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公开(公告)号：CN1696652A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200510078348.3
申请日：2005-02-23
Applicant: 塞威公司
Inventor： 克里斯托弗·鲍尔 , 罗伯特·J.·弗勒瑞恩 , 亚当·哈特曼 , 飞利浦·C.·福斯特 , 杰伊·C.·纳尔逊 , 理查德·E.·斯托卡普二世
CPC classification number: G01N1/28 , G01N1/32 , G01R31/307 , H01J37/3056 , H01J2237/20 , H01J2237/2008 , H01J2237/206 , H01J2237/24592 , H01J2237/2594 , H01J2237/28 , H01J2237/2817 , H01J2237/31745
Abstract: 连通到带电粒子束装置(CPBD)的隔室上的定位器控制装置，其设定成使探针和隔室中的样品上的接触点。接触连通到CPBD的测量器和定位器可以支持样品性质的测量/检测。一种控制线路可以至少部分自动控制CPBD，定位器，以及测量器。一个或多个如此的部件支持的方法包括：把第一信号导向定位于隔室内的探针，在那至少一个探针被暴露于CPBD的光束中；把第二信号和第一信号作对比来决定样品性质；和加热至少一个邻近定位的探针尖，以至于随着加热除去部分材料，探针尖变得尖锐。
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公开(公告)号：CZ20140074A3
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CZ20140074
申请日：2014-01-30
Applicant: UNIV MASARYKOVA , TESCAN ORSAY HOLDING
Inventor： SŤAHEL PAVEL , ČERNÁK MIRKO , NAVRÁTIL ZDENĚK , JIRUŠE JAROSLAV , FIALA JIŘÍ , HANIČINEC MARTIN
CPC classification number: B08B7/0035 , G03F7/70841 , G03F7/70925 , H01J2237/26 , H01J2237/28
Abstract: Způsob snížení nebo odstranění organické a/nebo anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení, kde alespoňčást (4) plochy vnitřního povrchu vakuovaného prostoru (2) vakuového systému se opatří fotokatalytickou vrstvou (3), přičemž alespoňčást této fotokatalytické vrstvy (3) se chladí na teplotu v intervalu od 0 K do 280 K, přičemžřečená fotokatalytická vrstva (3) je dále alespoň z části ozařována elektromagnetickým zářením (5), které aktivuje fotokatalytickou reakci této fotokatalytické vrstvy (3) s adsorbovanými plyny atmosféry vakuovaného vnitřního prostoru (2) vakuového systému, kde tato reakce rozkládá kontaminanty a snižuje jejich koncentraci a/nebo koncentraci vody ve vakuovaném vnitřním prostoru (2) vakuového systému. Tento způsob a zařízení k jeho provádění umožňuje snížení nežádoucí organické a anorganické kontaminace vakuových systémů a to nejen v procesu výroby, ale také umožňuje snížení kontaminace v již provozovaných systémech, jako jsou např. SEM, TAM, SEM-FIB, XPS, MALDI, SIMS a další analytické a inspekční techniky.
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公开(公告)号：KR1020080033416A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：KR1020087003773
申请日：2006-08-18
Applicant: 씨이비티 주식회사
Inventor： 김호섭
IPC: H01J37/147
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/063 , H01J2237/06375 , H01J2237/1205 , H01J2237/28
Abstract: A method for regulating energy of an electron beam in an electron column is provided to easily maintain a super-high vacuum condition in an electron emitter by regulating the electron beam energy without applying a high voltage on the electron emitter. Voltages are applied on respective lens layers of a focus lens. An electron beam energy is changed by an electrode layer(10) for regulating electron beam energy, such as electrode layers(3a,3b,3c,6a,6b,6c) of a source lens(3) or a focus lens(6). A required energy is calculated and a voltage is applied on the electrode layer based on the calculated energy. A detector is coaxially arranged on the electrode layer. A voltage for an extractor is applied on a source lens position. A separate voltage is applied on a test material.
Abstract translation: 提供了一种用于调节电子束中的电子束能量的方法，以通过在电子发射器上施加高电压来调节电子束能量来容易地保持电子发射体中的超高真空状态。 电压施加在聚焦透镜的相应透镜层上。 电子束能通过用于调节电子束能量的电极层（10）改变，例如源透镜（3）或聚焦透镜（6）的电极层（3a，3b，3c，6a，6b，6c） 。 计算所需的能量，并且基于计算的能量在电极层上施加电压。 检测器同轴地布置在电极层上。 用于提取器的电压施加在源透镜位置。 在测试材料上施加单独的电压。
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公开(公告)号：KR1020070118964A
公开(公告)日：2007-12-18
申请号：KR1020070057029
申请日：2007-06-12
Applicant: 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 , 가부시끼가이샤 도시바
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/065 , H01J2237/061 , H01J2237/06375 , H01J2237/083 , H01J2237/1534 , H01J2237/24592 , H01J2237/28
Abstract: An electron beam apparatus is provided to estimate a sample like a semiconductor wafer including a micro pattern with high throughput and a minimum line width not greater than 0.1 mum by including an electron gun for generating a primary electron beam narrowly converged wherein the electron gun allows low brightness and high emittance. An electron beam apparatus includes an electron gun(61) and an image projection optical system. A primary electron beam(64) generated by the electron gun is irradiated to the surface of a sample. Secondary electrons emitted from the sample are formed as an image on a detector by the image projection optical system. The electron gun includes a cathode and a drawing electrode(3). The cathode includes an electron emission surface made of a concave surface.
Abstract translation: 提供一种电子束装置，用于通过包括用于产生窄电子束狭窄收敛的电子束的电子枪来估计包括具有高通量的微图案和不大于0.1μm的最小线宽的半导体晶片的样品，其中电子枪允许低 亮度和高发射率。 电子束装置包括电子枪（61）和图像投影光学系统。 由电子枪产生的一次电子束（64）照射到样品的表面。 从样本发射的二次电子通过图像投影光学系统形成为检测器上的图像。 电子枪包括阴极和牵引电极（3）。 阴极包括由凹面形成的电子发射表面。
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公开(公告)号：KR1020010013034A
公开(公告)日：2001-02-26
申请号：KR1019997011010
申请日：1998-04-23
Applicant: 더 보드 오브 트러스티스 오브 더 리랜드 스탠포드 주니어 유니버시티
Inventor： 바움,아론,더블유. , 쉬나이더,제임스,이.,쥬니어.
IPC: H01J40/06
CPC classification number: G03F7/70375 , H01J3/021 , H01J27/04 , H01J37/073 , H01J2201/3423 , H01J2237/045 , H01J2237/06333 , H01J2237/28 , H01J2237/31754
Abstract: 전자빔 소스는전자방사용활성화영역(208)을포함하는전자방사표면을가지는캐소드(200) 및상기캐소드의전자방사표면에인접하여배치된전도성차폐부를포함하는캐소드차폐어셈블리(220)를포함한다. 차폐부는활성화영역과정렬된개구부(222)를가진다. 전자빔 소스는캐소드(200)의활성화영역으로부터전자의방사를자극하기위한장치, 전자를전자빔으로형성하기위한전자광학부및 고진공에서캐소드를유지하기위한진공엔클로저를더 포함한다. 캐소드(200)는광전송기판(202)상에형성된음의전자친화력광전극일수있다. 차폐부는오염물로부터광 표면의비방사영역을보호하고캐소드재료가전자빔 소스의성분을오염시키는것을방지한다. 캐소드(200)는개구부와새로운활성화영역을정렬하기위하여차폐부의개구부(222)에관련하여이동될수있다. 게터재료및 활성화재료의소스는차폐어셈블리에통합될수있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：NL1037778C
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：NL1037778
申请日：2010-03-05
Applicant: ZEISS CARL NTS GMBH
Inventor： FOBER JOERG
IPC: H01J37/248 , H02M7/10
CPC classification number: H01J37/248 , H01J2237/28 , H02M7/103
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公开(公告)号：KR101810436B1
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：KR1020157033545
申请日：2014-05-27
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
IPC: G01B15/04
CPC classification number: G01B15/04 , G01B2210/56 , H01J37/222 , H01J2237/22 , H01J2237/24592 , H01J2237/28 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
Abstract: 본발명은, 전자디바이스작성공정에서나타나는미세한라인패턴의좌우의에지가같은형태로변형하는현상, 즉물결침의정도와특징을정량적으로평가하는방법및 그장치에관한것이며, 라인에지의변동의계측값은상기한물결침을포함하고있지만, 라인폭의변동량은포함하고있지않은것을이용해, 이들의차분을취하도록했다. 또한, 라인의중심의위치를산출하고, 그평균위치로부터의어긋남의분포를지표로하도록했다. 또한, 라인간의물결침의상관계수, 혹은라인간의동기해있는물결침성분을지표로서출력함으로써, 물결침의특징을정량화하도록했다.
Abstract translation: 本发明中，在电子装置中创建过程细线发展修改中所示的图案杂志的左侧和右侧的形式，其涉及一种方法和装置用于定量评价的程度和涌浪的特性，波动的手指在管线 测量值，但包括上述波针，即与线宽度的变化不包含，它必须采取这些差异。 此外，计算线的中心的位置，并将与平均位置的偏差的分布用作指标。 此外，通过输出到膨胀部件，通过该溶胀相关系数，或线之间的线之间的同步，作为指标，来量化溶胀的特性。
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公开(公告)号：KR101743083B1
公开(公告)日：2017-06-02
申请号：KR1020147022784
申请日：2013-02-18
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
CPC classification number: G06T7/001 , G01B2210/56 , G06K9/6255 , G06T7/0008 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , H01J37/222 , H01J37/24 , H01J37/26 , H01J2237/24578 , H01J2237/28 , H01J2237/2817 , H01L22/12
Abstract: 본발명은, 제조조건을미세하게변화시키는것에의한제조비용의증대를억제하면서, 적정한기준패턴데이터를생성하는패턴계측장치의제공을목적으로한다. 본발명은, 시료상에형성된패턴의측정을행하는연산처리장치를구비한패턴계측장치로서, 상기연산처리장치는하전입자선장치에의해얻어진신호에기초하여, 제조장치의제조조건이다른복수의회로패턴의화상데이터, 혹은윤곽선데이터를취득또는생성하고, 그화상데이터, 혹은윤곽선데이터로부터, 회로패턴의계측에사용하는기준데이터를생성하는것을특징으로하는패턴계측장치를제안한다.
Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种图案测量装置，其通过精细地改变制造条件来生成适当的参考图案数据，同时抑制制造成本的增加。 本发明提供一种具有用于执行上形成的样品的图案的测量数据处理单元的图形测定装置，基于由所述操作植物值带电粒子射线装置到另一多个国会获得的信号的制造装置的制造条件 图案数据或轮廓数据，并且从图像数据或轮廓数据生成要用于测量电路图案的参考数据。
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公开(公告)号：KR1020150140585A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：KR1020150079754
申请日：2015-06-05
Applicant: 칼 짜이스 마이크로스카피 게엠베하
Inventor： 뮐러,잉고 , 벤게쎄,니콜레 , 리데셀,크리스토프 , 케멘,토마스 , 야코비,외르그 , 토마,아르네 , 되링,마르쿠스 , 자이들러,디르크 , 키나스트,위르겐 , 베너,게르트
CPC classification number: H01J37/21 , H01J37/10 , H01J37/28 , H01J2237/0435 , H01J2237/0492 , H01J2237/28 , H01J2237/31764 , H01J2237/31774
Abstract: 본발명은, 멀티-빔입자광학유닛을동작하는방법으로서: (1) 입자-광학구성요소의효과의제1 설정을제공하는단계 - 입자-광학이미징이적어도두 개의파라미터에의해특징지어짐 - ; (2) 다음의수학식이유효하도록매트릭스(A)를결정하는단계:이때,, 여기서,는, 제1 설정인경우에구성요소의효과의변화를나타내며,는, 제1 설정인경우에파라미터의변화를나타냄; (3) 다음의수학식이유효하도록매트릭스(S)를결정하는단계:, 여기서, D는대각매트릭스임; (4) 원하는이미징을특징화하는파라미터의값을규정하는단계; (5) 상기입자-광학이미징이규정된값을갖는파라미터에의해특징지어지도록구성요소의효과의제2 설정을제공하는단계로서, 상기제2 설정에필요한효과가다음의수학식에따라결정되며:이때,, 여기서,는, 제2 설정인경우에구성요소의효과를나타내며,는파라미터의규정된값을나타내는, 제2 설정제공단계를포함하는, 방법에관한것이다.
Abstract translation: 一种用于操作多光束粒子光学单元的方法包括以下步骤：提供粒子 - 光学部件的效果的第一设置，其中粒子光学成像的特征在于至少两个参数; 确定矩阵A，并确定矩阵S; 定义表征期望成像的参数的值; 并且以这样的方式提供组件的效果的第二设置，使得该粒子光学成像的特征在于具有确定值的参数。
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公开(公告)号：KR1020150036579A
公开(公告)日：2015-04-07
申请号：KR1020157003786
申请日：2013-08-09
Applicant: 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
IPC: H01J37/244
CPC classification number: H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/063 , H01J2237/2443 , H01J2237/2445 , H01J2237/28 , H01J2237/2801
Abstract: 신틸레이터(7)와라이트가이드(8)를구비한전자현미경에있어서, 신틸레이터(7)는라이트가이드(8)의굴절률보다도큰 굴절률을갖고, 라이트가이드(8)에접합되는단부면(72)이외측으로볼록한형상의곡면에의해형성되어있다. 또한, 신틸레이터(7)는조성식 (LnCe)MO(단, Ln은 Y, Gd, La 및 Lu로부터선택되는적어도하나의원소를나타내고, M은 Al 및 Ga로부터선택되는적어도하나의원소를나타냄)로표시되는 Y-Al-O계세라믹소결체로형성되어있다.
Abstract translation: 电子显微镜设有闪烁体（7）和光导（8）。 闪烁体（7）的折射率大于导光体（8）的折射率，与导光体（8）接合的端面（72）由凸形的曲面形成 外。 闪烁体（7）由组成式（Ln1-xCex）3M5O12表示的Y-Al-O系陶瓷烧结体形成（其中Ln表示选自Y，Gd，La和 Lu和M表示Al和Ga中的任一个或两者）。
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