公开(公告)号：KR1020130091269A

公开(公告)日：2013-08-16

申请号：KR1020130012459

申请日：2013-02-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시도쿠타로우 ,  도우키유이치 ,  모리히로토시 ,  데라모토아키히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67288 ,  H01L21/673 ,  H01L21/67742

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a storage medium are provided to early detect the defects of a module by including a memory unit and a display unit. CONSTITUTION: A device for detecting the peripheral position of a substrate forms a sensor unit. The device for detecting the peripheral position of the substrate includes four detecting units (4A-4D). An optical source (41A-41D) includes a light emitting diode. The optical source is formed on a base (31). A plurality of light receiving devices are linearly arranged on a light receiving unit.

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法和存储介质，以通过包括存储单元和显示单元来早期检测模块的缺陷。 构成：用于检测基板的周边位置的装置形成传感器单元。 用于检测基板的周边位置的装置包括四个检测单元（4A-4D）。 光源（41A-41D）包括发光二极管。 光源形成在基座（31）上。 多个光接收装置线性地布置在光接收单元上。

公开(公告)号：KR1020150050416A

公开(公告)日：2015-05-08

申请号：KR1020140147230

申请日：2014-10-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  도우키유이치 ,  아키모토마사미 ,  이노우에시게히사

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B08B1/04 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  Y10S134/902

Abstract: 미스트의발생을억제하면서처리액을컵을향하여배출하는것이가능한액 처리장치를제공한다. 처리액공급부(40)로부터, 회전하는기판(W)에처리액을공급하여액 처리를행하는액 처리장치에있어서, 연직축둘레로회전가능하게구성된기판유지부(31)는, 기판(W)을수평으로흡착유지하기위한유지면(311)을구비한다. 가이드부(34)는, 기판유지부(31)와일체로형성되며, 그기판유지부(31)에유지된기판(W)의주위에배치되고, 기판(W)의주연부의상면의높이와동일하거나, 이높이보다낮은높이위치에마련되며, 기판(W)의상면을흘러온 처리액을안내하기위한안내면(347)을구비한다. 회전컵(35)은, 기판유지부(31)와함께일체적으로회전하며, 기판유지부(31)의외방에마련된컵(50a∼50c)을향하여, 가이드부(34)와의사이에서처리액을안내한다.

Abstract translation: 提供了一种液体处理装置，其将防止产生雾的处理液体排出到杯子。 在从处理液供给部（40）向处理液供给处理液并进行液体处理的液体处理装置中，能够围绕纵轴旋转的基板保持部（31）具有保持面（ 311），用于水平地吸附基板（W）。 引导部（34）与基板保持部（31）一体化并且被配置在由基板保持部（31）保持的基板（W）的周围。 引导部的高度与基板（W）的周边部的上侧的高度相同或者低于基板的周边部的高度。 引导部分包括用于引导从基板（W）的上侧泄漏的处理液的引导表面（347）。 旋转杯（35）与基板保持部（31）一起旋转。 旋转杯将处理液引导到在引导部分（34）和旋转杯之间的间隙中准备到基板保持部分（31）外部的杯（50a-50c）。

公开(公告)号：KR1020160148465A

公开(公告)日：2016-12-26

申请号：KR1020160073626

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사타케게이고 ,  나카미조겐지 ,  도우키유이치 ,  마스즈미다쿠로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: G05D7/0635 ,  G05B2219/41303 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715 ,  H01L22/12

Abstract: 본발명은처리유체가피처리체에도달하고나서도달하지않게되기까지의시간이피처리체사이에서변동되는것에따른처리결과의변동을방지하는것을과제로한다. 실시형태에따른처리장치는챔버와노즐과측정부와개폐부와제어부를구비한다. 챔버는피처리체를수용한다. 노즐은챔버에적어도하나마련되어, 피처리체를향하여처리유체를공급한다. 측정부는노즐에공급되는처리유체의공급유량을측정한다. 개폐부는노즐에공급되는처리유체의유로의개폐를행한다. 제어부는개폐부로하여금, 개방동작을행하게하는개방동작신호및 폐쇄동작을행하게하는폐쇄동작신호를미리설정된시점에서출력한다. 또한, 제어부는개방동작신호를출력한후, 공급유량이미리설정된유량으로변화할때의측정부의측정결과에기초하여처리유체의적산량을산출하며, 산출된적산량에기초하여, 개방동작신호또는폐쇄동작신호를출력하는시점을미리설정된시점으로부터변경하는출력시점변경처리를행한다.

Abstract translation: 公开了一种包括室，至少一个喷嘴，测量单元，打开/关闭单元和控制器的处理设备。 该室容纳工件。 喷嘴设置在腔室中以朝向工件供应处理流体。 测量单元测量供应到喷嘴的处理流体的供应流量。 打开/关闭单元执行要供给到喷嘴的处理流体的流路的打开/关闭。 控制器以预设的定时输出打开和关闭操作信号。 在输出打开操作信号之后，控制器基于测量单元的测量结果计算处理流体的积分量，并且执行输出定时改变处理以改变从预设定时输出打开或关闭操作信号的定时 基于计算的积分量。

公开(公告)号：KR101052575B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020110026045

申请日：2011-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라타아키라 ,  에노키다스구루 ,  도우키유이치

IPC: B65G49/07 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707

Abstract: 본 기판 처리 시스템은, 복수의 기판을 제1 피치에 상당하는 만큼 이격시켜 겹쳐 쌓는 식으로 수용하는 제1 기판 수용부로부터, 복수의 기판을 제1 피치보다 큰 제2 피치에 상당하는 만큼 이격시켜 겹쳐 쌓는 식으로 수용하는 제2 기판 수용부까지 기판을 반송하는 기판 반송 장치로서, 각 포크가 상하 방향으로 서로 미리 설정된 포크 피치에 상당하는 만큼 이격되도록 포크 지지부에 설치되어 있어, 각 포크가 유지하고 있는 기판을 제2 기판 수용부에 전달할 때에 그 기판이 적재되어야 하는 부위의 위쪽에 있는 사전 적재 위치로부터 아래쪽으로 이동함으로써 이 기판을 제2 기판 수용부로 전달하도록 되어 있는 복수의 포크를 구비하는 기판 반송 장치와, 제1 기판 수용부로부터 기판을 빼낼 때에, 기판을 1장씩 제1 기판 수용부로부터 빼내어, 각 포크에 유지된 기판을 제2 기판 수용부로 전달함에 있어서, 기판을 유지하고 있는 모든 포크를 동시에 전진 수평 운동시켜 각 기판이 적재되어야 하는 부위의 위쪽에 있는 사전 적재 위치로 각각 이동시키고, 그 후 모든 포크를 아래 방향으로 동시에 이동시켜, 이들 포크에 유지된 각 기판을 제2 기판 수용부로 전달하고, 그 후 모든 포크의 후퇴 수평 운동을 동시에 행하여, 이들 포크를 제2 기판 수용부로부터 후퇴시킬 수 있도록, 기판 반송 장치의 각 포크를 제어하는 제어 장치를 구비한다.

Abstract translation: 容纳部分用于容纳由间隔开对应于一第一间距类型多个基板叠加的堆叠的基板处理系统中，从第一衬底，通过间隔开对应于多个基板上的更大的第二间距大于所述第一间距 作为用于将所述衬底转移到含有部分用于容纳叠加的堆叠型的第二基板的基板传送装置，有叉安装在叉支撑部分被间隔开，以便以对应于叉节距预先与在垂直方向上彼此被设置，叉被保持和 并且当将基板转移到第二基板接收部分以便将基板转移到第二基板容纳部分时，多个叉适于从装载基板的部分上方的预加载位置向下移动， 当从第一基板容纳部分取出基板和基板时，将基板从第一基板容纳部分逐一取出， 在将衬底传送到第二衬底接收部分时，保持衬底的所有叉同时向前和水平移动，以将它们移动到每个衬底应当被装载的部分上方的预加载位置， 因此，由叉子保持的每个基板被转移到第二基板容纳部分，然后所有的叉子在水平方向上水平地退回，使得叉子能够从第二基板容纳部分缩回， 以及用于控制装置的每个叉的控制装置。

公开(公告)号：KR101052572B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020110026043

申请日：2011-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라타아키라 ,  에노키다스구루 ,  도우키유이치

IPC: B65G49/07 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707

Abstract: 제1 기판 수용부로부터 제2 기판 수용부까지 기판을 반송하는 기판 반송 장치로서, 각 포크는 상하 방향으로 미리 설정된 거리만큼 이격되도록 포크 지지부에 설치되어 있어서, 각 포크가 제1 기판 수용부로부터 기판을 빼낼 때에 그 기판의 아래쪽에 있는 예정 추출 위치로부터 미리 설정된 추출 스트로크량만큼 위쪽으로 이동함으로써 이 기판을 들어올려 지지하도록 되어 있는 복수의 포크를 구비한다.
또한, 본 기판 반송 장치는, 제1 기판 수용부로부터 기판을 빼낼 때에, 복수의 포크 중 인접하는 2개의 포크에 대해서, 상측의 한쪽의 포크를 전진 수평 운동시켜 이 한쪽의 포크에 의해 빼내야 하는 기판의 아래쪽의 사전 취출 위치로 상기 한쪽의 포크를 이동시키고, 그 후 한쪽의 포크와 하측의 다른 쪽의 포크를 위 방향으로 동시에 이동시켜, 한쪽의 포크에 기판을 들어올려 이 기판을 지지하게 하고, 그 후 한쪽의 포크의 후퇴 수평 운동 및 다른 쪽 포크의 전진 수평 운동을 동시에 행하여, 기판을 유지한 한쪽의 포크를 제1 기판 수용부로부터 후퇴시키고 다른 쪽의 포크를 상기 다른 쪽의 포크에 의해 빼내야 하는 기판의 아래쪽의 사전 취출 위치로 이동시키고, 그 후 한쪽의 포크와 다른 쪽의 포크를 더욱 상향으로 동시에 이동시켜, 다른 쪽의 포크에 기판을 들어올려 이 기판을 지지하게 할 수 있도록, 기판 반송 장치의 각 포크의 제어를 하는 제어 장치를 구비한다.

Abstract translation: 一种基板传送装置，用于将基板从第一基板容纳部分传送到第二基板容纳部分，其中，每个叉形件设置在叉形支撑部分上，以便在竖直方向上彼此间隔预定距离， 基板从基板下侧的预定提取位置提升预定的提取行程量，以提升基板。

公开(公告)号：KR1020110036566A

公开(公告)日：2011-04-07

申请号：KR1020110026042

申请日：2011-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라타아키라 ,  에노키다스구루 ,  도우키유이치

IPC: B65G49/07 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707

Abstract: PURPOSE: A substrate transfer device and a substrate processing system are provided to improve the processing capability and to reduce a processing time by using the substrate transfer device. CONSTITUTION: A substrate transfer device comprises a carrier station(10a) and a processing station(10b). The carrier station piles up semiconductor wafers(W). The process station is installed near the carrier station by performing a wafer washing process and a thermal process. A hoop(20) and a loading table(25) are arranged on the carrier station. Multiple wafers are accepted in the hoop in top and bottom direction at a regular interval. The loading table loads the hoops in a row. A transit unit(30) and a spin style process chamber(40) are arranged on the processing station. The wafer, which is transferred from the hoop, is temperately loaded on the transfer unit. The spin style process chamber transfers the wafer, which is temperately loaded on the transfer unit.

Abstract translation: 目的：提供衬底转移装置和衬底处理系统，以通过使用衬底转移装置来提高处理能力和减少处理时间。 构成：衬底传送装置包括载体站（10a）和处理站（10b）。 载波台堆积半导体晶片（W）。 通过执行晶片洗涤处理和热处理，将处理站安装在载体台附近。 环架（20）和装载台（25）布置在承载台上。 在顶部和底部方向上以规则间隔在箍中接受多个晶片。 加载表将一行加载环。 运送单元（30）和旋转式处理室（40）布置在处理站上。 从环转移的晶片被温和地装载在转印单元上。 旋转式处理室转移温度加载在转印单元上的晶片。

公开(公告)号：KR1020160148464A

公开(公告)日：2016-12-26

申请号：KR1020160073619

申请日：2016-06-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사타케게이고 ,  나카미조겐지 ,  도우키유이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: B24B37/005 ,  B24B37/20 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02343 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715 ,  H01L22/12 ,  H01L22/30

Abstract: 본발명은특정유량공급시에있어서의처리유체의공급유량을감시하며, 특정유량을항한상승시에있어서의처리유체의공급유량을감시하는것을과제로한다. 실시형태에따른처리장치는챔버와노즐과측정부와개폐부와제어부를구비한다. 챔버는피처리체를수용한다. 노즐은챔버내에마련되며, 피처리체를향하여처리유체를공급한다. 측정부는노즐에공급되는처리유체의공급유량을측정한다. 개폐부는노즐에공급되는처리유체의유로의개폐를행한다. 제어부는처리의내용을나타내는레시피정보에따라, 개폐부에개폐동작을행하게하는개폐동작신호를보낸다. 또한, 제어부는레시피정보에따라개폐부에개폐동작신호를보낸후, 측정부의측정결과에기초하여공급유량의적산을개시하고, 산출한적산량으로공급유량의상승을감시하며, 특정유량공급시에있어서는, 측정부에따른실측값으로공급유량을감시한다.

Abstract translation: 公开了一种处理装置，其包括容纳工件的室，设置在室内的喷嘴，测量供给到喷嘴的处理流体的供给流量的测量单元，执行流路开闭的打开/关闭单元 的处理流体，以及控制器。 控制器根据指示处理内容的配方信息发送打开/关闭操作信号，该打开/关闭操作信号使打开/关闭单元执行打开/关闭操作。 根据配方信息向打开/关闭单元发送打开/关闭操作信号后，控制器基于测量单元的测量结果开始积分供给流量，监视供应流量的上升，基于 计算的积分量，以及当提供特定流量时，基于由测量单元实际测量的值监视供给流量。

公开(公告)号：KR101015778B1

公开(公告)日：2011-02-22

申请号：KR1020040040079

申请日：2004-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토가즈히코 ,  이시마루가즈토시 ,  오오쿠라준 ,  기노시타미치오 ,  도우키유이치

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67259 ,  B05B12/122 ,  B05B13/0228 ,  Y10S414/136

Abstract: 기판에 대하여 소정의 처리를 실행하는 처리 유닛에 기판을 반입 및 반출하는 기판 반송수단에 대하여, 미리 기판 유지부에 대한 기판의 수수 위치의 데이터를 취득하여 놓은 경우에, 고정밀도 그리고 단시간에 기판의 위치 정렬을 하는 것.
기판 반송수단에 의해 기판 유지부에 수수된 위치 정렬용 기판의 표면에 형성된 마크에 대하여, 예컨대 기판 유지부를 180도 회전시켰을 때의 전후에 해당 마크의 위치를 각각 촬상하고, 이 마크의 위치 데이터에 근거하여 기판의 중심과 기판 유지부의 회전 중심과의 위치의 어긋남 양을 연산한 후, 이 수단에 의해 구해진 위치 어긋남 양의 유무를 판단한다. 그리고 위치 어긋남 양이 있음으로 판단되었을 때에 기판의 중심과 기판 유지부의 회전 중심이 일치하도록 기판 반송수단에 대하여 기판을 고쳐서 놓게하는 구성으로 한다.

公开(公告)号：KR1020070114040A

公开(公告)日：2007-11-29

申请号：KR1020070050865

申请日：2007-05-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라타아키라 ,  에노키다스구루 ,  도우키유이치

IPC: B65G49/07 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/68707

Abstract: A substrate conveying apparatus, a substrate treating system, and a substrate conveying method are provided to improve the throughput thereof by carrying a substrate more rapidly. A substrate conveying apparatus carries a plurality of substrates from a first substrate receiving part to a second substrate receiving part. The substrate conveying apparatus includes a fork supporting unit(53) and a plurality of forks(54a). The fork supporting unit is movable up and down with respect to the first and the second substrate receiving parts. The forks are installed on the fork supporting unit to move independently in a horizontal direction, where the forks are located apart from each other as much as a previously set fork pitch(P3) in a vertical direction. The forks move up by an extraction stroke amount(ST1) to lift the substrates when extracting the substrates from the first substrate receiving part. The fork pitch is set to the sum of a first pitch(P1) and the extraction stroke amount(ST1).

Abstract translation: 提供基板输送装置，基板处理系统和基板输送方法，以通过更快地承载基板来提高其生产量。 基板输送装置将多个基板从第一基板接收部件运送到第二基板接收部件。 基板输送装置包括叉支撑单元（53）和多个叉（54a）。 叉支撑单元相对于第一和第二基板接收部分上下移动。 叉子安装在叉支撑单元上以在水平方向上独立地移动，其中叉相对于在垂直方向上预先设定的叉间距（P3）彼此分开。 当从第一基板接收部分提取基板时，叉子向上移动提取冲程量（ST1）以提升基板。 叉间距设定为第一间距（P1）和抽出行程量（ST1）之和。

公开(公告)号：KR1020040104421A

公开(公告)日：2004-12-10

申请号：KR1020040040079

申请日：2004-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토가즈히코 ,  이시마루가즈토시 ,  오오쿠라준 ,  기노시타미치오 ,  도우키유이치

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67259 ,  B05B12/122 ,  B05B13/0228 ,  Y10S414/136

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and a method for adjusting a substrate transfer position are provided to align a substrate with high precision and high speed by obtaining previously position data of a substrate transfer mechanism. CONSTITUTION: A camera unit photographs a mark formed on a surface of a position aligning substrate. An operation unit calculates an amount of misalignment between a center of the position aligning substrate and a center of rotation of a substrate support member by using center position data of locations of the mark photographed before and after rotating the substrate support member by an angle of 180 degrees, respectively. A determination unit judges whether or not the position aligning substrate is aligned with the substrate support member from the amount of misalignment. An adjusting unit repositions the position aligning substrate by the substrate transfer mechanism to allow the center of the position aligning substrate to coincide with the center of rotation of the substrate support member when the position aligning substrate is not aligned with the substrate support member. A storage unit stores position data of the substrate transfer mechanism when the position aligning substrate is aligned with the center of the substrate support member.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置和用于调整基板转印位置的方法，通过获得基板转印机构的预先位置数据，以高精度和高速度对准基板。 构成：相机单元拍摄位置对准基板表面上形成的标记。 操作单元通过使用在将基板支撑构件旋转180°之前和之后拍摄的标记的位置的中心位置数据来计算位置对准基板的中心和基板支撑构件的旋转中心之间的未对准量 度。 确定单元从未对准的量判断位置对准基板是否与基板支撑构件对准。 调整单元通过基板传送机构重新定位位置对准基板，以便当位置对准基板与基板支撑构件不对准时，允许位置对准基板的中心与基板支撑构件的旋转中心重合。 当位置对准基板与基板支撑构件的中心对准时，存储单元存储基板传送机构的位置数据。