감압 처리 장치에 있어서의 배출 가스 방폭 방법
    2.
    发明公开
    감압 처리 장치에 있어서의 배출 가스 방폭 방법 审中-实审
    防止排气处理装置中的排气爆炸的方法

    公开(公告)号:KR1020150131961A

    公开(公告)日:2015-11-25

    申请号:KR1020150060349

    申请日:2015-04-29

    Abstract: 본발명은, 섞이면폭발가능성이있는특정가연성가스(CH, CHF, CHF)와할로겐계의지연성가스의조합에대해서, 감압처리장치의진공펌프의출구측에서배출가스의폭발을미연에방지하기위해이용하는희석용불활성가스의사용효율을최적화하는것을목적으로한다. 이플라즈마처리장치에있어서, 주제어부(42)는, 배출가스처리부(40)에있어서의배출가스처리의상황을희석컨트롤러(45)를통해관리할수 있다. 배출가스처리부(40)는, 진공펌프(36)의출구에배기관(46)을통해접속되는제해장치(48)와, 진공펌프(36)의출구부근에서배기관(46)에희석가스공급배관(50)을통해접속되는희석가스원(52)과, 희석가스공급배관(50)의중간에설치되는 MFC(54) 및개폐밸브(55)와, 희석가스공급배관(50)의종단(노드 N)보다도하류측에서배기관(46)에부착되는가스센서(56)와, MFC(54)를제어하는희석컨트롤러(45)로구성되어있다.

    Abstract translation: 本发明的目的是优化用于稀释的惰性气体的使用效率,其能够防止在减压处理装置的真空泵的出口处的废气的爆炸。 气体是具有爆炸概率的阻燃气体和特定可燃气体(CH_4,CH_3F,CH_2F_2)的组合。 等离子体处理装置包括通过稀释控制器(45)管理废气处理部(40)的废气处理状况的主控制部(42)。 排气处理部(40)包括通过排气管(46)与真空泵(36)的出口连接的预处理装置(48)。 通过所述真空泵(36)的出口周围的稀释气体供给管(50)与所述排气管(46)连接的稀释气体源(52)。 MFC(54)和开启阀(55),安装在稀释气体供给管(50)的中间部分; 在所述稀释气体供给管的端部(节点N)的下方,安装在所述排气管(46)的气体传感器(56) 和稀释控制器(45)控制MFC(54)。

    가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법
    3.
    发明公开
    가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법 有权
    气体供应装置和气体分配供应方法

    公开(公告)号:KR1020150026920A

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:KR1020140112466

    申请日:2014-08-27

    Abstract: (과제) 압력식 유량 제어장치로부터의 가스 흐름을 복수의 분류로를 통해서 분류 공급하는 가스 분류 공급장치에 있어서, 가스 도입시의 분류로에 있어서의 가스의 오버슈트의 발생을 방지함과 아울러 분류량 제어의 응답성과 안정성과 제어 정밀도를 높인다.
    (과제 해결수단) 가스 공급원으로부터의 가스의 유량 제어장치와, 유량 제어장치로부터의 가스를 가스 사용 개소로 분류하는 병렬로 접속된 복수의 분류로(L
    1 ∼L
    n )와, 각 분류로(L
    1 ∼L
    n )에 설치한 열식 유량센서와, 열식 유량센서(29a∼29n)의 하류측에 설치한 전동밸브(28a∼28n)와, 각 전동밸브(28a∼28n)의 개폐를 제어하는 컨트롤러(16a∼16n)와, 외부로부터 유량비 지령값이 입력됨과 아울러 각 열식 유량센서(29a∼29n)의 유량으로부터 총 유량을 연산하고, 상기 연산한 총 유량과 상기 유량비 지령값으로부터 각 분류로(L
    1 ∼L
    n )의 유량값을 연산해서 각 컨트롤러(16a∼16n)에 상기 연산 유량값을 설정 유량으로서 입력하는 유량비 설정 연산기(RSC)를 구비하고, 우선, 상기 유량비 설정 연산기(RSC)로부터 입력된 설정 유량값이 최대가 되는 어느 하나의 분류로 (L
    1 ∼L
    n )를 비제어 상태로 해서 그 개방도를 일정값으로 유지함과 아울러 그 밖의 분류로의 개방도를 설정 개방도로 제어하고, 그 후에 각 컨트롤러(16a∼16n)에 의해 각 분류로(L
    1 ∼L
    n )의 분류량을 피드백 제어한다.

    Abstract translation: (问题)中,通过多个分散路径分散并供给来自压力式流量控制装置的气体流的气体分散供给装置,能够防止产生气体,并且能够抑制气体的响应特性,稳定性,控制精度 当输入气体时,色散量控制在色散路径上得到改善。 (溶液)本发明包括来自气体供给源的气体的流量控制装置,并联连接的多个分散路径(L1-Ln),以将来自流量控制装置的气体分散到气体使用场所, 安装在每个分散路径(L1-Ln)处的热流量传感器,安装在热流量传感器(29a-29n)的下侧的电动阀(28a-28n),控制器(16a-16n) 控制每个电动阀的打开和关闭,以及流量设定操作单元(RSC)。

    클리닝 방법 및 처리 장치

    公开(公告)号:KR102228484B1

    公开(公告)日:2021-03-15

    申请号:KR1020140077913

    申请日:2014-06-25

    Abstract: 본발명은, 분류제어가가능한가스공급기구를이용하여효과적으로처리장치를클리닝하는것을목적으로한다. 가스공급기구를가지며, 처리장치를클리닝하는클리닝방법으로서, 상기가스공급기구는, 분류제어부와, 상기분류제어부의상류측에연통하는제1 유로와, 상기제1 유로에설치된제1 밸브와, 상기분류제어부의하류측에연통하는제2 유로와, 상기제2 유로에설치된제2 밸브와, 상기제1 유로와상기제2 유로를접속하는우회유로와, 상기제2 유로에접속되고, 상기우회유로에설치된바이패스밸브를가지며, 상기제1 밸브와상기제2 밸브를폐쇄하고, 상기바이패스밸브를개방하는바이패스개방공정과, 상기바이패스개방공정후, 상기우회유로로부터상기처리장치에가스를도입하고, 그처리장치를클리닝하는클리닝공정을포함하는것을특징으로하는클리닝방법이제공된다.

    플라즈마 처리 장치
    6.
    发明公开
    플라즈마 처리 장치 审中-实审
    等离子体加工设备

    公开(公告)号:KR1020150087120A

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:KR1020150008665

    申请日:2015-01-19

    Abstract: 복수의가스공급관의각각으로부터처리용기내로공급되는처리가스의전환을고속또한균일하게행하는것이다. 플라즈마처리장치는, 피처리기판에플라즈마처리를실시하기위한처리용기와, 전환가능한제 1 및제 2 가스공급관에각각연통되고, 제 1 및제 2 가스공급관으로부터각각공급되는, 플라즈마처리에이용되는제 1 및제 2 처리가스를처리용기내로개별로유도하는제 1 및제 2 가스도입홀로서, 서로인접한상태로교호로배치된제 1 및제 2 가스도입홀을가지는가스도입부재를구비했다.

    Abstract translation: 本发明的目的是从多个气体供给管中的每一个快速或均匀地切换供给处理容器的处理气体。 一种等离子体处理装置,包括:处理容器,对经处理的基板进行等离子体处理; 以及气体导入构件,其包括彼此相邻地交替布置的第一和第二气体引入孔。 此外,第一和第二气体导入孔与第一和第二气体供给管连接,分别切换,分别诱导用于等离子体处理并分别从第一和第二气体供给管供给的第一和第二处理气体, 处理容器。

    가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법
    7.
    发明授权
    가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법 有权
    气体供应装置和气体分配供应方法

    公开(公告)号:KR101690583B1

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:KR1020140112466

    申请日:2014-08-27

    Abstract: (과제) 압력식유량제어장치로부터의가스흐름을복수의분류로를통해서분류공급하는가스분류공급장치에있어서, 가스도입시의분류로에있어서의가스의오버슈트의발생을방지함과아울러분류량제어의응답성과안정성과제어정밀도를높인다. (과제해결수단) 가스공급원으로부터의가스의유량제어장치와, 유량제어장치로부터의가스를가스사용개소로분류하는병렬로접속된복수의분류로(L∼L)와, 각분류로(L∼L)에설치한열식유량센서와, 열식유량센서(29a∼29n)의하류측에설치한전동밸브(28a∼28n)와, 각전동밸브(28a∼28n)의개폐를제어하는컨트롤러(16a∼16n)와, 외부로부터유량비지령값이입력됨과아울러각 열식유량센서(29a∼29n)의유량으로부터총 유량을연산하고, 상기연산한총 유량과상기유량비지령값으로부터각 분류로(L∼L)의유량값을연산해서각 컨트롤러(16a∼16n)에상기연산유량값을설정유량으로서입력하는유량비설정연산기(RSC)를구비하고, 우선, 상기유량비설정연산기(RSC)로부터입력된설정유량값이최대가되는어느하나의분류로(L∼L)를비제어상태로해서그 개방도를일정값으로유지함과아울러그 밖의분류로의개방도를설정개방도로제어하고, 그후에각 컨트롤러(16a∼16n)에의해각 분류로(L∼L)의분류량을피드백제어한다.

    Abstract translation: 一种用于分配和供应气体的装置设置有流量控制装置,从流量控制装置流动的多条分流流路,设置在分流流路上的热型质量流量传感器,设置有电动阀的电动阀 在热型质量流量传感器的下游侧,控制电动阀的控制器和计算总流量的流量比设定计算器,然后计算分流流路的流量,然后输入计算出的 流量设定为每个控制器的流量。 一个具有最高设定流量的分流通道处于不受控状态,并且对每个其余分流通道的开度进行控制,然后分流流路的分流流量的反馈控制为 由每个控制器实现。

    가스 공급 제어 방법
    8.
    发明公开
    가스 공급 제어 방법 审中-实审
    气体供应控制方法

    公开(公告)号:KR1020160120660A

    公开(公告)日:2016-10-18

    申请号:KR1020160038419

    申请日:2016-03-30

    Abstract: 챔버내에신속하게원하는유량의가스를공급한다. 압력제어식유량계와, 압력제어식유량계의상류측의제 1 밸브와, 하류측의제 2 밸브를이용한가스공급제어방법으로서, 압력제어식유량계는, 제 1및제 2 밸브에접속되는컨트롤밸브와, 컨트롤밸브와제 2 밸브사이에마련되는오리피스를가지고, 오리피스및 컨트롤밸브간의가스공급관의용적(V)과오리피스및 제 2 밸브간의가스공급관의용적(V)은 V/ V≥ 9이며, 오리피스및 컨트롤밸브간의가스공급관의압력(P)과오리피스및 제 2 밸브간의가스공급관의압력(P)은, 가스를공급하는동안 P> 2 × P로유지되고, 제 1 밸브를열고, 컨트롤밸브를제어한상태에서제 2 밸브의개폐제어에의해가스의공급을제어하는가스공급제어방법이제공된다.

    Abstract translation: 气体供给控制方法使用压力控制用流量计和分别设置在气体供给管路中的压力控制用流量计的上游和下游的第一阀和第二阀。 压力控制流量计包括控制阀和孔。 气体供给控制方法包括:保持孔和控制阀之间的第一气体供给管的压力P1和孔与第二阀之间的第二气体供给管的压力P2,以满足P1> 2×P2。 通过控制第一阀打开并控制控制阀来控制第二阀的打开和关闭来控制气体供应。 第一气体供给管的体积V1和第二气体供给管的体积V2具有V1 /V2≥9的关系。

    클리닝 방법 및 처리 장치
    9.
    发明公开
    클리닝 방법 및 처리 장치 审中-实审
    清洁方法和处理装置

    公开(公告)号:KR1020150002496A

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:KR1020140077913

    申请日:2014-06-25

    Abstract: 본 발명은, 분류 제어가 가능한 가스 공급 기구를 이용하여 효과적으로 처리 장치를 클리닝하는 것을 목적으로 한다.
    가스 공급 기구를 가지며, 처리 장치를 클리닝하는 클리닝 방법으로서, 상기 가스 공급 기구는, 분류 제어부와, 상기 분류 제어부의 상류측에 연통하는 제1 유로와, 상기 제1 유로에 설치된 제1 밸브와, 상기 분류 제어부의 하류측에 연통하는 제2 유로와, 상기 제2 유로에 설치된 제2 밸브와, 상기 제1 유로와 상기 제2 유로를 접속하는 우회 유로와, 상기 제2 유로에 접속되고, 상기 우회 유로에 설치된 바이패스 밸브를 가지며, 상기 제1 밸브와 상기 제2 밸브를 폐쇄하고, 상기 바이패스 밸브를 개방하는 바이패스 개방 공정과, 상기 바이패스 개방 공정 후, 상기 우회 유로로부터 상기 처리 장치에 가스를 도입하고, 그 처리 장치를 클리닝하는 클리닝 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 클리닝 방법이 제공된다.

    Abstract translation: 本发明的目的是有效地清洁使用可单独控制的气体供给工具的处理装置。 提供一种使用气体供给工具清洁处理装置的方法。 气体供给工具包括流量分配器,与分流器的上游端连通的第一流路,设置在第一流路中的第一阀,与流量分配器的下游端连通的第二流路, 处理室,设置在第二流路中的第二阀,将第一流路和第二流路相互连接的旁通流路,以及设置在旁通流路中的旁通阀。 该方法包括关闭第一阀和第二阀并打开旁通阀的步骤,以及在打开旁通阀之后通过旁路流路将气体引入处理装置中来清洁处理装置的步骤。

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