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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170113147A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170034722
申请日：2017-03-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G03F7/3028 , G03F7/3021 , G03F7/3092 , G03F7/40 , H01L21/0274 , H01L21/6715
Abstract: 본발명은레지스트막이형성되고, 노광된후의반도체장치제조용기판의면내에있어서레지스트패턴의치수의균일성이높아지도록현상처리를행하는것을과제로한다. 상기기판의표면에현상액을공급하여현상하는현상공정과, 이어서, 상기기판으로부터상기현상액의일부를뿌리쳐제거하기위해, 상기기판이중심축둘레의제1 회전방향으로회전하도록, 그기판의회전수를상승시키는제1 회전공정과, 이어서, 상기기판에잔류하는상기현상액을그 기판으로부터뿌리쳐제거하기위해, 상기기판을상기제1 회전방향과는반대의제2 회전방향으로회전시키는제2 회전공정을실시한다. 그에의해, 기판의면내의각 부에있어서의현상시간이불균일해지는것을막을수 있기때문에, 기판의각 부에균일성높은치수로레지스트패턴을형성할수 있다.
Abstract translation: 发明内容本发明的目的是进行显影处理，从而形成抗蚀剂膜，并且曝光后用于半导体器件制造的基板表面中的抗蚀剂图案的尺寸的均匀性增加。 向所述基板的表面供应显影液并显影所述显影液的显影步骤;以及通过使所述基板围绕所述中心轴在第一旋转方向上旋转来显影所述显影液的显影步骤， 以及第二旋转步骤，在与第一旋转方向相反的第二旋转方向上旋转基板，以从基板去除残留在基板上的显影溶液， 经受处理。 由此，能够防止基板面内的各部分的显影时间不均匀，能够在基板的各部分高度均匀地形成抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：KR1020160028983A
公开(公告)日：2016-03-14
申请号：KR1020150124925
申请日：2015-09-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G03F7/00 , G03F7/06 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/16
Abstract: 본발명의과제는, 노광후의기판에대해현상액에의해현상을행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의현상의진행정도에대해면내균일성의향상에기여할수 있는현상방법등을제공하는것이다. 회전가능한기판보유지지부(12)에수평으로보유지지된노광후의기판(W)에대해, 상기기판(W)의표면과대향하도록설치된접촉부(32)를구비한제1 현상액노즐(3)을사용하여기판(W)의표면의일부에액 저류부를형성하고, 회전하고있는기판(W)의상방에서제1 현상액노즐(3)을이동시켜기판의표면전체에액 저류부(30)를확산시켜현상처리를행한다. 또한, 이현상처리를행하기전 또는후에, 기판(W)의면내에있어서의현상의진행정도의분포를고르게하기위해, 기판을회전시킨상태에서제2 현상액노즐(61)에의해기판의표면에현상액을공급한다. 그리고, 제1, 제2 현상액노즐(3, 61)로부터의현상액의공급은, 먼저공급된현상액이기판(W)의표면으로부터제거된후에행해진다.
Abstract translation: 关于在曝光后通过显影液进行基板显影的本发明的一个问题是提供一种能够有助于提高面内均匀性的发展方法 基板的表面。 相对于水平保持并支撑在可旋转的基板保持和支撑单元（12）中的曝光后的基板（W），通过在表面的一部分中形成液体冲击单元来进行显影 使用具有安装成面向基板（W）的表面的接触单元（32）的第一显影液喷嘴（3），使第一显影液喷嘴（3）从旋转基板的上部移动 W），并且将液体下溢单元（30）扩散到基底的整个表面。 此外，在显影之前或之后，通过第二显影液喷嘴（61）将显影液供给到基板的表面，同时旋转基板以均匀地进行基板（W）的表面的显影的进展。 此外，从所述第一和第二显影液喷嘴（3,61）中提供所述显影液后，在从所述基板（W）的表面除去所提供的显影液之后进行。
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公开(公告)号：KR102241267B1
公开(公告)日：2021-04-15
申请号：KR1020150126339
申请日：2015-09-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.
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公开(公告)号：KR1020170042483A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：KR1020160128877
申请日：2016-10-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G03F7/3021 , B05C5/02 , B05C11/08 , B05D1/005 , H01L21/6715
Abstract: 현상의진행량이기판상의위치에따라변동되는것을보다확실하게억제할수 있는방법, 장치및 기록매체를제공한다. 기판처리방법은, 웨이퍼를제1 회전수로회전시켜, 접액면을웨이퍼의표면에대향시킨상태에서, 토출구로부터웨이퍼의표면에현상액을공급하고, 현상액에접액면을접촉시키면서노즐을이동시킴으로써, 웨이퍼의표면상에현상액의액막을형성하는것과, 웨이퍼의표면상에액막이형성된후에, 토출구로부터의현상액의공급이정지된상태에서, 제1 회전수에비해낮은제2 회전수로웨이퍼를회전시키는것과, 제2 회전수로웨이퍼를회전시킨후에, 제1 회전수에비해높은제3 회전수로웨이퍼를회전시키는것과, 제3 회전수로웨이퍼를회전시킨후에, 웨이퍼의회전수를제2 회전수이하로함으로써, 웨이퍼의표면상에액막을유지하는것을포함한다.
Abstract translation: 如何的，可以更可靠地抑制根据衬底上的位置变动的症状进展的量，提供了一种装置和记录介质。 的基板处理方法包括：旋转所述第一旋转时，接触表面的晶片片数，而它相对于晶片的表面，并供给显影溶液从喷出口在晶片的表面上，同时通过接触在显影剂接触表面移动喷嘴，晶片 上表面uipyo haneungeot形成显影剂的液膜，并且形成后的液体膜的晶片的表面上，在显影剂排放口robuteoui固定的供应，和类似物比转时，所述第一数量的旋转下侧的第二晶片旋转数 第二轮晶片的转数，第一为相比于转数，以旋转晶片的高第三旋转数后，之后的晶片3的转数，当晶片国会传输到小于所述第二旋转数，晶片的旋转 并保持液体薄膜在表面上。
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公开(公告)号：KR1020160030057A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：KR1020150126339
申请日：2015-09-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는노광후의기판에현상처리를행하는데 있어서, 기판의면내에있어서의레지스트패턴의선 폭의균일성을높게하는것이다. 현상액의토출구와상기기판의표면보다도작게형성된접촉부를구비한현상액노즐을사용하고, 상기기판의중앙부에서상기접촉부를기판의표면에대향시키는공정과, 계속해서상기현상액노즐의토출구로부터기판의표면에현상액을토출해서상기접촉부에서보아당해접촉부의외측테두리보다도외측으로현상액을비어져나오게하여액 고임부를형성하는공정과, 그와같이현상액이비어져나온상태를유지하여, 회전하고있는기판에상기토출구로부터현상액을토출하면서상기현상액노즐을기판의중앙부로부터주연부로이동시켜상기액 고임부를기판의전체면으로확장하는공정을포함하도록현상처리를행한다.
Abstract translation: 本发明涉及显影方法，显影装置和存储介质。 本发明旨在提高在曝光之后显影衬底期间衬底表面中的抗蚀剂图案的线的宽度的均匀性。 为此，使用的是包括显影剂排出孔和比基板表面小的接触部的显影剂喷嘴。 此外，通过包括以下处理进行显影：使接触部在基板的中央面对基板的表面; 通过从显影剂喷嘴的排出孔连续排出基板表面上的显影剂，然后基于接触部分使显影剂泄漏到比接触部分的外边缘更外侧的外侧，形成液体停滞部分 ; 并且通过将显影剂喷嘴从中心转移到基板的边缘，并将显影剂从排出孔排出到旋转的基板上，同时通过维持显影剂的泄漏状态将液体滞留部分扩展到基板的整个表面。
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