公开(公告)号：KR1020170015882A

公开(公告)日：2017-02-10

申请号：KR1020167031072

申请日：2015-06-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기타가와다이 ,  고이즈미가츠유키 ,  나가이츠토무 ,  하야시다이스케 ,  데루우치사토루

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32009 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32908 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/683 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67098

Abstract: 일실시형태의재치대는, 지지부재, 및기대를구비한다. 지지부재는, 히터를가지는재치영역, 및재치영역을둘러싸는외주영역을가진다. 기대는, 그위에재치영역을지지하는제1 영역, 및제1 영역을둘러싸는제2 영역을가진다. 제2 영역에는관통구멍이마련되어있다. 히터에전기적으로접속되는배선은, 제2 영역의관통구멍에통과되어있다.

Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，一个放置台设置有支撑构件和底座。 支撑构件具有具有加热器的放置区域和围绕放置区域的外周区域。 底座具有用于支撑其上的放置区域的第一区域和围绕第一区域的第二区域。 第二区域设有通孔。 电连接到加热器的接线被插入到第二区域中的通孔中。

公开(公告)号：KR100791652B1

公开(公告)日：2008-01-03

申请号：KR1020037006396

申请日：2001-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도모요시리키 ,  고이즈미가츠유키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32477

Abstract: 챔버(11)내에서 웨이퍼(W)를 지지하는 하부 전극(12)과, 이 웨이퍼(W)를 처리하기 위한 플라즈마로부터 챔버(11)의 내주면을 차폐하는 차폐 부재(19)와, 이 차폐 부재(19)와 하부 전극(12)의 간극에 배치되고 또한 챔버(11)내의 가스를 분산하여 배출하는 배플 플레이트(18)를 구비하고, 차폐 부재(19)의 내주면에 수지판(20)을 교환 가능하게 장착하며, 또한 수지판(20)에 원주 방향의 압축 압력을 부여한 것이다.

公开(公告)号：KR1020150123721A

公开(公告)日：2015-11-04

申请号：KR1020150055647

申请日：2015-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고이즈미가츠유키 ,  기타가와다이 ,  다카하시도모유키

IPC: H01L21/683

CPC classification number: H01J37/32715 ,  H01J37/32697 ,  H01L21/6831

Abstract: [과제] 정전척을제공한다. [해결수단] 일실시형태의정전척은, 피처리체를배치하기위한원형의배치영역을갖는다. 배치영역은, 바닥면및 이바닥면으로부터돌출된복수의돌출부를갖고있다. 복수의돌출부는, 배치영역의중심에대하여동심형으로또한등간격으로설정된복수의원 상에서등간격으로설정된복수의위치에형성되어있다. 이들복수의위치중 임의의 2개의인접하는원 상에설정된복수의위치는, 상기중심으로부터뻗는동일한직선상에위치하지않도록설정되어있다.

Abstract translation: 提供静电卡盘。 根据本发明的一个实施例，静电卡盘具有用于布置待加工物体的圆形布置区域。 布置区域包括：地板表面; 以及从地板表面突出的多个突起单元。 突起单元形成为以相对于布置区域的中心同心的多个圆周上以恒定间隔设置的多个位置，并以恒定的间隔设置。 设置在两个位置之间彼此相邻的两个随机圆上的位置被设置为防止位置定位在从中心延伸的相同的线上。

公开(公告)号：KR1020160078332A

公开(公告)日：2016-07-04

申请号：KR1020167007979

申请日：2014-10-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고이즈미가츠유키 ,  센자키시게루 ,  다카하시도모유키 ,  기타가와다이

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/683 ,  H01L21/324 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67103 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67098 ,  H01L22/12

Abstract: 기판을탑재하는정전척을세분화한복수의영역의각각에대응하여적어도 1세트씩마련된복수세트의히터및 사이리스터와, 상기복수세트의사이리스터로부터히터에전류를공급하는하나의전원과, 상기하나의전원으로부터상기복수의히터에전력을공급하는전원라인에마련되고, 그전원에인가되는고주파전력을제거하는적어도 1세트의필터를갖는온도제어기구가제공된다.

公开(公告)号：KR1020030066656A

公开(公告)日：2003-08-09

申请号：KR1020037006396

申请日：2001-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도모요시리키 ,  고이즈미가츠유키

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32477

Abstract: 챔버(11)내에서 웨이퍼(W)를 지지하는 하부 전극(12)과, 이 웨이퍼(W)를 처리하기 위한 플라즈마로부터 챔버(11)의 내주면을 차폐하는 차폐 부재(19)와, 이 차폐 부재(19)와 하부 전극(12)의 간극에 배치되고 또한 챔버(11)내의 가스를 분산하여 배출하는 배플 플레이트(18)를 구비하고, 차폐 부재(19)의 내주면에 수지판(20)을 교환 가능하게 장착하며, 또한 수지판(20)에 원주 방향의 압축 압력을 부여한 것이다.

Abstract translation: 根据本发明的等离子体处理装置包括用于在腔室11中支撑晶片W的下电极12，用于屏蔽腔室11的内圆周表面与用于处理晶片W的等离子体的屏蔽部件19，以及挡板 18，其配置在屏蔽部件19与下部电极12之间的间隙中，使腔室11内的气体飞散并排出;树脂板20，其以能够装卸的方式安装在屏蔽部件19的内周面上;周向压缩应力 在树脂板20中产生。