公开(公告)号：KR101967503B1

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：KR1020157008388

申请日：2013-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지 ,  야노가즈토시 ,  시게토미겐이치 ,  도요자와아키히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/3105

公开(公告)号：KR1020170122199A

公开(公告)日：2017-11-03

申请号：KR1020177024151

申请日：2016-02-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  도미타다다토시 ,  겐지마히사시 ,  유겐 ,  기타노다카히로 ,  니시다카노리

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  C08F297/00 ,  B82Y40/00

CPC classification number: B81C1/00031 ,  B81C1/00428 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C08F297/00 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742

Abstract: 친수성폴리머(411)와소수성폴리머(412)를포함하는블록공중합체를이용한기판처리방법은폴리머분리공정을포함하고, 블록공중합체에서의친수성폴리머의분자량의비율은, 폴리머분리공정후에친수성폴리머(411)가평면에서보아육방최밀구조에대응하는위치에배열되도록 20%∼40%로조정되고, 폴리머분리공정에서는, 소수성의도포막에의한원형상의각 패턴(404) 상에원기둥형의제1 친수성폴리머(411a)를각각상분리시키며, 각제1 친수성폴리머(411a) 사이에, 원기둥형의제2 친수성폴리머(411b)를상분리시키고, 제1 친수성폴리머(411a)와제2 친수성폴리머(411b)가평면에서보아육방최밀구조에대응하는위치에배열되도록, 원형상의패턴(404)의직경이정해져있다.

Abstract translation: 亲水性聚合物411和使用包括疏水性聚合物（412）的嵌段共聚物的基板处理方法的分子量的比包含聚合物分离步骤，该亲水聚合物eseoui嵌段共聚物中，亲水性聚合物（411，聚合物分离过程之后 ）被调整为20-40％，以便被布置在对应于所述六角形的最高密度结构的位置，如从侧面Gapyung，聚合物分离步骤，在圆上的各个图案404中的第一亲水圆柱形观察由于疏水图覆盖膜 聚合物（411A），分别的sikimyeo相分离，gakje一种亲水性聚合物（411A），所述圆筒形的第二亲水性聚合物的相分离（411B）和所述第一亲水性聚合物之间（411A）沃赫在Gapyung表面第二亲水性聚合物（411B） 圆形图案404的直径被确定为布置在对应于六边形最近结构的位置处。

公开(公告)号：KR1020150058209A

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：KR1020157006644

申请日：2013-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지 ,  오카다소이치로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/16 ,  G03F7/405 ,  H01J37/32889 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67253

Abstract: 본발명은, 친수성폴리머와소수성폴리머에대하여중간의친화성을갖는중성층을기판상에형성하고, 중성층상에형성된레지스트막을노광처리하며, 이어서노광처리후의레지스트막을현상하여레지스트패턴을형성하고, 레지스트패턴에극성을갖는유기용제를공급하여레지스트패턴을표면처리하며, 블록공중합체를중성층상에도포하여, 중성층상의블록공중합체를친수성폴리머와소수성폴리머로상분리시킨다.

Abstract translation: 本发明构造成：在基材上形成与亲水性聚合物和疏水性聚合物具有中等亲和力的中性层; 通过对形成在中性层上的抗蚀剂膜进行曝光处理，然后在曝光处理之后使抗蚀剂膜显影来形成抗蚀剂图案; 通过向抗蚀剂图案供给具有极性的有机溶剂，对​​抗蚀剂图案进行表面处理; 将嵌段共聚物施加到中性层上; 并将中性层上的嵌段共聚物相分离成亲水性聚合物和疏水性聚合物。

公开(公告)号：KR102066301B1

公开(公告)日：2020-01-14

申请号：KR1020147027096

申请日：2013-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B05C9/14

公开(公告)号：KR1020150007279A

公开(公告)日：2015-01-20

申请号：KR1020147027564

申请日：2013-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지

IPC: B05D7/24 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: 본 발명은 블록 공중합체를 사용하여 기판 상에 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법이며, 적어도 2종류의 중합체를 포함하는 블록 공중합체의 막을 기판에 형성하는 스텝과, 그 블록 공중합체의 막을 가열하는 스텝과, 가열된 블록 공중합체의 막에 대해 불활성 가스의 분위기 하에서 자외광을 조사하는 스텝과, 자외광이 조사된 블록 공중합체의 막에 유기 용제를 공급하는 스텝을 갖는다.

公开(公告)号：KR101857323B1

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：KR1020147027564

申请日：2013-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지

IPC: B05D7/24 ,  B05D3/06 ,  B05D3/10 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: 본발명은블록공중합체를사용하여기판상에패턴을형성하는패턴형성방법이며, 적어도 2종류의중합체를포함하는블록공중합체의막을기판에형성하는스텝과, 그블록공중합체의막을가열하는스텝과, 가열된블록공중합체의막에대해불활성가스의분위기하에서자외광을조사하는스텝과, 자외광이조사된블록공중합체의막에유기용제를공급하는스텝을갖는다.

公开(公告)号：KR1020160143669A

公开(公告)日：2016-12-14

申请号：KR1020167027708

申请日：2015-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  요오겐 ,  니시다카노리

IPC: G03F7/30 ,  G03F7/34 ,  H01L51/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/3086 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/30604 ,  Y10S977/887 ,  Y10S977/943 ,  G03F7/34 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/0274 ,  H01L51/0043

Abstract: 기판처리방법은, 기판상에레지스트막에의해원 형상의패턴을복수형성하고, 그후 제1 블록공중합체를도포하고, 계속해서제1 블록공중합체를친수성폴리머와소수성폴리머로상분리시킨후, 친수성폴리머를선택적으로제거하고, 계속해서기판상으로부터레지스트막을선택적으로제거하고, 그후 제2 블록공중합체를당해기판에도포하고, 계속해서제2 블록공중합체를친수성폴리머와소수성폴리머로상분리시킨후, 상분리한제2 블록공중합체로부터친수성폴리머를선택적으로제거한다. 제1 블록공중합체및 제2 블록공중합체에있어서의친수성폴리머의분자량의비율은 20%∼40%이다.

Abstract translation: 在本发明中，基板处理方法包括：在基板上使用抗蚀剂膜形成多个圆形图案; 施加第一嵌段共聚物; 将第一嵌段共聚物相分离为亲水性聚合物和疏水性聚合物，然后选择性除去亲水性聚合物; 从基板选择性地去除抗蚀剂膜; 将第二嵌段共聚物施加到所述基材上; 并将第二嵌段共聚物相分离为亲水性聚合物和疏水性聚合物，然后从相分离的第二嵌段共聚物中选择性除去亲水性聚合物。 亲水性聚合物在第一嵌段共聚物和第二嵌段共聚物中的分子量的比例在20-40％的范围内。

公开(公告)号：KR1020160088961A

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：KR1020147027096

申请日：2013-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/311 ,  H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  B05C9/14

CPC classification number: H01L21/0271 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02337 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68742 ,  G03F7/004 ,  B05C9/14 ,  G03F7/38

Abstract: 본발명은기판상에패턴을형성하는데있어서, 적어도 2개의중합체를포함하는블록공중합체의막을기판에형성하고, 당해블록공중합체의막을용제증기분위기하에서가열하여, 블록공중합체를상분리시키고, 상분리된블록공중합체의막 중하나의중합체를제거하도록했으므로, 블록공중합체의중합체유동화를촉진해서상분리를촉진시킬수 있다.

公开(公告)号：KR102153767B1

公开(公告)日：2020-09-08

申请号：KR1020157036324

申请日：2014-06-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  니시다카노리 ,  가와카미신이치로 ,  야마우치다카시

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  G03F7/32 ,  G03F7/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/311 ,  H01L21/308

公开(公告)号：KR101932804B1

公开(公告)日：2018-12-27

申请号：KR1020157006644

申请日：2013-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 무라마츠마코토 ,  기타노다카히로 ,  도미타다다토시 ,  다노우치게이지 ,  오카다소이치로

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/40

Abstract: 본 발명은, 친수성 폴리머와 소수성 폴리머에 대하여 중간의 친화성을 갖는 중성층을 기판 상에 형성하고, 중성층 상에 형성된 레지스트막을 노광 처리하며, 이어서 노광 처리 후의 레지스트막을 현상하여 레지스트 패턴을 형성하고, 레지스트 패턴에 극성을 갖는 유기 용제를 공급하여 레지스트 패턴을 표면 처리하며, 블록 공중합체를 중성층 상에 도포하여, 중성층 상의 블록 공중합체를 친수성 폴리머와 소수성 폴리머로 상분리시킨다.