公开(公告)号：KR101790453B1

公开(公告)日：2017-10-25

申请号：KR1020160142920

申请日：2016-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67259

Abstract: 본발명은기판의막종, 표면상태, 기판의검출위치등에영향받지않고, 기판의유지상태를정확히검출할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판을처리하는기판처리장치는, 기판이배치되는배치대(32)와, 상기배치대상의상기기판의표면에광을조사하는광원(88)과, 상기기판의표면에서반사된광량을검출하는검출부(89)와, 검출된상기광량의검출값이미리정해진값보다작은지의여부를판정하는판정처리를복수의위치에서행하여, 상기검출값이상기정해진값보다작다고판정된횟수의합계가미리정해진횟수에도달했을때, 상기기판의유지상태가정상이아니라고판정하는제어부(100)를갖는다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，其能够在不受基板的基板种类，表面状态，检测位置的影响的情况下正确地检测基板的保持状态。 1。一种基板处理装置，用于处理基板，其特征在于，包括：载置基板的载物台;向配置的基板的表面照射光的光源; 检测器89和用于确定在多个位置是否比光的检测量的预定检测值越小值预处理进行判断，确定的次数的总和比移相器预定值的检测值小的预定的次数 控制器100确定基板的保持状态不正常。

公开(公告)号：KR1020160148465A

公开(公告)日：2016-12-26

申请号：KR1020160073626

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사타케게이고 ,  나카미조겐지 ,  도우키유이치 ,  마스즈미다쿠로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: G05D7/0635 ,  G05B2219/41303 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715 ,  H01L22/12

Abstract: 본발명은처리유체가피처리체에도달하고나서도달하지않게되기까지의시간이피처리체사이에서변동되는것에따른처리결과의변동을방지하는것을과제로한다. 실시형태에따른처리장치는챔버와노즐과측정부와개폐부와제어부를구비한다. 챔버는피처리체를수용한다. 노즐은챔버에적어도하나마련되어, 피처리체를향하여처리유체를공급한다. 측정부는노즐에공급되는처리유체의공급유량을측정한다. 개폐부는노즐에공급되는처리유체의유로의개폐를행한다. 제어부는개폐부로하여금, 개방동작을행하게하는개방동작신호및 폐쇄동작을행하게하는폐쇄동작신호를미리설정된시점에서출력한다. 또한, 제어부는개방동작신호를출력한후, 공급유량이미리설정된유량으로변화할때의측정부의측정결과에기초하여처리유체의적산량을산출하며, 산출된적산량에기초하여, 개방동작신호또는폐쇄동작신호를출력하는시점을미리설정된시점으로부터변경하는출력시점변경처리를행한다.

Abstract translation: 公开了一种包括室，至少一个喷嘴，测量单元，打开/关闭单元和控制器的处理设备。 该室容纳工件。 喷嘴设置在腔室中以朝向工件供应处理流体。 测量单元测量供应到喷嘴的处理流体的供应流量。 打开/关闭单元执行要供给到喷嘴的处理流体的流路的打开/关闭。 控制器以预设的定时输出打开和关闭操作信号。 在输出打开操作信号之后，控制器基于测量单元的测量结果计算处理流体的积分量，并且执行输出定时改变处理以改变从预设定时输出打开或关闭操作信号的定时 基于计算的积分量。

公开(公告)号：KR101678252B1

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020120128711

申请日：2012-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토슈헤이 ,  이와나가슈지 ,  도미타히로시 ,  나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G05D3/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259

Abstract: 본발명은기판의재질이나표면상태등의영향을받는일없이기판의유지상태의양부를정확하게판단할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 본발명에서는, 기판(2)을유지하는기판유지수단(22)과, 상기기판유지수단(22)에서상기기판(2)을정상적으로유지했을때에상기기판(2)의끝가장자리부가존재하는영역을촬영하는카메라(54)와, 상기카메라(54)로촬영된화상에기초하여상기기판유지수단(22)에의한상기기판(2)의유지상태를판단하는제어수단(26)을갖는것으로했다.

公开(公告)号：KR1020160130359A

公开(公告)日：2016-11-11

申请号：KR1020160142920

申请日：2016-10-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67259

Abstract: 본발명은기판의막종, 표면상태, 기판의검출위치등에영향받지않고, 기판의유지상태를정확히검출할수 있는기판처리장치를제공하는것을과제로한다. 기판을처리하는기판처리장치는, 기판이배치되는배치대(32)와, 상기배치대상의상기기판의표면에광을조사하는광원(88)과, 상기기판의표면에서반사된광량을검출하는검출부(89)와, 검출된상기광량의검출값이미리정해진값보다작은지의여부를판정하는판정처리를복수의위치에서행하여, 상기검출값이상기정해진값보다작다고판정된횟수의합계가미리정해진횟수에도달했을때, 상기기판의유지상태가정상이아니라고판정하는제어부(100)를갖는다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置，其具备配置有基板的配置台， 光源，被配置为将光照射在所述放置单元上的所述基板的表面上; 检测器，被配置为检测从所述基板反射的光量; 以及控制单元，被配置为执行确定光量的检测值是否小于多个位置处的预定值的确定处理，并且当总共次数确定基板的保持状态异常时 确定检测值小于预定值的确定达到预定次数。

公开(公告)号：KR1020130056177A

公开(公告)日：2013-05-29

申请号：KR1020120128711

申请日：2012-11-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토슈헤이 ,  이와나가슈지 ,  도미타히로시 ,  나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67023 ,  G05D3/00 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/302 ,  H01L21/6835

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a computer readable storage medium with a substrate processing program are provided to accurately determine the state of a substrate regardless of the materials and the surface state of the substrate. CONSTITUTION: A substrate maintaining unit(22) maintains a substrate(2). A substrate maintaining device(30) horizontally maintains the substrate loaded on a table(29). A rotating device(31) rotates the substrate which is horizontally maintained on the table. A photographing unit(25) is composed of a light(55) and a camera(54) attached to a casing(53) of a substrate processing chamber(14). A control unit(26) determines the state of the substrate maintained by the substrate maintaining unit based on an image photographed by the camera.

Abstract translation: 目的：提供具有基板处理程序的基板处理装置，基板处理方法和计算机可读取存储介质，以准确地确定基板的状态，而与基板的材料和表面状态无关。 构成：衬底保持单元（22）保持衬底（2）。 基板保持装置（30）水平地维持载置在工作台（29）上的基板。 旋转装置（31）使水平地保持在桌子上的基板旋转。 拍摄单元（25）由安装在基板处理室（14）的壳体（53）上的光（55）和照相机（54）构成。 控制单元（26）基于由照相机拍摄的图像确定由基板保持单元维持的基板的状态。

公开(公告)号：KR1020160148464A

公开(公告)日：2016-12-26

申请号：KR1020160073619

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사타케게이고 ,  나카미조겐지 ,  도우키유이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: B24B37/005 ,  B24B37/20 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715 ,  H01L22/12 ,  H01L22/30

Abstract: 본발명은특정유량공급시에있어서의처리유체의공급유량을감시하며, 특정유량을항한상승시에있어서의처리유체의공급유량을감시하는것을과제로한다. 실시형태에따른처리장치는챔버와노즐과측정부와개폐부와제어부를구비한다. 챔버는피처리체를수용한다. 노즐은챔버내에마련되며, 피처리체를향하여처리유체를공급한다. 측정부는노즐에공급되는처리유체의공급유량을측정한다. 개폐부는노즐에공급되는처리유체의유로의개폐를행한다. 제어부는처리의내용을나타내는레시피정보에따라, 개폐부에개폐동작을행하게하는개폐동작신호를보낸다. 또한, 제어부는레시피정보에따라개폐부에개폐동작신호를보낸후, 측정부의측정결과에기초하여공급유량의적산을개시하고, 산출한적산량으로공급유량의상승을감시하며, 특정유량공급시에있어서는, 측정부에따른실측값으로공급유량을감시한다.

Abstract translation: 公开了一种处理装置，其包括容纳工件的室，设置在室内的喷嘴，测量供给到喷嘴的处理流体的供给流量的测量单元，执行流路开闭的打开/关闭单元 的处理流体，以及控制器。 控制器根据指示处理内容的配方信息发送打开/关闭操作信号，该打开/关闭操作信号使打开/关闭单元执行打开/关闭操作。 根据配方信息向打开/关闭单元发送打开/关闭操作信号后，控制器基于测量单元的测量结果开始积分供给流量，监视供应流量的上升，基于 计算的积分量，以及当提供特定流量时，基于由测量单元实际测量的值监视供给流量。

公开(公告)号：KR1020130005239A

公开(公告)日：2013-01-15

申请号：KR1020120072698

申请日：2012-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카미조겐지 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L22/12

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a computer-readable storage medium having program for executing the substrate processing method stored therein are provided to accurately detect the state of a substrate by changing the quantity of light according to an inclined angle of the substrate. CONSTITUTION: A substrate(W) is arranged on an arrangement table(32). The arrangement table includes a lift pin plate(41), a retaining plate(42) and a clamp member(43). A light source(88) irradiates light to the substrate surface placed on the arrangement table. A detection unit(89) detects the quantity of light reflected on the surface of the substrate. A processing liquid supplying tool(33) supplies process to the substrate. A rotation tool(35) rotates the arrangement table. [Reference numerals] (AA) To 35, 47, 77, 79; (BB) From FFU; (CC) From 100

Abstract translation: 目的：提供具有执行存储在其中的基板处理方法的程序的基板处理装置，基板处理方法和计算机可读存储介质，以通过根据倾斜角度改变光量来精确地检测基板的状态 的基底。 构成：衬底（W）布置在排列台（32）上。 排列台包括升降销板（41），固定板（42）和夹紧构件（43）。 光源（88）将光照射到布置台上的基板表面。 检测单元（89）检测在基板的表面上反射的光量。 处理液供给工具（33）向基板供给工序。 旋转工具（35）旋转排列台。 （附图标记）（AA）至35,47,77,79; （BB）从FFU; （CC）从100