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公开(公告)号：KR1020130057383A
公开(公告)日：2013-05-31
申请号：KR1020120009553
申请日：2012-01-31
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H04N13/04
CPC classification number: G06K9/6201
Abstract: PURPOSE: A 3D display system displaying an optimal watching area to an observer is provided to display a synthesized image on a display panel by synthesizing position information data and a 3D image of the observer obtained through a camera with an optimal watching area image in a 3D space. CONSTITUTION: A control device(400) obtains view distribution data in an observation range of vertical and horizontal directions by using each light source of a 3D image display device(100) of non-glass type. The control device obtains an optimal watching area image by using the view distribution data. The control device displays a synthesized image on the display panel by synthesizing position information data and a 3D image of an observer obtained from a 3D image obtaining unit(300) with the optimal watching area image in a 3D space.
Abstract translation: 目的：提供向观察者显示最佳观看区域的3D显示系统，以通过合成位置信息数据和通过具有3D的最佳观看区域图像的相机获得的观察者的3D图像来在显示面板上显示合成图像 空间。 构成：控制装置（400）通过使用非玻璃型3D图像显示装置（100）的各光源，在垂直和水平方向的观察范围内获得视图分布数据。 控制装置通过使用视角分布数据获得最佳观看区域图像。 控制装置通过在3D空间中合成位置信息数据和从3D图像获取单元（300）获得的观察者的3D图像与最佳观看区域图像，来在显示面板上显示合成图像。
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公开(公告)号：KR101262269B1
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：KR1020110079483
申请日：2011-08-10
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/027 , H01L21/66
Abstract: 본발명은마스크패턴검사용 3차원영상획득시스템및 그방법에관한것으로, 극자외선(Extreme Ultra-Violet, EUV)을방사하는광원부와, 상기광원부로부터방사된극자외선을반사하여집광하는오목거울과, 상기오목거울에의해집광된극자외선을측정대상마스크를향하여반사하는반사거울과, 상기측정대상마스크를안착시키는스테이지와, 상기스테이지의일측에구비되며, 상기측정대상마스크의전체이미지를스캔할수 있도록상기스테이지를 X축, Y축및 Z축방향으로이동시키기위한이동수단과, 상기측정대상마스크의 3차원높이정보를획득할수 있도록상기스테이지의 X축및 Y축중 적어도하나의축을기준으로일정각도좌/우측방향으로틸팅(tilting)시키기위한틸팅수단과, 상기측정대상마스크로부터반사된회절이미지를획득하는 CCD(Charged Coupled Device) 카메라와, 상기 CCD 카메라로부터획득된회절이미지를역 고속퓨리에변환(Inverse Fast Fourier Transform, IFFT)을수행하여상기측정대상마스크의패턴이미지를복원함과아울러상기이동수단및 상기틸팅수단의동작을제어하기위한구동제어신호를출력하는제어장치를포함함으로써, 극자외선(EUV) 광원으로만들어진차세대반도체공정에서사용되는 3차원구조의마스크패턴에존재하는미세결함(Defect) 등을효과적으로검사할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130039903A
公开(公告)日：2013-04-23
申请号：KR1020110104561
申请日：2011-10-13
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/66 , H01L21/027
CPC classification number: H01L22/12 , G03F7/70608 , G03F7/70616 , H01L21/0274 , H01L22/30
Abstract: PURPOSE: A 3-dimensional image acquisition system for mask pattern inspection and a method thereof are provided to effectively detect micro defects generated in a 3D mask pattern due to an extreme ultraviolet light source. CONSTITUTION: A first and a second optical source part(100a,100b) radiate first and second extreme ultraviolet. A first and a second concave mirror(200a,200b) condense the extreme ultraviolet radiated from the first and the second optical source part. A first and a second back mirror(300a,300b) reflect the condensed extreme ultraviolet to a measurement target mask. A first and a second CCD camera(600a,600b) records the diffraction beam information of the measurement target mask(10). The measurement target mask is mounted on a stage(400). A transfer unit(500) moves the stage in the X-axis and the Y-axis direction. [Reference numerals] (700) Control device;
Abstract translation: 目的：提供一种用于掩模图案检查的三维图像采集系统及其方法，以有效地检测由于极紫外光源而导致的3D掩模图案中产生的微缺陷。 构成：第一和第二光源部分（100a，100b）辐射第一和第二极紫外线。 第一和第二凹面镜（200a，200b）冷凝从第一和第二光学源部分辐射的极紫外线。 第一和第二后视镜（300a，300b）将浓缩的极紫外光反射到测量目标掩模。 第一和第二CCD照相机（600a，600b）记录测量目标掩模（10）的衍射光束信息。 测量目标掩模安装在平台（400）上。 传送单元（500）在X轴和Y轴方向上移动台。 （附图标记）（700）控制装置;
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公开(公告)号：KR101239316B1
公开(公告)日：2013-03-05
申请号：KR1020110105968
申请日：2011-10-17
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: H04N2013/0092
Abstract: PURPOSE: An interactive three-dimensional display system is provided to minimize crosstalk by controlling each parameter of a three-dimensional display device. CONSTITUTION: In a glassless 3-D image display device(100), a parallax barrier panel(20) is arranged in the front of a display panel. A control unit(200) receives display information and view point information from the glassless 3-D image display device. The control unit calculates the entire viewing zone width by a light from a point light source. The control unit obtains viewing zone distribution data in the horizontal and vertical direction viewing range in a predetermined viewing plane. A beam projector(300) outputs an optimum viewing area image in the bottom surface using the viewing zone distribution data.
Abstract translation: 目的：提供交互式三维显示系统，通过控制三维显示设备的每个参数来最小化串扰。 构成：在无玻璃三维图像显示装置（100）中，在显示面板的前方配置视差屏障面板（20）。 控制单元（200）从无玻璃三维图像显示装置接收显示信息和观看点信息。 控制单元通过来自点光源的光来计算整个观察区宽度。 控制单元在预定观察平面中获得水平和垂直方向观看范围内的观看区域分布数据。 光束投影仪（300）使用观察区分布数据输出底面中的最佳观看区域图像。
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公开(公告)号：KR1020120125895A
公开(公告)日：2012-11-19
申请号：KR1020110043627
申请日：2011-05-09
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G01N27/414 , G01N27/416
Abstract: PURPOSE: An automatic measuring system of a multi-sensor is provided to automatically process a probe pin inspection, an individual sensor inspection and electrical property measurement of a multi-sensor. CONSTITUTION: An automatic measuring system(100) of a multi-sensor comprises a voltage supply unit(110), a current and resistance measurement unit(120), a relay unit(130), a multiplexer unit(140), and a controller(150). The voltage supply unit supplies voltage for detection through a probe(52). The current and resistance measurement unit measures the current or resistance of individual sensors or individual probes. The relay unit switches on/off terminals of the individual sensors and individual probes when supplying voltage to a multi-sensor or receiving measurement signals from the multi-sensor. The multiplexer unit selects one among a plurality of the sensors in order to measure the current of the individual sensor while in the state that a voltage supply to the individual sensors is not cut off. The controller receives an input of a user, thereby controlling the voltage supply unit, the current and resistance measurement unit, the relay unit, and the multiplexer unit, or a controlling device of a probe station. [Reference numerals] (110) Voltage supply unit; (120) Current and resistance measuring unit; (130) Relay unit; (140) Multi-flexible unit; (150) Controller; (160) Semiconductor variable analyzer; (83) Probe chuck fixing arm controlling device; (85) Sensor transferring arm controlling device; (87) Cleaning pad transferring arm controlling device; (AA) PCB circuit
Abstract translation: 目的：提供多传感器的自动测量系统，以自动处理多针传感器的探针检测，单个传感器检测和电气性能测量。 构成：多传感器的自动测量系统（100）包括电压供应单元（110），电流和电阻测量单元（120），中继单元（130），多路复用器单元（140）和控制器 （150）。 电压供应单元通过探头（52）提供用于检测的电压。 电流和电阻测量单元测量各个传感器或单个探头的电流或电阻。 当向多传感器提供电压或从多传感器接收测量信号时，继电器单元接通各个传感器和各个探头的接通/断开端子。 多路复用器单元选择多个传感器中的一个，以便在对各个传感器的电压供应不被切断的状态下测量各个传感器的电流。 控制器接收用户的输入，从而控制电压供应单元，电流和电阻测量单元，中继单元和多路复用器单元或探测台的控制设备。 （附图标记）（110）供电单元; （120）电流和电阻测量单元; （130）继电器单元; （140）多功能单元; （150）控制器; （160）半导体可变分析仪; （83）探头卡盘固定臂控制装置; （85）传感器臂控制装置; （87）清洁垫传送臂控制装置; （AA）PCB电路
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110135138A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：KR1020100054881
申请日：2010-06-10
Applicant: 한국과학기술연구원
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/14 , C23C14/26
Abstract: PURPOSE: A side emitting type linear evaporation source, a manufacturing method thereof, and a linear evaporator are provided to uniformly evaporate materials on a large-size substrate. CONSTITUTION: A side emitting type linear evaporation source comprises a Pyrolytic Boron Nitride crucible(10). A first heating unit(20), multiple side discharging units, a first protection film, and an insulation unit. The top of the PBN crucible is opened to accept materials. The first heating unit is evaporated on the outer surface of the PBN crucible. Patterns suitable for heating are formed on the first heating unit. The side discharging units are formed by passing through the side surface of the PBN crucible and the first heating unit. The first protection film is formed on the inner surface of the PBN crucible and the surface of the side discharging units. The insulating unit electrically insulates the first heating unit from the first protection film.
Abstract translation: 目的：提供侧面发射型线性蒸发源，其制造方法和线性蒸发器以均匀蒸发大尺寸基板上的材料。 构成：侧面发射型线性蒸发源包括热解氮化硼坩埚（10）。 第一加热单元（20），多个侧排出单元，第一保护膜和绝缘单元。 打开PBN坩埚的顶部接受材料。 第一加热单元在PBN坩埚的外表面上蒸发。 适于加热的图案形成在第一加热单元上。 侧排出单元通过穿过PBN坩埚和第一加热单元的侧表面而形成。 第一保护膜形成在PBN坩埚的内表面和侧排出单元的表面上。 绝缘单元将第一加热单元与第一保护膜电绝缘。
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公开(公告)号：KR101085953B1
公开(公告)日：2011-11-22
申请号：KR1020100040571
申请日：2010-04-30
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L31/04
CPC classification number: Y02E10/542 , Y02P70/521
Abstract: 유리기판 위에 전도성막을 형성하고 그 위에 염료 분자가 흡착된 나노 반도체 산화물 입자를 전극 소재로 사용하는 염료감응형 태양전지 및 그의 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 염료감응형 태양전지는 홈(구멍)이 형성된 전도성막의 표면에 부착되는 반도체 입자들 및 이들 상에 적층되는 반도체 입자들을 상기 홈 내 또는 홈 상부에 구비하는 나노 산화물 전극층을 포함한다. 이때 홈의 반경은 20 마이크로미터 이하일 수 있고, 홈의 깊이는 20 마이크로미터 이상일 수 있다. 홈은, 벽 구조, 격벽 구조, 기둥 구조 중 어느 하나이다.
이러한 염료감응형 태양전지는, 유리기판 위에 전도성막을 입히고, 전도성막에 적어도 하나의 홈(구멍)을 형성한 후, 홈 내 또는 홈의 상부까지 나노 산화물 전극층을 형성함으로써, 제조 가능하다. 또는, 유리기판 위에 적어도 하나의 홈(구멍)을 형성하고, 홈의 측면 및 홈의 하부에 전도성막을 입힌 후(홈의 기둥 상부에 전도성막을 추가적으로 입힐 수도 있음), 홈 내 또는 홈의 상부까지 나노 산화물 전극층을 형성함으로써, 제조 가능하다.-
公开(公告)号：KR100860603B1
公开(公告)日：2008-09-26
申请号：KR1020070006794
申请日：2007-01-23
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 다중 양자우물 구조의 집적광소자용 에피박막의 제조방법에 관한 것으로서, 격자 정합된(lattice-matched) InGaAs/InGaAsP 다중 양자우물 구조의 3파장 반도체 레이저 집적광소자를 위한 에피박막의 제조방법에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, 격자 정합된 다중 양자우물 구조의 집적광소자용 에피박막의 제조방법에 있어서, 격자 정합된 에피박막 구조의 다중 양자우물 기판에 대하여 이온주입을 실시하는 단계와; 상기 다중 양자우물 기판의 에피박막 최상층에 300 nm의 SiO
2 박막을 증착하여 형성하는 단계와; SiO
2 박막이 증착된 다중 양자우물 기판을 온도를 달리하여 1차와 2차로 2단계의 열처리를 실시하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 상기와 같이 2단계로 진행되는 열처리 공정에 의해 양자우물 혼합(QWI)이 극대화되면서 최대의 파장 이동이 가능해지고, 결정 결함의 재결정화에 의해 이온주입에 의한 잡음 특성과 PL 광세기가 크게 향상되면서 크기와 전력소모가 작은 고기능 광집적회로를 쉽게 제작할 수 있는 효과가 있게 된다.
다중 양자우물 구조, 집적광소자, 에피박막, 반도체 레이저-
公开(公告)号：KR100588354B1
公开(公告)日：2006-06-12
申请号：KR1020040001064
申请日：2004-01-08
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G03H1/16
Abstract: 디지털 홀로그래피에서 퓨리어 변환과 제거함수를 이용한 0차 회절광의 제거방법에 대해 개시한다. 본 발명은 퓨리어 변환, 역퓨리어 변환 그리고 퓨리어 변환 공간에서 새로이 도입한 제거함수를 이용하여 디지털 카메라로 입력받는 물체와 참조광의 간섭무늬를 계산의 방법을 통하여 0차 회절광이 제거된 수치적 실상을 재생할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 0차 회절광을 제거함으로써 0차 회절광 영역의 대상 물체의 3차원 정보를 알아낼 수 있는 영역으로 본 발명을 확장할 수 있다.
디지털 홀로그래피, 3차원 현미경, 홀로그램, 0차 회절광, 3차원 정보-
公开(公告)号：KR100587519B1
公开(公告)日：2006-06-08
申请号：KR1020030023559
申请日：2003-04-15
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01S3/10
Abstract: 본 발명은 편광유지 레이저 공진기를 이용한 펄스진폭 균일화방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 편광모드에 의한 불안정성이 없는 편광유지 레이저 공진기를 이용하여 광변조기 대역폭보다 높은 반복율의 레이저 펄스를 얻을 수 있는 유리 고조 모드록킹에서 발생하는 펄스진폭의 불균일성을 제거함으로써 추가적인 펄스진폭 균일화 장치 없이 기존 광변조기의 변조지수의 최적화만을 통하여 펄스진폭 균일화를 구현할 수 있는 방법에 관한 것이다.
본 발명은, 편광유지 특성을 갖는 광학부품과 광섬유로 구성되는 레이저 공진기를 이용, 유리 고조 모드록킹을 하여 변조주파수의 정수배인 레이저 펄스열을 얻되, 상기 광학부품 중에서 광변조기에 인가하는 전기변조신호의 출력을 최적화하여 펄스진폭이 균일한 유리 고조 모드록킹된 펄스를 얻음을 특징으로 한다.
균일화, 유리 고조 모드록킹, 레이저 공진기, 편광유지
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