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公开(公告)号：CN102543636A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010622211.0
申请日：2010-12-27
Applicant: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
Abstract: 本发明提供一种法拉第屏蔽及等离子体加工设备，所述法拉第屏蔽包括至少两个并排设置的屏蔽单元，每个所述屏蔽单元包括多个间隔排列设置的屏蔽段，且相邻两屏蔽单元所包括的屏蔽段交错设置，所述屏蔽段均设置有朝向相对应交错设置的屏蔽段的阻挡部，且相对应两交错设置的屏蔽段的阻挡部之间构成屏蔽通道。本发明的法拉第屏蔽可以减少、甚至完全避免等离子体穿过法拉第屏蔽。
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公开(公告)号：CN102446681A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010514130.9
申请日：2010-10-13
Applicant: 北京中科信电子装备有限公司
IPC: H01J37/09 , H01J37/317
Abstract: 本发明提供一种用于离子注入机的分析光栏，包括：两个旋转水接头2，两对快插接头1，与旋转水接头2相连的两个同步带轮3，其中，通过法兰结构4，同步带轮3带动磁流体密封组件5以及和磁流体密封组件5相连接的石墨筒6转动，其中同步带轮3可以通过电机带动旋转，且旋转速度达到1700rpm以上，石墨筒6的高速旋转使粒子能够接触到更大面积的石墨，以加强散热效果，从而延长分析光栏的使用寿命。其中两个石墨筒6的旋转方向相反，避免了非注入粒子进入离子束中。
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公开(公告)号：CN102067269A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980123980.1
申请日：2009-06-23
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/09 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/04 , H01J37/05 , H01J37/244 , H01J2237/022 , H01J2237/0455 , H01J2237/24507 , H01J2237/24542 , H01J2237/24578
Abstract: 一种离子注入系统(100)，包括：离子源(116)，构造为产生沿着射束路径(136)的离子束(104)；位于该离子源的下游的质量分析器(130)，其中，该质量分析器构造为对该离子束进行质量分析；和射束互补孔洞(330)，位于该质量分析器的下游且沿着该射束路径，该射束互补孔洞具有对应于该离子束的横截面射束包络的尺寸和形状。
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公开(公告)号：CN119998913A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380071729.5
申请日：2023-10-02
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于被配置为沿着束路径投射带电粒子的带电粒子光学模块的平面元件堆叠，该堆叠包括相邻的一对平面元件，该相邻的一对平面元件被布置为跨束路径，其中平面元件中的一个平面元件包括对准基准件，并且平面元件中的另一平面元件包括监测孔径；其中一对平面元件相对于彼此定位，使得对准基准件与监测孔径在大体上垂直于平面元件的平面的方向上彼此对准。
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公开(公告)号：CN119343736A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202380045677.4
申请日：2023-06-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种用于沿着相应的束路径朝向样品位置投射多个带电粒子束的带电粒子光学设备，该带电粒子光学设备包括：带电粒子光学组件，被配置为操纵该带电粒子束，该带电粒子光学组件包括第一带电粒子光学元件，该第一带电粒子光学元件包括具有围绕该带电粒子束的束路径的一个或多个孔径的板；以及电连接器，被配置为将该第一带电粒子光学元件的该板电连接至电源，其中该电连接器：包括被配置为限定基本上没有电场的无场区域的屏蔽件；并且被配置为能够经由柔性耦接器电连接，该柔性耦接器被配置为将该第一带电粒子光学元件的板电连接至电源，该柔性耦接器位于该无场区域内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112335011B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN201980041728.X
申请日：2019-07-19
Applicant: 工程吸气公司
Inventor： 马尔科·厄尔巴诺
IPC: H01J37/09 , H01J37/301
Abstract: 本发明涉及一种多级真空设备、优选地两级设备，其正常操作需要设定不同的压力，其中，压力变化可以由合适元件的形状记忆合金(SMA)线的运动来实现。本发明还公开了一种用于操作由SMA致动器控制的所述多级真空设备的方法。
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公开(公告)号：CN118266060A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202280076664.9
申请日：2022-10-25
Applicant: 纽富来科技股份有限公司
IPC: H01L21/027 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/305 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种能够抑制散射束对描绘处理造成的影响的描绘装置的控制方法以及描绘装置。本实施方式的描绘装置是将多带电粒子束照射至照射对象的规定位置而在照射对象上描绘规定图案的描绘装置，该描绘装置具备：束生成机构，生成多带电粒子束；消隐孔径机构，具备对所生成的多带电粒子束进行遮蔽的限制孔径基板以及使多带电粒子束向规定方向偏转的偏转器，使多带电粒子束消隐；工作台，供照射对象载置，并且能够移动；驱动部，使限制孔径基板移动；以及控制部，对描绘装置进行控制，控制部在消隐的期间中使限制孔径基板从描绘时的配置位置起在垂直于多带电粒子束的轴向的面内移动，并在描绘时使限制孔径基板返回到配置位置。
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公开(公告)号：CN117897793A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202280055600.0
申请日：2022-05-25
Applicant: 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司
Abstract: 提供一种用于多射束系统的多射束产生单元，其具有用于多个一次带电粒子小射束中的每一者的较大个别聚焦功率。该多射束产生单元包含主动端末多孔板。该端末多孔板可用于较大的聚焦范围，其用于多个一次带电粒子小射束中的每个小射束的个别消像散焦点调节。
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公开(公告)号：CN117423594A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311190021.X
申请日：2023-09-14
Applicant: 中科晶源微电子技术(北京)有限公司
Abstract: 本申请属于半导体检测设备技术领域，尤其是涉及一种移动光阑。该移动光阑包括光阑组件、热传导件以及感温件；光阑组件包括光阑，热传导件及感温件均连接于光阑组件；感温件设置为用于获取光阑的温度，热传导件设置为基于感温件获取到的温度调节光阑的温度。可见，通过热传导件及感温件配合具有温度控制功能的模块以实现闭环控制，使得光阑处于合适温度，以加热挥发颗粒，有效防止因积碳造成光阑孔变形甚至堵塞。
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公开(公告)号：CN117423593A
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202311189672.7
申请日：2023-09-14
Applicant: 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
Abstract: 本申请属于半导体检测设备领域，尤其是涉及一种光阑位置可调装置及半导体检测设备。该光阑位置可调装置包括第一调节机构、第二调节机构、活动机构及光阑组件；活动机构包括第二筒组件及导向杆组件，导向杆组件活动连接于第二筒组件并沿第一方向穿过第二筒组件；光阑组件连接于导向杆组件且位于第二筒组件外；第一调节机构连接于导向杆组件并能够驱动导向杆组件以带动光阑组件在第一方向上运动，第二调节机构连接于第二筒组件并能够驱动第一调节机构带动导向杆组件及光阑组件摆动。根据成像工艺需求，通过第一调节机构及第二调节机构组合驱动光阑组件，进而选择孔径大小合适的光阑孔并实现与电子束心对中。
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