및 공기(산소)가 고분자 전해질막-전극 접합체(MEA)에 원활히 공급되도록 하여 연료전지의 셀 성능을 향상시킬 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR101350668B1

公开(公告)日：2014-01-14

申请号：KR1020130097649

申请日：2013-08-19

Applicant: 씨제이제일제당 (주) ,  한국과학기술연구원

Inventor： 송은경 ,  조경식 ,  이진환 ,  윤태경 ,  이광렬 ,  문명운 ,  김성진

IPC: B65D25/14 ,  B82B1/00

Abstract: 본 발명은 플라스틱 재질의 식품용기에 있어서, 상기 식품용기의 표면에 형성되는 복수의 나노구조체; 및 상기 나노구조체가 형성된 상기 표면 상측으로 코팅되는 제 1소수성박막; 을 포함하는 나노구조의 소수성 표면을 갖는 식품용기 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 소수성뿐만 아니라 우수한 가스차단능력을 보유할 수 있는 나노구조의 소수성 표면을 갖는 식품용기 및 그의 제조방법을 제공할 수 있다.

公开(公告)号：KR101223921B1

公开(公告)日：2013-01-21

申请号：KR1020100097960

申请日：2010-10-07

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문명운 ,  이광렬 ,  허은규 ,  오규환

IPC: C23F4/04 ,  C23F1/02

Abstract: 본 발명은 초소수성 표면과 이를 포함하는 강철 소재 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 구체적으로, 표면의 젖음성 (wettability)이 현저히 낮고, 유체의 접촉각 (contact angle)이 크며, 접촉각 이력 (contact angle hysteresis)이 작은 초소수성 표면과 이를 포함하는 강철 소재 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명의 초소수성 표면은 나노/마이크로 패턴이 형성된 강철 표면 및 상기 강철 표면 상에 형성된 소수성 박막을 포함하여 이루어지고, 본 발명의 강철 소재는 그 표면에 상기의 초소수성 표면을 포함하며, 본 발명의 초소수성 표면의 제조방법은 (a) 강철 표면을 식각하는 단계, (b) 상기 식각한 강철 표면을 산화시켜 상기 강철 표면 상에 나노/마이크로 패턴을 형성하는 단계 및 (c) 상기 나노/마이크로 패턴이 형성된 강철 표면 상에 소수성 박막을 형성하는 � ��계를 포함하여 이루어진다.

公开(公告)号：KR101027012B1

公开(公告)日：2011-04-11

申请号：KR1020080101580

申请日：2008-10-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문명운 ,  이광렬 ,  김호영 ,  차태곤

IPC: C08G85/00 ,  C08J5/14

CPC classification number: C08J7/123 ,  Y10T428/269 ,  Y10T428/31504

Abstract: 본 발명은 기울어진 마이크로 기둥 배열이 형성된 고분자 및 이를 위한 제작 방법에 관한 것으로, 이온빔 처리의 입사각을 조절하여 기울어진 마이크로 기둥 배열을 제작함으로써, 드라이 셀프 클리닝(dry self-cleaning)을 가진 접합재료, 벽을 기어오를 수 있는 마이크로 로봇 제작, 반도체 라인에서의 웨이퍼 정렬기(wafer aligner) 등의 제작 등에 응용 가능하다. 또한, 본 발명은 에너지 소모량을 적게 사용할 수 있는 PECVD 방식을 이용한 이온빔 처리를 통하여, 기울어진 마이크로 기둥 배열을 갖는 고분자 표면을 형성할 수 있고, 이온빔 처리의 입사각, 조사 시간, 가속 전압의 크기 중 적어도 하나를 조절하여 마이크로 기둥의 기울어진 각도를 원하는 각으로 조절 가능하다.
마이크로 기둥, PDMS, 이온빔, 고분자, 기울어진 기둥 배열

公开(公告)号：KR1020100048799A

公开(公告)日：2010-05-11

申请号：KR1020080108114

申请日：2008-10-31

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 한준현 ,  문명운 ,  한승희 ,  지광구

IPC: G01L1/00 ,  G02F1/13 ,  G01N3/00

Abstract: PURPOSE: A coefficient of elasticity method of measurement of a multi-layered thin film which measures the modulus of elasticity is provided to measure the apparent modulus of elasticity of the multi-layered thin film using the wrinkle pitch of a single layered thin film layer and multilayer foil film layer. CONSTITUTION: Compressive stress is added to the multi-layered thin film sample in which a multi-layered thin film(1) is formed on a substrate. Wrinkle is formed on the multi-layered thin film surface of the multi-layered thin film sample. A wrinkle pitch(3) formed on the multi-layered thin film surface, and the through-thickness of the multi-layered thin film and coefficient of elasticity of substrate are measured. The apparent modulus of elasticity of the multi-layered thin film is obtained using a measured value.

Abstract translation: 目的：提供测量弹性模量的多层薄膜的弹性测量系数，以使用单层薄膜层的褶皱间距来测量多层薄膜的表观弹性模量， 多层箔膜层。 构成：在基板上形成多层薄膜（1）的多层薄膜样品中加入抗压应力。 在多层薄膜样品的多层薄膜表面上形成皱纹。 测量形成在多层薄膜表面上的皱纹间距（3）和多层薄膜的贯穿厚度以及基板的弹性系数。 使用测定值求出多层薄膜的表观弹性模量。

公开(公告)号：KR1020100047517A

公开(公告)日：2010-05-10

申请号：KR1020080106450

申请日：2008-10-29

Applicant: 현대자동차주식회사 ,  기아자동차주식회사 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 이광렬 ,  문명운 ,  김세훈 ,  안병기

IPC: H01M4/88 ,  C23C14/00 ,  H01M8/10 ,  B82Y30/00

CPC classification number: H01M8/1004 ,  C23C16/0263 ,  H01M4/8825 ,  H01M4/92 ,  H01M4/921 ,  H01M4/926 ,  Y02P70/56

Abstract: PURPOSE: A manufacturing method of a membrane electrode assembly for a fuel cell is provided to simplify the manufacturing process of the membrane electrode assembly, and to reduce the amount of a white pole catalyst. CONSTITUTION: A manufacturing method of a membrane electrode assembly for a fuel cell to form a nano surface structure on a polymer electrolyte membrane comprises the following steps: plasma treating the surface of the polymer electrolyte membrane(30) located in a chamber for plasma treating using PACVD method, while maintaining the pressure range of the chamber into 1.0×10^(-7)~2.75×10^(-3) pascals; forming a nanostructure(40) with hair patterns on the surface of the polymer electrolyte membrane by plasma treating for 1 seconds~60 minutes; and evaporating a catalyst on the surface of the polymer electrolyte membrane.

Abstract translation: 目的：提供一种用于燃料电池的膜电极组件的制造方法，以简化膜电极组件的制造工艺，并减少白极催化剂的量。 构成：在聚合物电解质膜上形成纳米表面结构的燃料电池用膜电极接合体的制造方法包括以下步骤：对位于室内的高分子电解质膜（30）的表面进行等离子体处理， PACVD方法，同时保持室的压力范围为1.0×10 ^（ - 7）〜2.75×10 ^（ - 3）帕斯卡; 通过等离子体处理1秒〜60分钟，在聚合物电解质膜的表面上形成具有毛发图案的纳米结构（40）; 并在聚合物电解质膜的表面上蒸发催化剂。

公开(公告)号：KR100851892B1

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：KR1020070056900

申请日：2007-06-11

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 문명운 ,  한준현 ,  이광렬 ,  한승희

IPC: H01J37/30 ,  H01J37/317 ,  H01L21/265

Abstract: A method for controlling morphology of a surface of a polymer using an ion beam and a polymer with a ripple pattern on a surface fabricated thereby, and applications thereof are provided to form a nano-size pattern of a particular shape in a desired region by changing an irradiation time and an incident angle. A focused ion beam(4) is irradiated obliquely in an incident angle(2) of a constant angle on an irradiation region(5) of an upper surface of a polymer substrate(3) in order to form a ripple pattern. A hierarchical structure having two or more different periods is formed in the ripple pattern by adjusting a beam irradiation time. The ripple pattern is oriented in a particular direction. The width and height of the ripple pattern are controlled by adjusting at least one of the incident angle and an irradiation time of the ion beam and intensity of an acceleration voltage.

Abstract translation: 使用离子束和由其制造的表面上的波纹图案的聚合物控制聚合物的形态的方法及其应用被提供以通过改变在所需区域中形成特定形状的纳米尺寸图案 照射时间和入射角度。 在聚合物基板（3）的上表面的照射区域（5）上以一定角度的入射角（2）倾斜地照射聚焦离子束（4），以形成波纹图案。 通过调整光束照射时间，在波纹图案中形成具有两个或更多个不同周期的分层结构。 波纹图案朝向特定的方向。 通过调节入射角和离子束的照射时间和加速电压的强度中的至少一个来控​​制波纹图案的宽度和高度。

公开(公告)号：KR100845744B1

公开(公告)日：2008-07-11

申请号：KR1020070070284

申请日：2007-07-12

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 이광렬 ,  문명운 ,  김태영 ,  비아루치잉그마르 ,  크라우스베빌로구아

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/033 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/324

Abstract: A fabricating method of a super-hydrophobic surface and a super-hydrophobic surface body fabricated therefrom are provided to enhance super-hydrophobic characteristics of a final surface by forming a double protrusion structure. A mask pattern(20) is formed on a wafer(10). A plurality of first protrusions(11) and a plurality of second protrusions(12) formed between the first protrusions are simultaneously formed by etching the wafer exposed by the mask pattern. A hydrophobic thin film is formed on the first protrusions and the second protrusions. The process for forming the first and second protrusions is performed by a plasma etch process using CF4 gas. The process for forming the first and second protrusions is performed under conditions of etch pressure of 2Pa-5pa and RF power of 100W-300W.

Abstract translation: 提供由其制造的超疏水表面和超疏水表面体的制造方法，以通过形成双突起结构来增强最终表面的超疏水特性。 在晶片（10）上形成掩模图案（20）。 通过蚀刻由掩模图案曝光的晶片，同时形成在第一突起之间形成的多个第一突起（11）和多个第二突起（12）。 在第一突起和第二突起上形成疏水性薄膜。 通过使用CF 4气体的等离子体蚀刻工艺来进行用于形成第一和第二突起的工艺。 用于形成第一和第二突起的工艺在蚀刻压力为2Pa-5pa和RF功率为100W-300W的条件下进行。