정전 척, 배치대, 플라즈마 처리 장치
    1.
    发明公开
    정전 척, 배치대, 플라즈마 처리 장치 审中-实审
    静电卡盘,放置台和等离子体加工设备

    公开(公告)号:KR1020150123721A

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:KR1020150055647

    申请日:2015-04-21

    CPC classification number: H01J37/32715 H01J37/32697 H01L21/6831

    Abstract: [과제] 정전척을제공한다. [해결수단] 일실시형태의정전척은, 피처리체를배치하기위한원형의배치영역을갖는다. 배치영역은, 바닥면및 이바닥면으로부터돌출된복수의돌출부를갖고있다. 복수의돌출부는, 배치영역의중심에대하여동심형으로또한등간격으로설정된복수의원 상에서등간격으로설정된복수의위치에형성되어있다. 이들복수의위치중 임의의 2개의인접하는원 상에설정된복수의위치는, 상기중심으로부터뻗는동일한직선상에위치하지않도록설정되어있다.

    Abstract translation: 提供静电卡盘。 根据本发明的一个实施例,静电卡盘具有用于布置待加工物体的圆形布置区域。 布置区域包括:地板表面; 以及从地板表面突出的多个突起单元。 突起单元形成为以相对于布置区域的中心同心的多个圆周上以恒定间隔设置的多个位置,并以恒定的间隔设置。 设置在两个位置之间彼此相邻的两个随机圆上的位置被设置为防止位置定位在从中心延伸的相同的线上。

    배치대 및 플라즈마 처리 장치
    3.
    发明公开
    배치대 및 플라즈마 처리 장치 审中-实审
    配置表和等离子体加工设备

    公开(公告)号:KR1020160000419A

    公开(公告)日:2016-01-04

    申请号:KR1020150085864

    申请日:2015-06-17

    Abstract: 피처리체의설정온도와포커스링의설정온도의차이를크게한다. 일실시형태에서는, 피처리체를배치하기위한배치대가제공된다. 이배치대는, 피처리체를흡착하기위한정전척과, 포커스링을지지하기위한지지부와, 정전척을지지하는제1 영역, 및제1 영역을둘러싸며지지부를지지하는제2 영역을갖는금속성의베이스를구비하고, 지지부는, 세라믹소결체로이루어지며접착제를통해제2 영역에지지되는중간층과, 중간층상에용사법에의해형성된세라믹용사층과, 세라믹용사층의내부에설치되며용사법에의해형성된히터전극을구비한다.

    Abstract translation: 待处理对象的设定温度与聚焦环的设定温度的差大。 根据实施例,提供了一种配置用于将要处理的物体放置在其上的放置台。 放置台包括:静电卡盘,被配置为吸收被处理物体; 配置为支撑聚焦环的支撑部; 以及具有构造成支撑静电卡盘的第一区域和被配置为支撑支撑构件的第二区域的金属底座,其中第二区域围绕第一区域。 所述支撑部包括:由陶瓷烧结体构成的中间层,经由粘合剂被支承在所述第二区域上; 通过热喷涂法形成在中间层上的热喷涂陶瓷层; 以及安装在喷镀陶瓷层中并通过热喷涂法形成的加热电极。

    전력공급부 커버 구조체 및 반도체 제조 장치
    4.
    发明公开
    전력공급부 커버 구조체 및 반도체 제조 장치 审中-实审
    电源封装结构和半导体制造设备

    公开(公告)号:KR1020150090844A

    公开(公告)日:2015-08-06

    申请号:KR1020150010115

    申请日:2015-01-21

    Abstract: 본발명은전력공급부의결로를방지하는것이가능한전력공급부커버구조체및 반도체제조장치를제공한다. 소켓과플러그가끼워맞추어진전력공급부와, 상기전력공급부를덮고, 상기전력공급부를밀폐하는커버구조체와, 상기커버구조체내에드라이에어또는불활성가스를공급하는공급기구를구비하고, 상기드라이에어또는불활성가스는상기전력공급부와상기커버구조체사이의간극을통하여상기커버구조체의내부에공급되는전력공급부커버구조체가제공된다.

    Abstract translation: 本发明提供能够防止电源和半导体制造装置的结露的电源盖结构。 电源盖结构包括:电源,其具有插座和插入其中的插头; 用于覆盖电源并密封电源的盖结构; 以及用于将干燥空气或惰性气体供应到盖结构中的供应装置,其中干燥空气或惰性气体通过电源和盖结构之间的间隙供应到盖结构中。

    배치대 및 기판 처리 장치
    5.
    发明公开
    배치대 및 기판 처리 장치 审中-实审
    安装台和底板加工设备

    公开(公告)号:KR1020160084803A

    公开(公告)日:2016-07-14

    申请号:KR1020150186341

    申请日:2015-12-24

    Abstract: [과제] 세라믹체내부의측정대상개소의온도를보다정확하게측정한다. [해결수단] 일실시형태에따른배치대는, 세라믹체와, 세라믹체의내부에설치된히터와, 세라믹체를지지하는지지면을갖는베이스이며, 적어도그 지지면측에개구된공간으로서온도센서를수용하는그 공간을제공하는그 베이스와, 세라믹체내에설치되는제1 단부와, 공간의상측의위치로서제1 단부보다공간측의위치에설치되는제2 단부와의사이에서연장되는전열체이며, 그전열체의주위에서의세라믹체의열전도율보다높은열전도율을갖는그 전열체를구비한다.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种可以更精确地测量陶瓷体内的测量对象点的温度的放置台。 为了实现这一目的,根据本发明的实施例的放置台包括:陶瓷体; 安装在陶瓷体内的加热器; 基部,其包括用于支撑陶瓷体的支撑表面,并且提供在支撑表面侧开口的空间,并且接收温度传感器; 以及电热加热体,其在安装在陶瓷体内部的第一端部与位于所述空间的上侧的第二端部之间延伸,并且与所述第一端部相比安装在所述空间的一侧的位置 并且具有比电加热体周围的陶瓷体高的导热率。

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