公开(公告)号：KR20180008458A

公开(公告)日：2018-01-24

申请号：KR20177032345

申请日：2016-05-10

Applicant: HOYA CORP

Inventor： NOZAWA OSAMU ,  KAJIWARA TAKENORI ,  OHKUBO RYO

IPC: G03F1/26 ,  G03F1/48 ,  G03F1/80 ,  H01L21/3065

CPC classification number: G03F1/26 ,  G03F1/48

Abstract: 본발명은, 패턴형성용박막에패턴을형성할때에행해지는불소계가스에의한드라이에칭에대한내성이투광성기판에비해높고, 약액(藥液) 세정에대한내성도높으며, 노광광에대한투과율도높다는 3가지의특성을동시에만족시키는에칭스토퍼막을구비하는마스크블랭크를제공한다. 또, 투광성기판의주표면상에패턴형성용박막을구비한마스크블랭크로서, 패턴형성용박막은, 규소를함유하고, 투광성기판과패턴형성용박막의사이에에칭스토퍼막을가지며, 에칭스토퍼막은, 규소, 알루미늄및 산소를함유하는것을특징으로한다.

Abstract translation: 本发明的特征在于，当在用于图案形成的薄膜上形成图案时由氟基气体进行的干法蚀刻的耐受性高于透明基板的耐受性，抗化学溶液的清洁性高且对曝光光的透射率也高 并且同时满足掩模板的全部三个特性的蚀刻阻挡膜。 在透明基板的主面上具有图案形成用薄膜的掩模基板中，图案形成用薄膜含有硅，在透明基板与图案形成用薄膜之间设置有蚀刻停止膜， 硅，铝和氧气。

公开(公告)号：KR20100081937A

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：KR20100000415

申请日：2010-01-05

Applicant: HOYA CORP

Inventor： AIZAWA TAKASHI

IPC: H01L21/027 ,  G03F1/68 ,  G03F1/80

CPC classification number: G03F1/76 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80 ,  G03F7/0382

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a photo-mask, a method for transferring a pattern, an apparatus for processing a photo-mask substrate, and a method for pattering a thin film are provided to transfer a photo-mask pattern by eliminating the effect of an exposure process which is generated by unnecessary energy applied to a resist. CONSTITUTION: A thin film(2) and a resist film(3) are formed on a substrate in order to form a photo-mask blank. A transferring pattern(4) is patterned on the resist film of the photo-mask blank. A surface treatment is implemented on the surface of the resist film by contacting with an oxide. A resist pattern(3a) is formed by developing the resist film. The thin film is etched using the resist pattern as a mask.

Abstract translation: 目的：制造光掩模的方法，转印图案的方法，用于处理光掩模基板的装置和用于图案化薄膜的方法，以通过消除光掩模图案的影响来转移光掩模图案 由不必要的能量施加到抗蚀剂产生的曝光过程。 构成：在基板上形成薄膜（2）和抗蚀剂膜（3），以形成光掩模坯料。 在光掩模板的抗蚀膜上形成转印图案（4）。 通过与氧化物接触，在抗蚀剂膜的表面上进行表面处理。 通过显影抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案（3a）。 使用抗蚀剂图案作为掩模蚀刻薄膜。

公开(公告)号：KR20180056634A

公开(公告)日：2018-05-29

申请号：KR20187003739

申请日：2016-09-15

Applicant: HOYA CORP

Inventor： KUDO KAZUNORI

IPC: A61F2/16 ,  A61F9/007

CPC classification number: A61F2/16

Abstract: 광학부 (8) 와 1 쌍의지지부 (9a, 9b) 를갖는안내렌즈 (7) 를안내에삽입하는안내렌즈삽입기구 (1) 로서, 안내렌즈 (7) 가설치되는렌즈설치부 (6) 가형성된삽입기구본체 (2) 와, 삽입기구본체 (2) 의중심축방향으로이동함으로써, 렌즈설치부 (6) 로부터안내렌즈 (7) 를압출하는압출부재 (5) 와, 압출부재 (5) 가삽입기구본체 (2) 의중심축방향으로이동할때, 압출부재 (5) 의이동을가이드하는가이드슬로프 (11) 를구비한다. 압출부재 (5) 의선단부는, 삽입기구본체 (2) 의중심축방향으로압출부재 (5) 가이동할때, 안내렌즈 (7) 의지지부 (9b) 에접촉하고또한지지부 (9b) 를압입하면서광학부 (8) 에접촉하고, 가이드슬로프 (11) 는, 압출부재 (5) 의선단부가상하방향으로변위하도록가이드한다.

公开(公告)号：KR20100082316A

公开(公告)日：2010-07-16

申请号：KR20100001299

申请日：2010-01-07

Applicant: HOYA CORP

Inventor： INABA TSUYOSHI

IPC: H02N2/00 ,  H02N2/10

CPC classification number: H02N2/163

Abstract: PURPOSE: An ultrasonic motor is provided to prevent interference due to a reflecting plate by generating rotational force in a rotor. CONSTITUTION: An output shaft(11) is arranged in the rotary shaft of an ultrasonic motor(10). The output shaft transfers the rotational force which is generated in the ultrasonic motor to the outside. A base supports the output shaft using a bearing in order to rotate an output shaft against a fixing part. A stator(15) has a coaxial cylindrical hole to the central axis of a disk. An engaging board(12) and a spring are fixed to the output shaft which is engaged in each cylindrical hole. The cylindrical hole of a rotor(14) is freely arranged outside the output shaft. The rotor said a spring(13) have elasticity to the rotational axis direction. The stator comprises an elastic member(16), a ground electrode(18), a piezoelectric(19), and a supply electrode(20).

Abstract translation: 目的：提供一种超声波马达，以通过在转子中产生旋转力来防止由反射板引起的干扰。 构成：输出轴（11）布置在超声波马达（10）的旋转轴中。 输出轴将超声波马达中产生的旋转力传递到外部。 基座使用轴承支撑输出轴，以使输出轴抵靠固定部分旋转。 定子（15）具有与盘的中心轴线同轴的圆柱形孔。 接合板（12）和弹簧被固定到接合在每个圆柱形孔中的输出轴上。 转子（14）的圆柱形孔自由地布置在输出轴的外侧。 转子表示弹簧（13）对旋转轴线方向具有弹性。 定子包括弹性构件（16），接地电极（18），压电体（19）和供电电极（20）。

公开(公告)号：KR20100061435A

公开(公告)日：2010-06-07

申请号：KR20100046664

申请日：2010-05-18

Applicant: HOYA CORP

Inventor： SANO MICHIAKI ,  IMURA KAZUHISA ,  MITSUI MASARU

IPC: G03F1/50 ,  G03F1/54 ,  G03F1/76 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/54 ,  G03F1/08 ,  G03F1/32 ,  G03F1/50 ,  G03F1/76 ,  H01L21/0276

Abstract: PURPOSE: A gray tone mask blank, a manufacturing method of a gray tone mask using thereof, the gray tone mask, and a pattern transferring method using thereof are provided to obtain an accurate CD of a pattern formed on a mask, and to reduce the change of the pattern. CONSTITUTION: A gray tone mask blank comprises the following: a light-shielding layer(25) pattern formed on a transparent substrate(24); a semi-transparent layer(26) in the front side of the light-shielding layer; and a resist film(27) formed on the semi-transparent layer. The composition of the light-shielding layer changes to the film thickness direction. The surface reflection ratio of the resist film reduces for a laser lithography light with the wavelength of 300~450 nanometers.

Abstract translation: 目的：提供灰色调掩模空白，使用其的灰度调色掩模的制造方法，灰度色调掩模和使用其的图案转印方法，以获得在掩模上形成的图案的精确的CD，并且减少 模式的变化 构成：灰色掩模坯料包括：形成在透明基板（24）上的遮光层（25）图案; 在遮光层的前侧的半透明层（26）; 和形成在半透明层上的抗蚀剂膜（27）。 遮光层的组成变为膜厚方向。 对于波长为300〜450纳米的激光光刻光，抗蚀剂膜的表面反射率降低。

公开(公告)号：KR20200128021A

公开(公告)日：2020-11-11

申请号：KR20207025381

申请日：2019-02-20

Applicant: HOYA CORP

Inventor： SHISHIDO HIROAKI ,  TANIGUCHI KAZUTAKE

IPC: G03F1/34 ,  C23C14/06 ,  H01L21/3065

Abstract: ArF 노광광에대하여 80% 이상의높은투과율을가짐과함께, 투광부에있어서 5% 이상의투과율차를얻을수 있는에칭스토퍼막을구비하는위상시프트마스크용마스크블랭크를제공한다. 투광성기판상에, 에칭스토퍼막과위상시프트막이이 순으로적층된구조를구비하는마스크블랭크이며, 위상시프트막은, 규소및 산소를함유하는재료로이루어지고, 위상시프트막은, 파장 193nm의광에대한굴절률 n1이 1.5 이상이고, 또한파장 193nm의광에대한소쇠계수 k1이 0.1 이하이고, 에칭스토퍼막은, 파장 193nm의광에대한굴절률 n2가 2.5 이상 3.1 이하, 또한파장 193nm의광에대한소쇠계수 k2가 0.4 이하이고, 또한상기굴절률 n2 및소쇠계수 k2가 (조건 1)부터 (조건 5) 중 1 이상의조건을충족하는것을특징으로하는마스크블랭크.

公开(公告)号：KR20180051386A

公开(公告)日：2018-05-16

申请号：KR20170144711

申请日：2017-11-01

Applicant: HOYA CORP

Inventor： KOBAYASHI SHUHEI

IPC: G03F7/20

Abstract: 포토마스크의전사용패턴을미세화, 고밀도화하였을때에발생하기쉬운, 전사상의코너부의라운딩을억제한다. 본발명에의한근접노광용의포토마스크는, 투명기판상에, 피전사체상에전사하기위한전사용패턴을구비한다. 전사용패턴은, 메인패턴과, 메인패턴이갖는코너부의근방에, 메인패턴으로부터이격하여배치된보조패턴을포함한다. 메인패턴은, 투명기판상에제1 투과제어막이형성되어이루어지고, 보조패턴은, 투명기판상에제2 투과제어막이형성되어이루어짐과함께, 노광에의해피전사체상에해상되지않는치수를갖는다.

公开(公告)号：KR20180029877A

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：KR20170113214

申请日：2017-09-05

Applicant: HOYA CORP

Inventor： YAMAGUCHI NOBORU

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/46 ,  G03F1/80 ,  H01L21/033

Abstract: 포토마스크를사용한노광공정에있어서, 미광의발생리스크를저감할수 있는포토마스크의제조방법을제공한다. 투명기판상의차광막및 반투광막을각각패터닝하여형성된, 투광부, 반투광부및 차광부를구비한전사용패턴을갖는, 포토마스크의제조방법에있어서, 투명기판상에형성된차광막을패터닝하여차광막패턴을형성하는, 차광막패터닝공정과, 차광막패턴을포함하는투명기판상에반투광막을형성하는, 반투광막형성공정과, 반투광막, 또는반투광막과차광막을부분적으로제거하여투광부를형성하는, 투광부형성공정과, 차광막패턴상의반투광막을제거하는, 반투광막제거공정을갖고, 반투광막제거공정에있어서는, 반투광부로되는영역에레지스트패턴을형성하고, 이레지스트패턴은, 반투광부와차광부가인접하는부분에있어서, 차광부측에, 소정치수의마진을더한치수를갖는다.

Abstract translation: 提供一种制造光掩模的方法，其能够降低使用光掩模的曝光工艺中产生杂散光的风险。 由每个所述图案化所述透明衬底上的光屏蔽膜和在所述透明部分中的半透明膜，半透明部分，并且制造具有Kepco公司使用图案包括的光掩模的光屏蔽方法形成，通过图案化形成在透明衬底上的光屏蔽膜，以形成一个遮光膜图案 中，光屏蔽膜图案化步骤中，在透明基板埃文半透明的，半透明膜，以形成膜形成步骤，其包括光屏蔽膜图案和一个半透明膜，或部分地去除半透明膜和遮光膜的形成方法，形成透明部透明部分 步骤，具有以除去半透明薄膜，并在半上的光屏蔽膜图案除去半透明膜的方法，除去透明薄膜的方法，以及在所述区域的抗蚀剂图案是部分半透明的，七种注册表图案为半遮光部分和所述遮光部分 在邻接部分中，预定尺寸的边缘被进一步添加到遮光部分侧。

公开(公告)号：KR20100135682A

公开(公告)日：2010-12-27

申请号：KR20100057654

申请日：2010-06-17

Applicant: HOYA CORP

Inventor： YAMAMOTO YASUHIRO

IPC: H04N9/04 ,  H04N5/225 ,  H04N5/232

CPC classification number: H04N5/23212 ,  H04N5/3532

Abstract: PURPOSE: A photographing device photographing by suing a rolling shutter is provided to use a contrast AF(Auto Focusing) process even when a subject is not stable, thereby adjusting the focus to the subject. CONSTITUTION: An image sensor(124) outputs an image signal having an electric charge accumulated in a pixel of 1 line. A focusing sensor(131) uses a contrast value of frame image data of a first image frame formed by the image signal and senses a focus fit condition state in the photographing sensor of a subject image. The photographing sensor changes the electric accumulation period. The photographing sensor extends the electric accumulation period in a photographing condition which can predict the movement of a subject.

Abstract translation: 目的：即使当被摄体不稳定时，提供通过起动滚动快门拍摄的拍摄设备来使用对比度AF（自动聚焦）处理，从而将焦点调节到被摄体。 构成：图像传感器（124）输出积累在1行像素中的电荷的图像信号。 聚焦传感器（131）使用由图像信号形成的第一图像帧的帧图像数据的对比度值，并且感测被摄体图像的摄影传感器中的聚焦拟合条件状态。 拍摄传感器改变电累积周期。 拍摄传感器在可预测被摄体的移动的摄影条件下延长电累积期。

公开(公告)号：KR20100127718A

公开(公告)日：2010-12-06

申请号：KR20100048480

申请日：2010-05-25

Applicant: HOYA CORP

Inventor： YAMAGUCHI NOBORU

IPC: H01L21/027 ,  G02F1/1368 ,  G03F1/28 ,  G03F1/54 ,  G03F1/58

CPC classification number: G03F1/54 ,  G03F1/58 ,  G03F7/2008 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0276

Abstract: PURPOSE: A multi-gray scale photomask, a manufacturing method thereof, and a method for transferring a pattern are provided to improve the yield of a TFT by precisely controlling the step shape of a resist pattern on an object. CONSTITUTION: A first semi-transmitting layer(111) is made of materials with Cr and has etching resistance against F based etchant. A second semi-transmitting layer(112) is made of materials with Si and metal materials like Mo. A shielding layer(113) is made of Cr.

Abstract translation: 目的：提供多灰度光掩模，其制造方法和转印图案的方法，以通过精确控制物体上的抗蚀剂图案的台阶形状来提高TFT的产量。 构成：第一半透射层（111）由具有Cr的材料制成，并具有抗F蚀刻剂的耐蚀刻性。 第二半透射层（112）由具有诸如Mo的Si和金属材料的材料制成。屏蔽层（113）由Cr制成。