公开(公告)号：KR101012076B1

公开(公告)日：2011-02-07

申请号：KR1020080073185

申请日：2008-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토토시유키 ,  미나미토모히데 ,  도키유이치 ,  마하라코지

IPC: H01L21/677

CPC classification number: G01B7/003 ,  H01L21/67259

Abstract: 좁은 반송로를 갖는 장치에 대해서도 반입이 가능한 위치 검출용 웨이퍼를 이용하여 반송 암의 반송처의 위치 조정을 실시한다. 위치 검출용 웨이퍼(S)는, 위치 조정의 목표물과의 사이의 정전 용량을 검출하는 정전 용량 검출 센서(50)를 갖는다. 정전 용량 검출 센서(50)는, 목표물과의 사이에서 정전 용량을 형성하는 복수의 정전 용량 검출 전극(52)과 정전 용량 검출 전극(52)과 통신하여, 정전 용량 검출 전극(52)에 의한 정전 용량의 검출을 제어하는 제어 회로(51)를 갖는다. 정전 용량 검출 전극(52)은, 위치 검출용 웨이퍼(S)의 이면측에 설치되고, 제어 회로(51)는 표면측에 설치되어 있다.

公开(公告)号：KR101020021B1

公开(公告)日：2011-03-09

申请号：KR1020070098747

申请日：2007-10-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도키유이치 ,  하야시도쿠타루

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  G06F19/00

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68 ,  Y10S414/136

Abstract: 본 발명은 콤팩트하며, 고정밀도로 기판의 전달 위치의 위치 맞춤을 할 수 있는 기판 처리 장치, 기판 전달 위치의 조정 방법 및 이 방법을 기억한 기억 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
스핀척(2)과 같이 수직 둘레로 회전 가능한 기판 유지부에 웨이퍼(W) 등의 기판을 유지하여 처리를 행하는 기판 처리 장치에 있어서, 기판 대신에 지그(12)를 기판 유지부에 전달하고, 이 지그(12)에 미리 설정된 소정의 계측 위치에 있어서의 원심 가속도나 스핀척(2)의 회전 중심으로부터 이 계측 위치까지의 편심 거리를 구한다. 그리고 적어도 3 지점의 다른 전달 위치에서 얻어진 원심 가속도나 편심 거리에 기초하여 전술한 회전 중심을 구하고, 기판의 중심과 전술한 회전 중심이 일치 위치를 기판의 전달 위치 데이터로서 기억한다.

公开(公告)号：KR1020090013690A

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：KR1020080073185

申请日：2008-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토토시유키 ,  미나미토모히데 ,  도키유이치 ,  마하라코지

IPC: H01L21/677

CPC classification number: G01B7/003 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/68707

Abstract: A position detection jig is provided to perform the position control of the carrier place of the transfer arm. The position detection wafer(S) has the electrostatic capacity detector and sensor(50) for detecting the electrostatic capacity between the target object of the position control. The electrostatic capacity detection sensor have a plurality of electrostatic capacity detection electrodes(52) and a control circuit. The electrostatic capacity is formed between a plurality of electrostatic capacity detection electrodes and the target object. The control circuit communicates with the electrostatic capacity detection electrode and controls the detection of the electrostatic capacity by the electrostatic capacity detection electrode. The electrostatic capacity detection electrode is installed at the backside of the wafer for the position detection. The control circuit is installed at the front surface side of the wafer for the position detection.

Abstract translation: 提供位置检测夹具来执行传送臂的载体位置的位置控制。 位置检测晶片（S）具有用于检测位置控制的目标物体之间的静电电容的静电电容检测器和传感器（50）。 静电电容检测传感器具有多个静电电容检测电极（52）和控制电路。 在多个静电电容检测电极和目标物体之间形成静电电容。 控制电路与静电电容检测电极通信，并通过静电电容检测电极控制静电电容的检测。 静电电容检测电极安装在用于位置检测的晶片的背面。 控制电路安装在用于位置检测的晶片的前表面侧。

公开(公告)号：KR1020110099631A

公开(公告)日：2011-09-08

申请号：KR1020110012713

申请日：2011-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도키유이치 ,  고쇼마사타카 ,  후루쇼토시노부

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/2043 ,  H01L22/30

Abstract: 기판으로 약액을 공급하여 액처리를 행하는 액처리 장치에서 약액의 공급 상태를 확실하게 판정할 수 있는 기술을 제공한다. 기판 보지부에 보지된 기판으로 펌프로부터 배관 및 노즐을 거쳐 약액을 공급하여 액처리를 행하는 장치에 있어서, 상기 배관에서부터 노즐의 선단부에 이르기까지의 유로 구성 부재에 변형 게이지가 설치된 변형 센서와, 이 변형 센서의 출력 전압을 미분하는 미분 회로와, 이 미분 회로의 출력에 따라 약액의 공급 상태를 판정하는 판정부를 구비하도록 장치를 구성한다. 광학적인 검출을 행하는 경우보다 기판의 표면 상태 또는 약액의 성질에 따른 영향이 억제되므로, 정밀한 판정을 행할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020090021082A

公开(公告)日：2009-02-27

申请号：KR1020080081769

申请日：2008-08-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도키유이치 ,  마하라고지 ,  하야시도쿠타로

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/7075 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68 ,  Y10T29/49771 ,  H01L21/67703

Abstract: A method of controlling moving position of a transfer arm and jig for detecting position are provided to facilitate the control of moving position of a transfer arm by using a jig for detecting position having high precision which can carry in a thin apparatus. A substrate(S) for detecting position is supported by a transfer arm. The substrate for detecting position comprises a capacitive sensor(150). The substrate for detecting position is returned by the transfer arm and is loaded in a load part. The location of the target object of the loading part is detected by the capacitive sensor of the substrate for detecting position. Therefore, the loading position of the substrate for detecting position at the loading part is detected. The moving position of the transfer arm in transferring a substrate is adjusted based on the loading position of the substrate for detecting position.

Abstract translation: 提供了一种控制用于检测位置的传送臂和夹具的移动位置的方法，以便于通过使用用于检测能够承载薄型设备的高精度位置的夹具来控制传送臂的移动位置。 用于检测位置的基板（S）由传送臂支撑。 用于检测位置的基板包括电容传感器（150）。 用于检测位置的基板由传送臂返回并装载在负载部分中。 加载部件的目标物体的位置由用于检测位置的基板的电容传感器检测。 因此，检测用于检测装载部位置的基板的装载位置。 基于用于检测位置的基板的装载位置来调整传送臂在传送基板中的移动位置。

公开(公告)号：KR1020080038011A

公开(公告)日：2008-05-02

申请号：KR1020070098747

申请日：2007-10-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도키유이치 ,  하야시도쿠타루

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  G06F19/00

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68 ,  Y10S414/136 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/37608 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/681 ,  H01L21/68707

Abstract: A substrate processing apparatus, method of adjusting a substrate delivery position, and a storage medium are provided to accurately measure a rotation center of a substrate support portion by using a centrifugal acceleration or an eccentricity distance between the rotation center and a measuring position. A jig(12) having a shape corresponding to a wafer to be processed is used for notifying a position of a substrate. A measuring unit(11) is attached to a center of the jig. A controller(31) controls an application unit and a development unit based on the data from the measuring unit. A unit controller and an arm controller control a spin chuck(2) in the application unit or main arms based on a control command from the controller. The measuring unit includes an acceleration sensor, a CPU(Central Processing Unit) for controlling the measuring unit, a program storage, an ADC(Analog Digital Converter), a buffer memory, an antenna, and a communication controller. The antenna wirelessly communicates with a controller in the development unit.

Abstract translation: 提供基板处理装置，调整基板输送位置的方法和存储介质，以通过使用离心加速度或旋转中心与测量位置之间的偏心距离来精确地测量基板支撑部的旋转中心。 使用具有与待处理晶片相对应的形状的夹具（12）来通知基板的位置。 测量单元（11）附接到夹具的中心。 控制器（31）基于来自测量单元的数据控制应用单元和显影单元。 单元控制器和臂控制器基于来自控制器的控制命令来控制应用单元或主臂中的旋转卡盘（2）。 测量单元包括加速度传感器，用于控制测量单元的CPU（中央处理单元），程序存储器，ADC（模拟数字转换器），缓冲存储器，天线和通信控制器。 天线与开发单元中的控制器无线通信。

公开(公告)号：KR101774373B1

公开(公告)日：2017-09-04

申请号：KR1020110012713

申请日：2011-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도키유이치 ,  고쇼마사타카 ,  후루쇼토시노부

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

Abstract: 기판으로약액을공급하여액처리를행하는액처리장치에서약액의공급상태를확실하게판정할수 있는기술을제공한다. 기판보지부에보지된기판으로펌프로부터배관및 노즐을거쳐약액을공급하여액처리를행하는장치에있어서, 상기배관에서부터노즐의선단부에이르기까지의유로구성부재에변형게이지가설치된변형센서와, 이변형센서의출력전압을미분하는미분회로와, 이미분회로의출력에따라약액의공급상태를판정하는판정부를구비하도록장치를구성한다. 광학적인검출을행하는경우보다기판의표면상태또는약액의성질에따른영향이억제되므로, 정밀한판정을행할수 있다.

Abstract translation: 提供一种能够可靠地确定通过向基板供给药液来进行液体处理的液体处理装置中的药液的供给状态的技术。 用于通过从所述泵到看到的部分看到的基底板的管道和喷嘴供给药液进行液处理的流路形成部件的装置，和kkajiui下降到从管安装应变计的喷嘴，变形传感器，其突变体的远端 和用于区分所述传感器的输出电压，从而使已经包括用于确定根据一个分支的输出端的化学液体的供给的确定条件的差分电路构成的单元。 当执行的所以比抑制的表面状态或在基板的药物溶液的性能的影响可以进行精确的测定光学检测。

公开(公告)号：KR101197426B1

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：KR1020080081769

申请日：2008-08-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도키유이치 ,  마하라고지 ,  하야시도쿠타로

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/7075 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68 ,  Y10T29/49771

Abstract: 본 발명에서는, 정전 용량 센서를 갖는 위치 검출용 기판을 반송 아암에 지지시키며, 상기 반송 아암에 의해 이것을 반송하여 적재부에 적재한다. 그 후, 위치 검출용 기판의 정전 용량 센서에 의해 적재부의 목표물의 위치를 검출하여, 적재부에서의 위치 검출용 기판의 적재 위치를 검출한다. 그 후, 위치 검출용 기판의 적재 위치에 기초하여, 기판 반송 시의 반송 아암의 이동 위치를 조정한다.

公开(公告)号：KR101015192B1

公开(公告)日：2011-02-17

申请号：KR1020080098552

申请日：2008-10-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토토시유키 ,  미나미토모히데 ,  마하라코지 ,  도키유이치

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L21/68

Abstract: 정전 용량 센서를 갖는 위치 검출용 웨이퍼를 이용하여, 더욱 정확하고 안정되게 반송암의 반송처의 위치를 검출한다. 위치 검출용 웨이퍼(S)는, 반송암(20)이 반송 가능한 웨이퍼 형상으로 형성되고, 위치 검출을 위한 목표물과의 사이의 정전 용량을 검출하여 목표물과의 상대적인 위치를 검출하는 정전 용량 센서(50)를 갖고 있다. 정전 용량 센서(50)는 목표물과의 사이에서 정전 용량을 형성하는 검출 전극(52)을 갖고, 검출 전극(52)은 웨이퍼 형상의 본체의 이면측에 설치되어 있다. 본체에는, 표면측에서 보면 검출 전극(52)을 덮고, 표면측으로부터 검출 전극(52)으로 향하는 전계를 차단하는 가드 전극(100)이 형성되어 있다.

Abstract translation: 通过使用具有静电电容传感器的位置检测用晶片，能够更正确且稳定地检测传送臂的传送目的地的位置。 晶片位置检测（S），输送臂20被输送中的可能的晶片形状形成，其检测所述目标之间和用于位置检测的静电电容的静电电容传感器检测到所述目标的（相对位置50 ）拥有。 电容式传感器50具有检测电极52，以形成本身和所述目标之间的电容，检测电极52被安装在晶片状主体的背面侧。 身体，从覆盖检测电极52的前表面侧，保护电极100以阻止朝向从表面侧的检测电极52的电场而形成。

公开(公告)号：KR1020090046683A

公开(公告)日：2009-05-11

申请号：KR1020080098552

申请日：2008-10-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토토시유키 ,  미나미토모히데 ,  마하라코지 ,  도키유이치

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67259 ,  H01L21/68

Abstract: 정전 용량 센서를 갖는 위치 검출용 웨이퍼를 이용하여, 더욱 정확하고 안정되게 반송암의 반송처의 위치를 검출한다. 위치 검출용 웨이퍼(S)는, 반송암(20)이 반송 가능한 웨이퍼 형상으로 형성되고, 위치 검출을 위한 목표물과의 사이의 정전 용량을 검출하여 목표물과의 상대적인 위치를 검출하는 정전 용량 센서(50)를 갖고 있다. 정전 용량 센서(50)는 목표물과의 사이에서 정전 용량을 형성하는 검출 전극(52)을 갖고, 검출 전극(52)은 웨이퍼 형상의 본체의 이면측에 설치되어 있다. 본체에는, 표면측에서 보면 검출 전극(52)을 덮고, 표면측으로부터 검출 전극(52)으로 향하는 전계를 차단하는 가드 전극(100)이 형성되어 있다.