公开(公告)号：KR101970362B1

公开(公告)日：2019-04-18

申请号：KR1020120130575

申请日：2012-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 레인바톤 ,  첸리 ,  벤첵피터엘.지. ,  펑크메릿 ,  자오지안핑 ,  선다라라잔라다

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

公开(公告)号：KR1020130054216A

公开(公告)日：2013-05-24

申请号：KR1020120130575

申请日：2012-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 레인바톤 ,  첸리 ,  벤첵피터엘.지. ,  펑크메릿 ,  자오지안핑 ,  선다라라잔라다

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J1/00 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32174 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4652 ,  H05H2001/4675

Abstract: PURPOSE: A high-frequency power coupling system using multiple RF(Radio Frequency) power coupling elements for the control of plasma characteristics is provided to improve uniformity of RF energy. CONSTITUTION: An RF electrode(12) couples RF power to the plasma in a plasma processing system(10). Multiple power coupling elements(14,16a-16d) electrically couple RF power to multiple power coupling points on the RF electrode. The multiple power coupling elements include a central element(14) located at the center of the RF electrode and m number of surrounding elements(16a-16d), where m is an integer bigger than 1, located away from the center of the RF electrode. A first surrounding RF power signal is coupled to a first surrounding element(16a). A second surrounding RF power signal is coupled to a second surrounding element(16c). [Reference numerals] (18) RF power system; (24) Impedance load

Abstract translation: 目的：提供使用多个RF（射频）功率耦合元件来控制等离子体特性的高频功率耦合系统，以提高RF能量的均匀性。 构成：RF电极（12）在等离子体处理系统（10）中将RF功率耦合到等离子体。 多个功率耦合元件（14,16a-16d）将RF功率电耦合到RF电极上的多个功率耦合点。 多个功率耦合元件包括位于RF电极中心的中心元件（14）和m个周围元件（16a-16d），其中m是大于1的整数，远离RF电极的中心 。 第一周围RF功率信号耦合到第一周围元件（16a）。 第二周围RF功率信号耦合到第二周围元件（16c）。 （附图标记）（18）射频功率系统; （24）阻抗负载