公开(公告)号：KR1020070089785A

公开(公告)日：2007-09-03

申请号：KR1020077008440

申请日：2005-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키겐지 ,  귀도엠마누엘피 ,  로싱크게리트제이 ,  하라마사미치 ,  구로이와다이스케

IPC: H01L21/677

CPC classification number: C23C16/4481 ,  C23C16/16 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/6723 ,  H01L21/67389

Abstract: A high conductance, multi-tray solid precursor evaporation system (50, 150, 300, 300') coupled with a high conductance vapor delivery system (40, 140) is described for increasing deposition rate by increasing exposed surface area of solid precursor (350). The multi-tray solid precursor evaporation system (50, 150, 300, 300') includes a base tray (330) with one or more upper trays (340). Each tray (330, 340) is configured to support and retain film precursor (350) in, for example, solid powder form or solid tablet form. Additionally, each tray (330, 340) is configured to provide for a high conductance flow of carrier gas over the film precursor (350) while the film precursor (350) is heated. For example, the carrier gas flows inward over the film precursor (350), and vertically upward through a flow channel (318) within the stackable trays (340) and through an outlet (322) in the solid precursor evaporation system (50, 150, 300, 300').

Abstract translation: 描述了与高电导蒸气输送系统（40,140）耦合的高电导多托盘固体前体蒸发系统（50,150,300,300'），以通过增加固体前体（350）的暴露表面积来提高沉积速率 ）。 多托盘固体前体蒸发系统（50,150,300,300'）包括具有一个或多个上托盘（340）的基托（330）。 每个托盘（330,340）被配置为以例如固体粉末形式或固体片剂形式支撑并保持膜前体（350）。 另外，每个托盘（330,340）构造成在膜前体（350）被加热的同时提供载气在膜前体（350）上的高电导流。 例如，载气在膜前体（350）上向内流动，并且垂直向上流过可堆叠托盘（340）内的流动通道（318）并通过固体前体蒸发系统（50,150）中的出口（322） ，300,300'）。

公开(公告)号：KR101289559B1

公开(公告)日：2013-07-25

申请号：KR1020087022157

申请日：2007-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키겐지 ,  귀도엠마누엘피 ,  루싱크게리트제이 ,  하라마사미치 ,  구로이와다이스케 ,  이시자카다다히로

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: 본 발명에서는 막 전구체의 노출 표면적을 증대시켜 증착률을 증대시키기 위해, 전도도가 높은 증기 이송 시스템(40)에 결합되는 전도도가 높은 멀티 트레이 막 전구체 증발 시스템(1)을 설명한다. 멀티 트레이 막 전구체 증발 시스템(50)은 하나 이상의 트레이(340)를 포함한다. 각 트레이는 예컨대 고체 분말 형태 또는 고체 태블릿 형태의 막 전구체(350)를 지지하고 유지하도록 구성되어 있다. 또한, 각 트레이는 막 전구체가 가열되고 있는 동안에 막 전구체 위에 있어서 캐리어 가스의 유동 전도도를 높이도록 구성되어 있다. 예컨대, 캐리어 가스는 막 전구체를 지나 안쪽으로 유동하고, 적층 가능한 트레이의 안쪽에 있는 유동 채널(318)을 통해 그리고 고상 전구체 증발 시스템에 있는 출구(322)를 통해 수직 상향 유동한다.

公开(公告)号：KR1020100014643A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：KR1020097020267

申请日：2008-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키히데아키 ,  군지이사오 ,  구로이와다이스케

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4585

Abstract: Disclosed is a film-forming apparatus wherein a predetermined film is formed on a wafer (W) by CVD by reacting a film-forming gas on the surface of the wafer, while heating the wafer (W) placed on a stage (22) with a heating mechanism. This film-forming apparatus also comprises a cover member (24) which is so arranged as to cover the outer portion of the wafer (W) on the stage (22) and has a base member (24a) and a low emissivity film (24b) arranged on at least the rear surface of the base member.

Abstract translation: 公开了一种成膜设备，其中通过CVD在晶片（W）上通过使晶片表面上的成膜气体反应，同时加热放置在载物台（22）上的晶片（W）而在晶片（W）上形成预定的膜， 加热机构。 该成膜装置还包括盖构件（24），其被布置成覆盖台（22）上的晶片（W）的外部部分，并具有基座构件（24a）和低发射率膜（24b） ），其至少布置在基部构件的后表面上。

公开(公告)号：KR1020080102184A

公开(公告)日：2008-11-24

申请号：KR1020087022157

申请日：2007-01-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키겐지 ,  귀도엠마누엘피 ,  루싱크게리트제이 ,  하라마사미치 ,  구로이와다이스케 ,  이시자카다다히로

IPC: C23C16/448 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: A high conductance, multi-tray film precursor evaporation system (1) coupled with a high conductance vapor delivery system (40) is described for increasing deposition rate by increasing exposed surface area of film precursor. The multi-tray film precursor evaporation system (50) includes one or more trays (340). Each tray is configured to support and retain film precursor (350) in, for example, solid powder form or solid tablet form. Additionally, each tray is configured to provide for a high conductance flow of carrier gas over the film precursor while the film precursor is heated. For example, the carrier gas flows inward over the film precursor, and vertically upward through a flow channel (318) within the stackable trays and through an outlet (322) in the solid precursor evaporation system.

Abstract translation: 描述了与高电导蒸气输送系统（40）耦合的高电导多托盘膜前体蒸发系统（1），以通过增加膜前体的暴露表面积来提高沉积速率。 多托盘膜前体蒸发系统（50）包括一个或多个托盘（340）。 每个托盘构造成支撑并保持例如固体粉末形式或固体片剂形式的膜前体（350）。 此外，每个托盘构造成在膜前体被加热的同时提供载气在膜前体上的高电导流。 例如，载气在膜前体向内流动，并且垂直向上流过可堆叠托盘内的流动通道（318）并通过固体前驱物蒸发系统中的出口（322）。

公开(公告)号：KR101207593B1

公开(公告)日：2012-12-03

申请号：KR1020097020267

申请日：2008-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마사키히데아키 ,  군지이사오 ,  구로이와다이스케

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4585

Abstract: 탑재대(22)에탑재된웨이퍼(W)를가열기구에의해가열하면서, 웨이퍼표면에성막용가스를반응시켜 CVD에의해웨이퍼(W)상에소정의막을성막하는성막장치는, 탑재대(22)상의웨이퍼(W)의외측부분을덮는모재(24a)와적어도모재의이면측에마련된저복사율막(24b)을가진커버부재(24)를포함한다.

公开(公告)号：KR101194888B1

公开(公告)日：2012-10-25

申请号：KR1020077008440

申请日：2005-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스즈키겐지 ,  귀도엠마누엘피 ,  로싱크게리트제이 ,  하라마사미치 ,  구로이와다이스케

IPC: H01L21/677

CPC classification number: C23C16/4481 ,  C23C16/16

Abstract: 고상 전구체(350)의 노출면 영역을 증가시킴으로써 증착률을 증가시키기 위한 것으로, 컨덕턴스가 높은 증기 이송 장치(40, 140)에 커플링되는, 컨덕턴스가 높은 복수 개의 트레이를 구비하는 고상 전구체 증발 장치(50, 150, 300, 300')가 설명된다. 복수 개의 트레이를 구비하는 고상 전구체 증발 장치(50, 150, 300, 300')는 하나 이상의 상부 트레이(340)와 함께 베이스 트레이(330)를 포함한다. 각각의 트레이(330, 340)는, 예컨대 고상 분말 형태 또는 고상 태블릿 형태의 막 전구체(350)을 지지하고 보유하도록 구성된다. 추가적으로, 각각의 트레이(330, 340)는 막 전구체(350)가 가열되는 동안 막 전구체(350) 상부에 컨덕턴스가 높은 캐리어 가스 유동을 제공하도록 구성된다. 예컨대, 캐리어 가스는 적층 가능한 트레이(340) 내부에서 막 전구체(350) 상부의 내측 방향으로, 그리고 유동 채널(318)을 통해 수직 상방으로 흘러, 고상 전구체 증발 장치(50, 150, 300, 300')의 유출구(322)를 통과하여 흐른다.