带电粒子线装置
    81.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104094373B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201380008021.1

    申请日:2013-02-15

    Abstract: 本发明提供能简单地装拆隔膜(101)且能将试样(6)配置于真空下和高压下的带电粒子线装置(111)。该带电粒子线装置(111)具有:对带电粒子源(110)和电子光学系统(1、2、7)进行保持的镜筒(3);与镜筒(3)连结的第一框体(4);向第一框体(4)的内侧凹陷的第二框体(100);将镜筒(3)内的空间和第一框体(4)内的空间隔离且供带电粒子线透过的第一隔膜(10);将第二框体(100)的凹部(100a)内的空间和第二框体(100)的凹部(100a)外的空间隔离且供带电粒子线透过的第二隔膜(101);与收纳带电粒子源(110)的第三框体(22)连结的管(23),第一隔膜(10)安装于管(23),管(23)和第三框体(22)能沿光轴(30)的方向相对于镜筒(3)装拆。由第一框体(4)和第二框体(100)包围的空间(105)被减压,对配置于凹部(100a)中的试样(6)照射带电粒子线。

    电子束描绘装置以及电子束描绘方法

    公开(公告)号:CN103257529B

    公开(公告)日:2016-01-13

    申请号:CN201310051135.6

    申请日:2013-02-16

    CPC classification number: H01J37/3007 H01J37/09 H01J2237/12 H01J2237/31776

    Abstract: 本发明涉及电子束描绘装置以及电子束描绘方法。电子束描绘装置(100)具备承载试样(216)的XY工作台(105)、配置有射出电子束(200)的电子枪(201)和具备在电子束(200)的轴向上排列的电极的电磁透镜(202、204、207、210)的电子镜筒(102)。在XY工作台(105)与电子镜筒(102)之间,设有遮挡电子束(200)向试样(216)照射而产生的反射电子或者2次电子的屏蔽板(211)。在屏蔽板(211)的正上方,配置有改变电子束(200)的焦点位置的静电透镜(210),对静电透镜(210)始终从电压供给单元(135)施加负的电压。

    电子束描绘装置及电子束描绘方法

    公开(公告)号:CN103257528A

    公开(公告)日:2013-08-21

    申请号:CN201310047452.0

    申请日:2013-02-06

    Abstract: 一种电子束描绘装置及电子束描绘方法,该电子束描绘装置(100)具有:XY载物台(105),载放试样(216);以及电子镜筒(102),配置有出射电子束(200)的电子枪(201)和具备排列在电子束(200)的轴向上的电极的透镜(202、204、207、210)。在XY载物台(105)和电子镜筒(102)之间设置有屏蔽板(211),该屏蔽板(211)屏蔽电子束(200)向试样(216)照射而产生的反射电子或二次电子。在屏蔽板(211)的正上方配置有改变电子束(200)的焦点位置的静电透镜(210),始终从电压供给单元(135)对静电透镜(210)施加正电压。

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