公开(公告)号：KR1020080058227A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：KR1020070134201

申请日：2007-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사까이미쯔히로 ,  야히로슌이찌 ,  가와우찌다꾸오 ,  고미야히로시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67706

Abstract: An apparatus for treating a substrate is provided to effectively perform a cleaning process and to realize the cost reduction by preventing attachment of impurities to the substrate. An apparatus for treating a substrate includes a conveying means(111) and a cleaning nozzle(116). A substrate(G) to be processed is loaded on a convey passage(32). The conveying means conveys a substrate to be processed to a predetermined direction through the convey passage. The cleaning nozzle supplies cleaning solution to an upper surface of the substrate to be processed. The convey passage includes a horizontal portion conveying the substrate to be process in a horizontal state and an oblique portion forms an upward slope of a predetermined angle from the horizontal portion. The cleaning nozzle is disposed in an upward direction of the oblique portion.

Abstract translation: 提供了一种用于处理基板的设备，以有效地执行清洁处理，并且通过防止杂质附着到基板来实现成本降低。 一种用于处理基板的设备包括输送装置（111）和清洁喷嘴（116）。 待处理的基板（G）被装载在输送通道（32）上。 输送装置通过输送通道将要处理的基板输送到预定方向。 清洗喷嘴将清洗液供给到被处理基板的上表面。 输送通道包括水平部分，其以水平状态传送要处理的基板，并且倾斜部分形成与水平部分预定角度的向上倾斜。 清洁喷嘴沿倾斜部分的向上方向设置。

公开(公告)号：KR101437715B1

公开(公告)日：2014-10-13

申请号：KR1020100096437

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  이나도미히로아키 ,  야마모토히데유키 ,  고미야히로시 ,  에가시라고지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/12 ,  B08B3/048 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67313 ,  H01L21/67757

Abstract: 본 발명에 따른 초음파 세정 장치는, 세정액을 저류하는 세정조와, 세정조 내에 삽입 가능하게 설치되고, 피처리체를 유지하여 세정액에 침지시키는 피처리체 유지 장치와, 세정조의 바닥부에 설치된 진동자와, 진동자에 초음파 진동을 발생시키는 초음파 발진 장치를 구비하고 있다. 세정조 내에는 피처리체를 유지하는 측부 유지 부재가 설치되어 있다. 또한, 피처리체 유지 장치는, 구동 장치에 의해 측방으로 이동하도록 되어 있다. 제어 장치는, 피처리체를 측부 유지 부재에 유지시킨 후, 피처리체 유지 장치를 측방으로 이동시키도록 구동 장치를 제어하고, 진동자에 초음파 진동을 발생시켜 진동자로부터의 초음파 진동을 피처리체에 전파시키도록 되어 있다.

公开(公告)号：KR1020210037641A

公开(公告)日：2021-04-06

申请号：KR1020210037157

申请日：2021-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카키야스히로 ,  고미야히로시 ,  노부쿠니치카라 ,  사타케게이고 ,  아나모토아츠시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  G05D11/13

Abstract: 본발명은, 정확한농도의처리액을기판에공급하는것을목적으로한다. 기판액처리장치는, 탱크(102)와, 순환라인(104)과, 분기라인(112)을통해순환라인에접속되고, 순환라인을흐르는처리액을이용하여기판에액처리를실시하는처리부(16)와, 적어도 2종류의원료액의각각의공급원으로부터공급되는원료액을제어된혼합비로혼합하여처리액을생성하는처리액생성기구(206A, 206B, 208)와, 순환라인을흐르는처리액의농도및 처리액공급라인을흐르는처리액의농도를측정하는농도측정장치(212)(또는 212')와, 측정된처리액의농도에기초하여처리액생성기구를제어하는제어장치(4)를구비한다.

公开(公告)号：KR1020150055561A

公开(公告)日：2015-05-21

申请号：KR1020140154346

申请日：2014-11-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카키야스히로 ,  고미야히로시 ,  노부쿠니치카라 ,  사타케게이고 ,  아나모토아츠시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/302 ,  H01L21/306

CPC classification number: G05D11/138

Abstract: 본발명은, 정확한농도의처리액을기판에공급하는것을목적으로한다. 기판액처리장치는, 탱크(102)와, 순환라인(104)과, 분기라인(112)을통해순환라인에접속되고, 순환라인을흐르는처리액을이용하여기판에액처리를실시하는처리부(16)와, 적어도 2종류의원료액의각각의공급원으로부터공급되는원료액을제어된혼합비로혼합하여처리액을생성하는처리액생성기구(206A, 206B, 208)와, 순환라인을흐르는처리액의농도및 처리액공급라인을흐르는처리액의농도를측정하는농도측정장치(212)(또는 212')와, 측정된처리액의농도에기초하여처리액생성기구를제어하는제어장치(4)를구비한다.

Abstract translation: 本发明的目的是向基板供应精确浓度的处理液。 基板液体处理装置包括：罐（102），循环管线（104），通过分支管线（112）连接到循环管线的处理部件（16），并通过使用 处理液生成单元（206A，206B，208），其将来自至少两种原料溶液的各供给源的原料溶液与受控混合比混合，并生成处理液，浓度 测量装置（212或212'），其测量沿着循环管线流动的处理液体的浓度和沿着处理液体供应管线流动的处理液体的浓度;以及控制装置（4），其控制处理液体 基于测量的处理液的浓度的发电单元。

公开(公告)号：KR1020110037879A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：KR1020100096437

申请日：2010-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  이나도미히로아키 ,  야마모토히데유키 ,  고미야히로시 ,  에가시라고지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/12 ,  B08B3/048 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67313 ,  H01L21/67757

Abstract: PURPOSE: An ultrasonic cleaning device, an ultrasonic cleaning method, and a recording medium with a computer program are provided to uniformly clean an object by successively moving a first wafer maintaining unit and a second wafer maintaining unit. CONSTITUTION: An object maintaining device(21a,21b) is installed in a cleaning bath(10) and maintains an object to be immersed in cleaning solutions. The object maintaining device includes a first object maintaining unit and a second object maintaining unit. A side maintaining unit is installed in the cleaning bath and maintains the object. A control device(44) controls an ultrasonic oscillator and a driving device. The driving device maintains the object on the side maintaining unit and then moves the side maintaining unit to the side. An ultrasonic oscillator transmits the ultrasonic vibration from a vibrator to the object.

Abstract translation: 目的：提供一种超声波清洗装置，超声波清洗方法和具有计算机程序的记录介质，以通过连续地移动第一晶片保持单元和第二晶片保持单元来均匀地清洁物体。 构成：将物体保持装置（21a，21b）安装在清洗槽（10）中并保持要浸入清洁溶液中的物体。 物体维持装置包括第一物体保持单元和第二物体保持单元。 侧面保持单元安装在清洗槽中并保持物体。 控制装置（44）控制超声波振荡器和驱动装置。 驱动装置将物体保持在侧保持单元上，然后将侧保持单元移动到侧面。 超声波振荡器将来自振动器的超声波振动传递到物体。