公开(公告)号：KR101967490B1

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：KR1020137028485

申请日：2012-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 첸리 ,  레인바톤 ,  펑크메릿 ,  자오지안핑 ,  선다라라잔래드하

IPC: H01J49/04

公开(公告)号：KR1020160030061A

公开(公告)日：2016-03-16

申请号：KR1020150127119

申请日：2015-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 레인바톤

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32623 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32146 ,  H01J37/32174

Abstract: 송신라인을통해프로세스챔버에결합된무선주파수(RF) 전력시스템을갖는처리시스템이개시된다. RF 전력시스템은 RF 동작주파수에서 RF 전력을생성하도록구성된다. 처리시스템은또한, 모드들중 적어도하나와연관된적어도하나의공진주파수가 RF 동작주파수또는그 근방에있을때 적어도 2개의상이한공진모드에따라공진하도록구성된적어도하나의공진서브구조를포함하는플라즈마처리챔버내에배치된공진구조를포함한다.

Abstract translation: 公开了一种处理系统，其具有通过传输线与处理室结合的RF电力系统。 RF电力系统以RF操作频率产生RF功率。 处理系统还包括布置在等离子体处理室中的共振结构，其包括至少一个谐振子结构，当至少一个与模式中的至少一个相关的谐振频率为RF操作时，至少一个谐振子结构根据至少两个不同的谐振频率模式谐振 频率或类似于RF操作频率。

公开(公告)号：KR1020130054216A

公开(公告)日：2013-05-24

申请号：KR1020120130575

申请日：2012-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 레인바톤 ,  첸리 ,  벤첵피터엘.지. ,  펑크메릿 ,  자오지안핑 ,  선다라라잔라다

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J1/00 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32174 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4652 ,  H05H2001/4675

Abstract: PURPOSE: A high-frequency power coupling system using multiple RF(Radio Frequency) power coupling elements for the control of plasma characteristics is provided to improve uniformity of RF energy. CONSTITUTION: An RF electrode(12) couples RF power to the plasma in a plasma processing system(10). Multiple power coupling elements(14,16a-16d) electrically couple RF power to multiple power coupling points on the RF electrode. The multiple power coupling elements include a central element(14) located at the center of the RF electrode and m number of surrounding elements(16a-16d), where m is an integer bigger than 1, located away from the center of the RF electrode. A first surrounding RF power signal is coupled to a first surrounding element(16a). A second surrounding RF power signal is coupled to a second surrounding element(16c). [Reference numerals] (18) RF power system; (24) Impedance load

Abstract translation: 目的：提供使用多个RF（射频）功率耦合元件来控制等离子体特性的高频功率耦合系统，以提高RF能量的均匀性。 构成：RF电极（12）在等离子体处理系统（10）中将RF功率耦合到等离子体。 多个功率耦合元件（14,16a-16d）将RF功率电耦合到RF电极上的多个功率耦合点。 多个功率耦合元件包括位于RF电极中心的中心元件（14）和m个周围元件（16a-16d），其中m是大于1的整数，远离RF电极的中心 。 第一周围RF功率信号耦合到第一周围元件（16a）。 第二周围RF功率信号耦合到第二周围元件（16c）。 （附图标记）（18）射频功率系统; （24）阻抗负载

公开(公告)号：KR101779666B1

公开(公告)日：2017-09-18

申请号：KR1020150127119

申请日：2015-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 레인바톤

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32623 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32146 ,  H01J37/32174

Abstract: 송신라인을통해프로세스챔버에결합된무선주파수(RF) 전력시스템을갖는처리시스템이개시된다. RF 전력시스템은 RF 동작주파수에서 RF 전력을생성하도록구성된다. 처리시스템은또한, 모드들중 적어도하나와연관된적어도하나의공진주파수가 RF 동작주파수또는그 근방에있을때 적어도 2개의상이한공진모드에따라공진하도록구성된적어도하나의공진서브구조를포함하는플라즈마처리챔버내에배치된공진구조를포함한다.

公开(公告)号：KR101970362B1

公开(公告)日：2019-04-18

申请号：KR1020120130575

申请日：2012-11-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 레인바톤 ,  첸리 ,  벤첵피터엘.지. ,  펑크메릿 ,  자오지안핑 ,  선다라라잔라다

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

公开(公告)号：KR1020140030168A

公开(公告)日：2014-03-11

申请号：KR1020137028485

申请日：2012-03-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 첸리 ,  레인바톤 ,  펑크메릿 ,  자오지안핑 ,  선다라라잔래드하

IPC: H01J49/04

CPC classification number: H01J37/32935 ,  H01J49/488 ,  H05H1/0081 ,  Y10T29/49002

Abstract: 플라즈마의 이온 에너지 분포를 결정하는 이온 에너지 분석기(74, 122, 174)는 입구 그리드(80, 126, 160), 선택 그리드(82, 134, 134') 및 이온 컬렉터(84, 136, 136')를 구비한다. 입구 그리드(80, 126, 160)는, 플라즈마(66)의 드바이 길이보다 작은 치수의 복수의 제1 개구를 구비한다. 이온 컬렉터(84, 136, 136')는 제1 전압 소스(182)를 매개로 입구 그리드(80, 126, 160)에 결합된다. 선택 그리드(82, 134, 134')는 입구 그리드(80, 126, 160)와 이온 컬렉터(84, 136, 136') 사이에 위치 결정되고, 제2 전압 소스(180)를 매개로 입구 그리드(80, 126, 160)에 결합되어 있다. 이온 전류 미터(106)가 이온 컬렉터(84, 136, 136')에 결합되어 이온 컬렉터(84, 136, 136')에 대한 이온 플럭스를 측정하고 그에 관련한 신호를 전달한다.