公开(公告)号：KR1020170009852A

公开(公告)日：2017-01-25

申请号：KR1020167031236

申请日：2015-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데루우치사토루

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46 ,  H05B3/00 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/32724 ,  F27D11/02 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32183 ,  H01J37/32834 ,  H01J37/32908 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H05B3/283 ,  H05B3/62 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4682

Abstract: 일실시형태의플라즈마처리장치는처리용기, 재치대, 복수의히터및 급전장치를구비하고있다. 재치대는처리용기내에마련되어있다. 복수의히터는, 재치대내에마련되어있다. 급전장치는복수의히터에전력을공급한다. 급전장치는복수의변압기, 및복수의제로크로스제어형의솔리드스테이트릴레이(SSR)를갖고있다. 복수의변압기는, 교류전원으로부터의전압을강압하도록구성되어있다. 복수의변압기의각각은, 1차코일및 2차코일을갖고있다. 1차코일은교류전원에접속되어있다. 복수의 SSR의각각은, 복수의히터중 대응하는하나의히터와복수의변압기중 대응하는하나의변압기의 2차코일의사이에마련되어있다.

Abstract translation: 根据实施例的等离子体处理装置设置有处理容器，台，多个加热器和电源装置。 工作台设在处理容器的内部。 多个加热器设置在台内。 电源装置向多个加热器供电。 电源装置具有多个变压器和多个零交叉控制固态继电器（SSR）。 多个变压器被配置为降低来自交流电源的电压。 多个变压器中的每一个具有初级线圈和次级线圈。 初级线圈连接到交流电源。 多个SSR中的每一个设置在多个加热器中的一个对应的加热器和多个变压器中的一个对应的变压器的次级线圈之间。

公开(公告)号：KR1020170015882A

公开(公告)日：2017-02-10

申请号：KR1020167031072

申请日：2015-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타가와다이 ,  고이즈미가츠유키 ,  나가이츠토무 ,  하야시다이스케 ,  데루우치사토루

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32908 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67098

Abstract: 일실시형태의재치대는, 지지부재, 및기대를구비한다. 지지부재는, 히터를가지는재치영역, 및재치영역을둘러싸는외주영역을가진다. 기대는, 그위에재치영역을지지하는제1 영역, 및제1 영역을둘러싸는제2 영역을가진다. 제2 영역에는관통구멍이마련되어있다. 히터에전기적으로접속되는배선은, 제2 영역의관통구멍에통과되어있다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，一个放置台设置有支撑构件和底座。 支撑构件具有具有加热器的放置区域和围绕放置区域的外周区域。 底座具有用于支撑其上的放置区域的第一区域和围绕第一区域的第二区域。 第二区域设有通孔。 电连接到加热器的接线被插入到第二区域中的通孔中。