公开(公告)号：WO00068718A1

公开(公告)日：2000-11-16

申请号：PCT/US2000/012550

申请日：2000-05-08

IPC: G02B6/00 ,  C03B19/14 ,  C03B37/018 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C13/04 ,  G02B6/02 ,  G02B6/028 ,  H01S3/06 ,  H01S3/10

CPC classification number: G02B6/02114 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/0183 ,  C03B2201/58 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3417 ,  C03C2201/42 ,  C03C2201/58 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  G02B6/021 ,  G02B6/02138 ,  G02B6/0219

Abstract: The present invention relates to a glass article for use as an optical waveguide fiber (1), the core (4) of which is doped with a chalcogenide element to significantly increase the refractive index of the core (4). The subject of this invention is novel doped silica core composition wherein a portion of the oxygen in the silica is replaced with either sulfur, selenium or tellurium using plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). These compositions are designed to have higher refractive indices than silica, low coefficient of expansion, high optical transparency and appropriate viscosity and softening points to make them ideal candidates for use as optical waveguide fibers.

Abstract translation: 本发明涉及一种用作光波导纤维（1）的玻璃制品，其核心（4）掺杂有硫族化物元素以显着提高芯体（4）的折射率。 本发明的主题是新型掺杂二氧化硅芯组合物，其中使用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）将二氧化硅中的氧的一部分用硫，硒或碲代替。 这些组合物被设计为具有比二氧化硅更高的折射率，低的膨胀系数，高的光学透明度和适当的粘度和软化点，以使其成为用作光波导纤维的理想候选物。

公开(公告)号：WO00058232A1

公开(公告)日：2000-10-05

申请号：PCT/US2000/005947

申请日：2000-03-07

IPC: G02B6/00 ,  C03B37/012 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01446 ,  C03B2201/12 ,  C03B2203/26 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/31 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/46

Abstract: A method for controlling the refractive index achieved using a fluorine dopant gas, wherein CF4 is employed as the dopant gas, and the soot preform (12) is doped using the CF4 for a time and temperature sufficient to result in a decrease in fluorine dopant nearest the surface which is in contact with the CF4 gas. Preform (12) is mounted on handle (11) which is fused to handle (14) and the assembly (20) is heated in a furnace muffle (15). The CF4 flows through furnace muffle (15), as indicated by arrows (17), and preferably contains a diluent gas such as helium. An optional centerflow gas (16) may be flowed through the centerline hole (18) in several embodiments, which consists of helium. The end of the porous preform (12) may optionally include a capillary tube (19) to prevent the muffle gases (17) from entering the preform.

Abstract translation: 控制使用氟掺杂剂气体实现的折射率的方法，其中使用CF 4作为掺杂剂气体，并且使用CF 4掺杂烟灰预制件（12）足够的时间和温度以使氟掺杂剂最近的降低 与CF4气体接触的表面。 预制件（12）安装在手柄（11）上，手柄（11）熔合到手柄（14）上，并且组件（20）在炉马弗炉（15）中被加热。 如箭头（17）所示，CF4流过炉马弗炉（15），并且优选地包含诸如氦气的稀释气体。 在由氦组成的几个实施例中，可选的中心流气体（16）可以流过中心线孔（18）。 多孔预型件（12）的端部可任选地包括毛细管（19），以防止马弗炉气体（17）进入预型件。

公开(公告)号：WO2017103121A2

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：PCT/EP2016/081446

申请日：2016-12-16

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： OTTER, Matthias ,  HÜNERMANN, Michael ,  NIELSEN, Nils Christian ,  WESSELY, Frank ,  SCHREIBER, Andreas ,  ROOS, Björn ,  SCHEICH, Gerrit

IPC: C03B19/06 ,  C03C3/06 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/066 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C1/022 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/10 ,  C03C2204/04

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats aus einem pyrogen erzeugten Siliziumdioxidpulver, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat, iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, iv.) Zerkleinern des Quarzglaskörpers unter Erhalt einer Quarzglaskörnung, v.) Verarbeiten des Quarzglaskörpers zu einer Vorform und vi.) Bilden eines opaken Quarzglaskörpers aus der Vorform. Die Erfindung betrifft weiterhin einen opaken Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Reaktor und eine Anordnung, die jeweils durch Weiterverarbeiten des opaken Quarzglaskörpers erhältlich sind.

公开(公告)号：WO2015083323A1

公开(公告)日：2015-06-11

申请号：PCT/JP2014/005672

申请日：2014-11-12

Applicant: 信越半導体株式会社

Inventor： 宮原　祐一 ,  高島　祥 ,  澤崎　康彦 ,  岩崎　淳

IPC: C30B29/06 ,  C30B15/10

CPC classification number: C30B15/10 ,  C03C3/04 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C30B15/30 ,  C30B29/06 ,  C30B30/04

Abstract: 　本発明は、ＣＺ法による単結晶製造方法であって、石英ルツボの製造に用いられた石英原料粉に含まれるＡｌ／Ｌｉ比と、石英ルツボの使用時間と、該使用時間での失透割合と、失透部分起因の湯漏れの発生の有無との相関関係を予め求めておき、該相関関係に基づいて、湯漏れが発生しないように、単結晶の育成の際に使用する石英ルツボの失透割合の範囲を設定し、該設定した割合の範囲内に収まるように、石英ルツボの製造に用いられた石英原料粉に含まれるＡｌ／Ｌｉ比に応じて石英ルツボの最大使用時間を決定し、該最大使用時間の範囲内で石英ルツボを使用して単結晶の育成を行う単結晶製造方法を提供する。これにより、湯漏れの発生を防止するとともに、効率良く石英ルツボを使用して単結晶の育成を行うことができる製造方法が提供される。

Abstract translation: 本发明提供采用切克劳斯基法的单晶制造方法，其中：用于制造石英坩埚的石英原料粉末中包含的Al / Li比与石英坩埚的使用时间的关系 坩埚，使用期间的失透百分比，以及是否发生由失透部引起的耗尽的情况; 基于相关性设定生长信号晶体时使用的石英坩埚的失透百分比范围，使得不发生耗尽; 根据用于制造石英坩埚的石英原料粉末中包含的Al / Li比，确定石英坩埚的最大使用时间，使得失透百分比保持在设定的失透百分比范围内; 使用石英坩埚不超过生长单晶的最大使用时间。 结果，提供了抑制外泄的发生并且可以有效地利用石英坩埚来生长单晶的制造方法。

公开(公告)号：WO2014085529A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：PCT/US2013/072146

申请日：2013-11-27

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos, Alberto ,  HRDINA, Kenneth, Edward

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos, Alberto ,  HRDINA, Kenneth, Edward

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

CPC classification number: G03F1/22 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

Abstract: The present disclosure is directed to a doped silica-titania glass, DST glass, consisting essentially of 0.1 wt.% to 5 wt.% halogen, 50 ppm-wt. to 6 wt.% of one or more oxides of Al, Ta and Nb, 3 wt.% to 10 wt.% TiO 2 and the remainder SiO 2 . In an embodiment the halogen content can be in the range of 0.2 wt.% to 3 wt.% along with 50 ppm-wt. to 6 wt.% one or more oxides of Al, Ta and Nb, 3 wt.% to 10 wt.% TiO 2 and the remainder SiO 2 . In an embodiment the DST glass has an OH concentration of less than 100 ppm. In another embodiment the OH concentration is less than 50 ppm. The DST glass has a Active temperature T f of less than 875°C. In an embodiment T f is less than 825°C. In another embodiment T f is less than 775°C.

Abstract translation: 本公开涉及掺杂的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃DST玻璃，其基本上由0.1重量％至5重量％的卤素组成，50重量ppm。 至6重量％的一种或多种Al，Ta和Nb的氧化物，3重量％至10重量％的TiO 2，余量为SiO 2。 在一个实施方案中，卤素含量可以在0.2重量％至3重量％的范围内以及50ppm重量的范围内。 至6重量％的一种或多种Al，Ta和Nb的氧化物，3重量％至10重量％的TiO 2，余量为SiO 2。 在一个实施方案中，DST玻璃的OH浓度小于100ppm。 在另一个实施方案中，OH浓度小于50ppm。 DST玻璃的活性温度Tf小于875℃。 在一个实施方案中，Tf小于825℃。 在另一个实施方案中，Tf小于775℃。

公开(公告)号：WO2012094548A1

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：PCT/US2012/020402

申请日：2012-01-06

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  NONI, Douglas M

Inventor： NONI, Douglas M

IPC: C03C17/00 ,  C03C17/28 ,  B23B3/08

CPC classification number: B32B3/08 ,  C03C17/002 ,  C03C17/28 ,  C03C2201/32

Abstract: The application is directed to a product or material or article made of glass where the edge of the glass is protected by the application of a solid pre-formed polymer material that is contained within the thickness of the glass. The protected glass articles have a Figure of Merit in the range of 0.4 to 20, and the edge)s) of the articles have been found to withstand impact velocities of up to 500 mm/sec. The solid pre-formed polymer material that is contained within the thickness of the glass is thus applied to the edge, and it is applied such that it does not protrude into the top and bottom viewable planes, surfaces or faces (the large surface areas) of glass. The solid pre-formed polymer material, the protective material that is contained within the thickness of the glass, may be called herein a "bumper."

Abstract translation: 该应用涉及由玻璃制成的产品或材料或制品，其中通过施加包含在玻璃的厚度内的固体预成型聚合物材料来保护玻璃的边缘。 受保护的玻璃制品具有0.4至20的范围内的品质因数，并且已经发现制品的边缘）的抗冲击速度高达500mm / sec。 因此，将包含在玻璃的厚度内的固体预成型聚合物材料施加到边缘，并且施加使其不突出到顶部和底部可视平面，表面或面（大表面积） 的玻璃。 固体预成形的聚合物材料，包含在玻璃的厚度内的保护材料在本文中称为“保险杠”。

公开(公告)号：WO2011004852A1

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：PCT/JP2010/061566

申请日：2010-07-07

Applicant: 国立大学法人九州大学 ,  藤野 茂 ,  池田 弘 ,  稲葉 誠二 ,  梶原 稔尚

Inventor： 藤野　茂 ,  池田　弘 ,  稲葉　誠二 ,  梶原　稔尚

IPC: C08J5/00 ,  C01B33/12 ,  C03B8/02 ,  C03B20/00 ,  C08K3/22 ,  C08L29/04 ,  C08L101/00

CPC classification number: C03B20/00 ,  B82Y30/00 ,  C03B19/066 ,  C03B19/12 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/32 ,  C03C1/006 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/30 ,  C03C2201/32 ,  C03C2203/30 ,  C03C2203/36 ,  C08J5/005 ,  C08J5/02

Abstract: 本発明は、シリカナノ粒子と有機高分子とを含み、シリカナノ粒子と有機高分子とが３次元ネットワークを構成しているコンポジット成形体を提供することによって、成形加工性に優れるとともに、例えば、導電性が付与されたシリカガラスの製造にも好適に用いられ得るコンポジット成形体、及び、当該コンポジット成形体を焼成してなるシリカガラス（特に、導電性シリカガラス）を提供するものである。

Abstract translation: 提供了一种包含二氧化硅纳米颗粒和有机聚合物的复合成形体，其中二氧化硅纳米颗粒和有机聚合物构成三维网络。 复合成形体的成形性和可制造性优异，即使在制造赋予导电性的石英玻璃也适用。 还提供了通过焙烧复合成形体制造的石英玻璃（特别是导电石英玻璃）。

公开(公告)号：WO2009025077A1

公开(公告)日：2009-02-26

申请号：PCT/JP2008/002196

申请日：2008-08-12

Applicant: 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

Inventor： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC: C03B20/00 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/09 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/32 ,  C03C3/06 ,  C03C4/20 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  Y02P40/57

Abstract: 　本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、ＯＨ基含有量が１～５０ｗｔ．ｐｐｍであり、仮想温度が８００～１１００°Cであり、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎの各金属不純物濃度がそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であるシリカガラス、及び、このようなシリカガラスを製造するためのシリカガラスの製造方法である。これにより、化学反応装置の材料として長期間使用しても、材料表面のエッチング等による強度低下及び透過率低下の物性変化が抑制された、耐化学性に優れたシリカガラス、及びその製造方法が提供される。

Abstract translation: 公开了至少具有1-50重量％的OH基含量的二氧化硅玻璃。 ppm，假想温度为800-1100℃，Li，Na，K，Mg，Ca，Cr，Fe，Ni，Cu和Zn的金属杂质浓度不大于200wt。 PPM。 还公开了一种生产这种二氧化硅玻璃的方法。 这种二氧化硅玻璃具有优异的耐化学性，并且即使长时间用作化学反应器的材料，也抑制了由于表面蚀刻而导致的强度劣化和透射率降低等物理性能的变化。

公开(公告)号：WO2009022456A1

公开(公告)日：2009-02-19

申请号：PCT/JP2008/002145

申请日：2008-08-07

Applicant: 信越石英株式会社 ,  山形茂 ,  笛吹友美

Inventor： 山形茂 ,  笛吹友美

IPC: C03C3/06 ,  B01J35/02 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  B01J21/08 ,  B01J35/002 ,  B01J35/004 ,  B01J37/08 ,  C03B19/01 ,  C03B19/09 ,  C03B29/02 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2203/44

Abstract: 　本発明は、シリカガラスにおいて、少なくとも、前記シリカガラスは、ＯＨ基含有量が１～５００ｗｔ．ｐｐｍであり、酸素欠陥構造が実質的に存在しないものであり、金属不純物濃度が、表層部から内部にわたって、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎについてそれぞれ２００ｗｔ．ｐｐｂ以下であり、光触媒反応ユニットに使用されるものである光触媒用シリカガラス、及び、このような光触媒用シリカガラスを製造するための光触媒用シリカガラスの製造方法である。これにより光触媒反応ユニットに使用されるシリカガラスであって、長時間紫外線を照射しても性能が低下しにくい、耐紫外線性等に優れた光触媒用シリカガラス、及びその製造方法が提供される。

Abstract translation: 一种光催化剂用石英玻璃，用于光催化反应单元，羟基含量为1〜500重量ppm，基本上不含缺氧结构，其中金属杂质，Li，Na，K，Mg，Ca ，Cr，Fe，Ni，Cu和Zn在表面到芯的区域分别为200wt .ppb或更低; 以及生产石英玻璃的方法。 本发明提供一种用于光催化反应单元的光催化剂用石英玻璃，其耐紫外线性优异，即使长时间照射紫外线也不会导致性能劣化， 石英玻璃。

公开(公告)号：WO2008104485A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：PCT/EP2008/052045

申请日：2008-02-20

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan ,  WEBER, Juergen

Inventor： KUEHN, Bodo ,  OCHS, Stefan ,  WEBER, Juergen

IPC: C03B19/14

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/24 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/40 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/3411 ,  C03C2201/3441 ,  C03C2201/40 ,  G03F7/70958

Abstract: To provide an optical component of quartz glass for use in a projection objective for immersion lithography at an operating wavelength below 250 nm, which component is optimized for use with linearly polarized UV laser radiation and particularly with respect to compaction and birefringence induced by anisotropic density change, it is suggested according to the invention that the quartz glass should contain hydroxyl groups in the range of from 1 wtppm to 60 wtppm and chemically bound nitrogen, and that the mean hydrogen content of the quartz glass should be in the range of 5 x 10 15 molecules/cm 3 to 1 x 10 17 molecules/cm 3 .

Abstract translation: 为了提供石英玻璃的光学部件，用于在250nm以下的工作波长下用于浸没式光刻的投影物镜，该成分被优化用于线偏振UV激光辐射，特别是关于由各向异性密度变化引起的压实和双折射 根据本发明，建议石英玻璃应含有1wt％至60wtppm的羟基和化学键合的氮，并且石英玻璃的平均氢含量应在5×10 分子/ cm 3至1×10 17分子/ cm 3以上。